【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： ?*u*de[,  

%j+xgX/&   01 OpticStudio 软件功能介绍; }]6f+   02 材料库、镜头库介绍； XP 3xJm3   03 如何定义新材料； "G?Yrh   04 如何使用镜头库； M 2q"dz   05 像差理论介绍； v }\,o%t^   06 Zemax 里像差分析图谱； }}r> K}   07 优化; |E3X   08 局部优化 X+82[Y,mB.   09 全局优化； k)7{Y9_No   10 锤形优化； 09h.1/   11 优化函数架构技巧； W?Ww2Lo%Y   12 单透镜优化实例 =,V|OfW   13 双胶合优化实例； s?C&s|'.   14 热分析及衍射光学元件的使用; e0HfP v_   15 实例设计及分析； 9`B$V##-L   16 MTF p $`92Be/   17 双高斯镜头设计及优化； %)(Cp-b!   18 像质评价与图像模拟； & E}mX]t   19 坐标变换； ZH 6\><My   20 坐标断点面的使用技巧 +.yT/y"   21 序列模式棱镜建模； vbG]mMJ   )>a B   22 扫描反射镜设计实例；

nH-V{= **   23 柯勒照明综合设计实例； vVxD!EL   24 投影系统设计 |`/TBQz:r   25 集光系统设计； [wnDHy6W   qxOi>v0\H   26 暗盒系统介绍； }6u2*(TmD   27 分析工具应用； bBc-^   28 寻找最佳非球面 j2 %^qL   29 曲率套样板； <wd]D@l7r   ~+6Vdxm   30 镜头匹配工具； )Kd%\PP   31 Zemax 公差分析功能介绍; 6<7 6H   32 加工误差、装配误差； *m+BuGt|   33 灵敏度分析; =/0=$\Ws   34 反灵敏度分析; 7:E!b=o#   35 蒙特卡罗分析; G&f8n   pv)`% <   36 公差评价标准； ~FU@wV^   37 公差操作数； 9ooY?J   38 补偿变量的使用； dtt~ Bd   39 单透镜公差分析； R:aa+MX(1   muON>^MbC   40 库克镜头公差分析； RW'nUL?_\   41 分析报告查看说明； }f}}A=   42 公差脚本的使用； PJ4(}a   43 镜头出图、CAD 出图； xg@NQI@7    44 小结及答疑。

课程信息： *iA4:EIP  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 c]k*}W3T  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) ne}+E  
报名方式：扫码报名 #dxgB:l)%l  
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