【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： _t>[gB,  

tz9"#=}0   01 OpticStudio 软件功能介绍; a"D'QqtH   02 材料库、镜头库介绍； ?|Ey WAL   03 如何定义新材料； )lU9\"?o   04 如何使用镜头库； #A&49a3^1   05 像差理论介绍； s+E: 7T9P   06 Zemax 里像差分析图谱； g&rz*) |/   07 优化; DMA`Jx   08 局部优化 0"{-<Wot}   09 全局优化； & zv!cf   10 锤形优化； )|6OPR@(#/   11 优化函数架构技巧； <+Gf!0i   12 单透镜优化实例 P9)L1l<3I   13 双胶合优化实例； `R*SHy! _   14 热分析及衍射光学元件的使用; ,AH2/^:%c   15 实例设计及分析； "?^#+@LV   16 MTF 2(f-0or(   17 双高斯镜头设计及优化；  I)MRAo   18 像质评价与图像模拟； c8Nl$|B   19 坐标变换； ]wwNmmE   20 坐标断点面的使用技巧 ]app9   21 序列模式棱镜建模； "u)e,gu   B'I_i$g4w   22 扫描反射镜设计实例；

_ glB<r$   23 柯勒照明综合设计实例； LkWY6 ?$U   24 投影系统设计 ~gaWZQXyu   25 集光系统设计； s Fx0   |rI;OvZ\   26 暗盒系统介绍； OAaLCpRp   27 分析工具应用； Sx1|Oq]   28 寻找最佳非球面 1DlXsup&?#   29 曲率套样板； Z23T 2   V\AY=u   30 镜头匹配工具； (+SL1O P   31 Zemax 公差分析功能介绍; kN6jX   32 加工误差、装配误差； 4K ]*bF44   33 灵敏度分析; ]cM8TT   34 反灵敏度分析; v'm-A d+4t   35 蒙特卡罗分析; OC)=KV@KE   DOOF--ua   36 公差评价标准； j`#H%2W\;   37 公差操作数； ]Upr<!   38 补偿变量的使用； 5uV_Pkb?8   39 单透镜公差分析； w3#0kl   -qBdcbi|x)   40 库克镜头公差分析； 5"ooam3   41 分析报告查看说明； RKZBI?@4   42 公差脚本的使用； 1je/l9L   43 镜头出图、CAD 出图； ZYt1V"2VJ   44 小结及答疑。

课程信息： $)$_}^.k  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 4 !m'9  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) _
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报名方式：扫码报名 Q.fUpa v  
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