【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： cph:y  

)m. 4i=X   01 OpticStudio 软件功能介绍; 13Lr}M&   02 材料库、镜头库介绍； {5  sO   03 如何定义新材料； iQ"XLrpl   04 如何使用镜头库； Vx-7\NB   05 像差理论介绍； A`R{m0A   06 Zemax 里像差分析图谱； ]kboG%Dl?9   07 优化; }}<z/zN&^   08 局部优化 --DoB=5%8   09 全局优化； ^b %0B   10 锤形优化； !^ _"~   11 优化函数架构技巧； i7ly[6{^pr   12 单透镜优化实例 ~zw]5|   13 双胶合优化实例； A%^ILyU6c   14 热分析及衍射光学元件的使用; {^N[("`   15 实例设计及分析； )RcL/n   16 MTF &ot/nQQ   17 双高斯镜头设计及优化； LCQE_}Mh   18 像质评价与图像模拟； 3'X.}>o   19 坐标变换； W|o'&   20 坐标断点面的使用技巧 \J6j38D5   21 序列模式棱镜建模； )(@Hd   M %Qt|@O   22 扫描反射镜设计实例；

gmm.{%1_I;   23 柯勒照明综合设计实例； y a_<^O 9   24 投影系统设计 .rf" (lM   25 集光系统设计； Ox-|JJ=   > %KuNy{   26 暗盒系统介绍； !Ta>U^7   27 分析工具应用； !*OJ.W&   28 寻找最佳非球面 C$5[X7'   29 曲率套样板； oqeSG.1   =yy5D$\   30 镜头匹配工具； \W`w` o   31 Zemax 公差分析功能介绍; M8TSt\   32 加工误差、装配误差； |ely|U. Tf   33 灵敏度分析; =J~ x   34 反灵敏度分析; ^k\e8F/   35 蒙特卡罗分析; jkvg oxY   3@]SKfoo1   36 公差评价标准； ;{[.Zu   37 公差操作数； p*P )KP   38 补偿变量的使用； k%G1i-]4   39 单透镜公差分析； Ggb5K8D*   "V}[':fen   40 库克镜头公差分析； 71{p+3Z&   41 分析报告查看说明； M^]cM(swK5   42 公差脚本的使用； *H|M;G   43 镜头出图、CAD 出图； T|TO}_x   44 小结及答疑。

课程信息： PV=5UyjW  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 T'b_W,m~,u  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) \~_9G{2?  
报名方式：扫码报名 mtj
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