【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： ,>g(%
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mj9|q8v{+   01 OpticStudio 软件功能介绍; M|y!,/'   02 材料库、镜头库介绍； =5:vKL j   03 如何定义新材料； 2!f'l'}   04 如何使用镜头库； 6 y"r'   05 像差理论介绍； E.'6p \   06 Zemax 里像差分析图谱； yyPj!<.MGP   07 优化; <)cmI .J3   08 局部优化 &xj40IZ   09 全局优化； xR'd}>`   10 锤形优化； a"+VP>4   11 优化函数架构技巧； qq^[(n   12 单透镜优化实例 WnQ'I=E#~   13 双胶合优化实例； : Q,O:   14 热分析及衍射光学元件的使用; @8YuMD;   15 实例设计及分析； u`L*   16 MTF L7II>^"B   17 双高斯镜头设计及优化； I%?M9y.u6   18 像质评价与图像模拟； ^')4R U   19 坐标变换； 4/o9K*M+   20 坐标断点面的使用技巧 v@X[0J_8   21 序列模式棱镜建模； Z\-Gr 2k   #.j:P#   22 扫描反射镜设计实例；

$~EY:   23 柯勒照明综合设计实例； I tn?''~;   24 投影系统设计 ht:L L#b*(   25 集光系统设计； esTK4z]   ^J?2[(    26 暗盒系统介绍； 3e[k9`   27 分析工具应用； n[-d~Ce2{   28 寻找最佳非球面 ~O~we   29 曲率套样板； -mZ{.\9   ?$7$# DX   30 镜头匹配工具； WsM/-P1Y   31 Zemax 公差分析功能介绍; :Ea]baM"   32 加工误差、装配误差； Dx3Sf}G `   33 灵敏度分析; "MT{t><   34 反灵敏度分析; BW)t2kR&   35 蒙特卡罗分析; (+\K   [yAR%]i -7   36 公差评价标准； -}JRsQ+rgM   37 公差操作数； i];@e]    38 补偿变量的使用； 3~0Xe   39 单透镜公差分析； (7aE!r\Ab   qr/N?,   40 库克镜头公差分析； 2LN5}[12]   41 分析报告查看说明； BgG+   42 公差脚本的使用； r,Pu-bhF   43 镜头出图、CAD 出图； HLt;1:b   44 小结及答疑。

课程信息： XG6UV('  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 gtP;Qw'  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) p4zV<qZ>e  
报名方式：扫码报名 B
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