【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： %9-#`  

}JpslY*aS   01 OpticStudio 软件功能介绍; OCOO02Wq1   02 材料库、镜头库介绍； L9unhx   03 如何定义新材料； `S/1U87   04 如何使用镜头库； 1A/c/iC   05 像差理论介绍； Pguyf2/w   06 Zemax 里像差分析图谱； XB!`*vZ/<   07 优化; ubN"(F:!-S   08 局部优化 eI=Y~jy   09 全局优化； [nPzhXs   10 锤形优化； +'&_V011<   11 优化函数架构技巧； T>uWf#&pjs   12 单透镜优化实例 fFTvf0j   13 双胶合优化实例； sh))[V"8   14 热分析及衍射光学元件的使用; @#ho(_ U8   15 实例设计及分析； zhvk%Y:   16 MTF e=F( Zf+1^   17 双高斯镜头设计及优化； J:-TINeB   18 像质评价与图像模拟； Q3'B$,3O^   19 坐标变换； _]~ht H   20 坐标断点面的使用技巧 { d2f)ra.   21 序列模式棱镜建模； !K^Z5A_;   WJh;p: q[   22 扫描反射镜设计实例；

<sWcS; x   23 柯勒照明综合设计实例； f w>Gx9   24 投影系统设计 M?4r5R   25 集光系统设计； ao";5m   ]R0A{+]n   26 暗盒系统介绍； [TfV2j* e   27 分析工具应用； |`t!aG8   28 寻找最佳非球面 7Ae,|k   29 曲率套样板； uA/.4 b   I#hg(7|",   30 镜头匹配工具； (h>X:!   31 Zemax 公差分析功能介绍; :mtw}H 'F8   32 加工误差、装配误差； % x*Ec[l   33 灵敏度分析; Gv+ Tg/   34 反灵敏度分析; vyx\N{   35 蒙特卡罗分析; 53+rpU_   DGfQo5#   36 公差评价标准； qpwh #^2   37 公差操作数； acju!,G   38 补偿变量的使用； !%\To(r[   39 单透镜公差分析； Q3O .<9S   =5=Vm[   40 库克镜头公差分析； `0G.Y   41 分析报告查看说明； s$\8)V52   42 公差脚本的使用； UV8r&O   43 镜头出图、CAD 出图； k| cI!    44 小结及答疑。

课程信息： .fh?=B[o#  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 ut5!2t$c  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) W*DIW;8p  
报名方式：扫码报名 ~md|k  
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