【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： 05UN <l]  

r]B8\5|<d   01 OpticStudio 软件功能介绍; D9rQ%|}S   02 材料库、镜头库介绍； 3?OQ-7,   03 如何定义新材料； (d9~z   04 如何使用镜头库； 5LeZ?'"c   05 像差理论介绍； q'3{M]Tk   06 Zemax 里像差分析图谱； lu utyK!   07 优化; ''17(%   08 局部优化 }F08o,`?   09 全局优化； 7iB!Uuc   10 锤形优化； ?hoOSur+   11 优化函数架构技巧； [8V;Q   12 单透镜优化实例 Cq5.gkS<   13 双胶合优化实例； h>Kx   14 热分析及衍射光学元件的使用; \Ne`9k   15 实例设计及分析； `sjY#U a<   16 MTF #G9 W65f   17 双高斯镜头设计及优化； 1]xk:u4LA   18 像质评价与图像模拟； 5eAZfe%H   19 坐标变换； .)E#*kLWR   20 坐标断点面的使用技巧 IsXNAYj   21 序列模式棱镜建模； U~G7~L &m   u=`H n-(   22 扫描反射镜设计实例；

X$};K\I   23 柯勒照明综合设计实例；  5"%.8P   24 投影系统设计 d3%qYL_+a   25 集光系统设计； %-hSa~20   {X,%GI   26 暗盒系统介绍； 8t+eu O   27 分析工具应用； . :_'l)-   28 寻找最佳非球面 pyEQb#   29 曲率套样板； EEe$A?a;   %0\@\fC41   30 镜头匹配工具； Bc>j5^)8w   31 Zemax 公差分析功能介绍; Y;w|Fvjj+   32 加工误差、装配误差； kUBE+a6#   33 灵敏度分析; l5z//E}W   34 反灵敏度分析; tFU4%c7V   35 蒙特卡罗分析; EKc<|e,F   +.cpZqWn3   36 公差评价标准； :8S;34Y;   37 公差操作数； :>-zT[Lcn   38 补偿变量的使用； UiU/p   39 单透镜公差分析； vNi;)"&*   q@.>eB'92P   40 库克镜头公差分析； >Eh U{@Y   41 分析报告查看说明； s,R:D).   42 公差脚本的使用； u%-]-:c   43 镜头出图、CAD 出图； Q0A4}   44 小结及答疑。

课程信息： jUT`V ZK4&  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 0kJ8H!~u  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) ._+cvXy  
报名方式：扫码报名 DJGafX^  
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