【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： EM]s/LD@%  

VK}fsOnj0   01 OpticStudio 软件功能介绍; |B.0TdF   02 材料库、镜头库介绍； t/ +=|*   03 如何定义新材料； HKF H/eV   04 如何使用镜头库； '=[?~0(B   05 像差理论介绍； M54j@_81pX   06 Zemax 里像差分析图谱； U2{ dN>   07 优化; .9R [*<   08 局部优化 S7=Bd[4   09 全局优化； i\1TOP|h   10 锤形优化； ~}F{vm   11 优化函数架构技巧； dOqOw M.y   12 单透镜优化实例 X'%E\/~u   13 双胶合优化实例； zfI>qJ+Nqt   14 热分析及衍射光学元件的使用; eyefWn&   15 实例设计及分析； ki[UV zd   16 MTF ="x\`+U   17 双高斯镜头设计及优化； J%x 6   18 像质评价与图像模拟； @b"t]#V(E   19 坐标变换； 6;C3RU]   20 坐标断点面的使用技巧 Ne #WI'   21 序列模式棱镜建模； FQT~pfY   /<E5"Mm%   22 扫描反射镜设计实例；

9[1`jtm   23 柯勒照明综合设计实例； SeHagKA   24 投影系统设计 yMyE s8   25 集光系统设计； f&}k^>N#3   KiI!frm1   26 暗盒系统介绍；  MxWy*|J}   27 分析工具应用； Nndddk`   28 寻找最佳非球面 @.G[s)x   29 曲率套样板； ! vP[;6   GN -mrQo   30 镜头匹配工具； x\F,SEj   31 Zemax 公差分析功能介绍; VS9`{   32 加工误差、装配误差； 5nv<^>[J   33 灵敏度分析; >2~+.WePu   34 反灵敏度分析; " Om[~-31   35 蒙特卡罗分析; hJwC~HG5   %FXfqF9   36 公差评价标准； NLS %Sq   37 公差操作数； B+[A]dgS   38 补偿变量的使用； \zieyE   39 单透镜公差分析； CLeG<Hi ~   @kk4]:,w   40 库克镜头公差分析； /J04^6   41 分析报告查看说明； dYSr4pb   42 公差脚本的使用； Ynp{u`?   43 镜头出图、CAD 出图； 9;Itqe{8w   44 小结及答疑。

课程信息： +|bmT  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 bA\<.d  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) ?"zY"*>4  
报名方式：扫码报名 t<~$  
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