【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： ->6/L)  

tq}sXt   01 OpticStudio 软件功能介绍; )I 4d_]&   02 材料库、镜头库介绍； @}!1Uk3ud   03 如何定义新材料； %lbSV}V)   04 如何使用镜头库； wg^#S   05 像差理论介绍； ;{ XKZ}   06 Zemax 里像差分析图谱； T2Z;)e$m_   07 优化; i]Lt8DiRq   08 局部优化 VxLq,$B76   09 全局优化； l?NRQTG   10 锤形优化； _Z.lr\   11 优化函数架构技巧； b(_PCVC   12 单透镜优化实例 bWt>tEnf   13 双胶合优化实例； l]W Vgu   14 热分析及衍射光学元件的使用; SOE#@{IXBa   15 实例设计及分析； \o?zL7   16 MTF IQMk :   17 双高斯镜头设计及优化； ,]i ^/fT   18 像质评价与图像模拟； xYc)iH 6&   19 坐标变换； w}G2m)(   20 坐标断点面的使用技巧 2JYp.CJv   21 序列模式棱镜建模； %Xh/16X${   _Hl[Fit<j1   22 扫描反射镜设计实例；

`i8osX[&p   23 柯勒照明综合设计实例； .S`Ue,H   24 投影系统设计 x|_%R v   25 集光系统设计； X |.'_6l.   1HskY| X   26 暗盒系统介绍； (;$J5   27 分析工具应用； }.3F|H   28 寻找最佳非球面 |0U"#xkf   29 曲率套样板； eQx9Vn b   "L1cHP~d   30 镜头匹配工具； `mQY%p|   31 Zemax 公差分析功能介绍; Vpt)?];P   32 加工误差、装配误差； Z 7t0=U   33 灵敏度分析; $R2T)   34 反灵敏度分析; 3uwu}aw   35 蒙特卡罗分析; miCt)Qd   WiH%URFB   36 公差评价标准； -TU7GCb=   37 公差操作数； C (vi ns   38 补偿变量的使用； 0L$v7 , 5   39 单透镜公差分析； 9<k<Hmk D   [3nhf<O   40 库克镜头公差分析； _J6|ju\   41 分析报告查看说明； o*:VG\#Z6   42 公差脚本的使用； =5b5d   43 镜头出图、CAD 出图； a^'1o9   44 小结及答疑。

课程信息： x1Q}B   
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 i6-q%%]6  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) GfUIF]X  
报名方式：扫码报名 :4}?%3&;  
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