【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： 3
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+a|Q)Ob   01 OpticStudio 软件功能介绍; kqj)&0|X   02 材料库、镜头库介绍； dL'oKh,   03 如何定义新材料； BgUp~zdo   04 如何使用镜头库； ^M q@} 0   05 像差理论介绍； /ILd|j(e   06 Zemax 里像差分析图谱； *P7/ry^<F   07 优化; !1i-"rR   08 局部优化 }i^|.VZZ   09 全局优化； +"BJjxG   10 锤形优化； ,<#Rk'y$   11 优化函数架构技巧； i.Y2]1   12 单透镜优化实例 uo2k   13 双胶合优化实例； ilJ`_QN   14 热分析及衍射光学元件的使用; n YUFRV$   15 实例设计及分析； ~@l4T_,k   16 MTF V,Nu!$)J   17 双高斯镜头设计及优化； %]0?vw:;j   18 像质评价与图像模拟； ;UpJ_y)n8\   19 坐标变换； ^W:a7cMw   20 坐标断点面的使用技巧 c?_7e9}2   21 序列模式棱镜建模； f"j9C%'*   0?/gEr   22 扫描反射镜设计实例；

^JMG'@x   23 柯勒照明综合设计实例； ]N'%l]_$   24 投影系统设计 ~BuBma_   25 集光系统设计； V~/-e- 9u   OOXSJE1   26 暗盒系统介绍； w5PscEc   27 分析工具应用； 5m0lk|`   28 寻找最佳非球面 =gR/ t@Ld   29 曲率套样板； cf,6";8   &Lt$~}*&6   30 镜头匹配工具； PcT]   31 Zemax 公差分析功能介绍; \ZV>5N3hS   32 加工误差、装配误差； @SxZ>|r-|v   33 灵敏度分析; =gJ{75tV3   34 反灵敏度分析; 62'9lriQ   35 蒙特卡罗分析; 8M,o)oH   WLj]EsA.   36 公差评价标准； X=m^+%iD   37 公差操作数； sPW:[   38 补偿变量的使用； :P2!& W   39 单透镜公差分析； !xR9I0V5   `|AH3v1   40 库克镜头公差分析； N]/cBGy   41 分析报告查看说明； rL"]m_FK   42 公差脚本的使用； ^ /G ;   43 镜头出图、CAD 出图； ^8,prxaok   44 小结及答疑。

课程信息： DDGDj)=`  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 08^f|K  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) vI(LIfe;  
报名方式：扫码报名 :nb|WgEc  
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