【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： Tsdgg?#  

{"|la;*I   01 OpticStudio 软件功能介绍; &<- S-e   02 材料库、镜头库介绍； -U|Z9sia   03 如何定义新材料； 5+qdn|9%T   04 如何使用镜头库； $dsLU5]1o   05 像差理论介绍； 00yWk_w   06 Zemax 里像差分析图谱； Qve5qJ   07 优化; 2dDhO   08 局部优化 D/ wJF [_   09 全局优化； b&RsxW7   10 锤形优化； 02-% B~oP   11 优化函数架构技巧； vTC{   12 单透镜优化实例 k+hl6$:Qj%   13 双胶合优化实例； }-Jo9dNs   14 热分析及衍射光学元件的使用; i\x@s>@x}   15 实例设计及分析； BQB<+o'   16 MTF ;(Az    17 双高斯镜头设计及优化； Ydyz-   18 像质评价与图像模拟； \$gA2r   19 坐标变换； Q m_;o(   20 坐标断点面的使用技巧 .fS{j$   21 序列模式棱镜建模； PO,zP9   {e0(M*u   22 扫描反射镜设计实例；

$Z8riVJ7j-   23 柯勒照明综合设计实例； J'yCVb)V   24 投影系统设计 F6"s&3D{   25 集光系统设计； g u&W:FY   aq#F   26 暗盒系统介绍； #+$PD`j   27 分析工具应用； 3EE_"}H>   28 寻找最佳非球面 imB/P M   29 曲率套样板； DQ c pIV   ant2];0p   30 镜头匹配工具； }'Ph^ %ox   31 Zemax 公差分析功能介绍; }rF4M1+B\   32 加工误差、装配误差； $9u:Ox 2   33 灵敏度分析; -z%->OUu   34 反灵敏度分析; *w/N>:V0p   35 蒙特卡罗分析; 3_]QtP3   XD80]@\za   36 公差评价标准； hf;S#.k   37 公差操作数； sejT] rJ   38 补偿变量的使用； kYR^   39 单透镜公差分析； N,:G5Wx W   nswhYSX   40 库克镜头公差分析； 8<@X=Z   41 分析报告查看说明； C'S_M@I=   42 公差脚本的使用； ;Zn&Nc7   43 镜头出图、CAD 出图； EYi{~   44 小结及答疑。

课程信息： Mhc5<~?  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 ,uO_C(G/i  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) c5pK%I}O  
报名方式：扫码报名 H}(WL+7  
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