【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

发布:ueotek 2022-03-28 16:15 阅读:1098
O_a^|ln&  
课程大纲: gAdqZJR%]  
Rh|9F yN  
01 OpticStudio 软件功能介绍; 8I/3T  
02 材料库、镜头库介绍; ,P`NtTN-  
03 如何定义新材料; 5X)M)"rq;V  
04 如何使用镜头库; Dk^AnMx%_  
05 像差理论介绍; {<gv1Yht  
06 Zemax 里像差分析图谱; A8vd@0  
07 优化; S\8v)|Pr  
08 局部优化 iLuC_.'u=  
09 全局优化; 2.niB>  
10 锤形优化;  )^{}ov  
11 优化函数架构技巧; 'Tjvq%ks   
12 单透镜优化实例 xt?-X%oY8  
13 双胶合优化实例; ?PMbbqa0  
14 热分析及衍射光学元件的使用; !9_(y~g{N  
15 实例设计及分析; 2wY|E<E  
16 MTF  'Y)aGH(  
17 双高斯镜头设计及优化; mW%8`$rVEO  
18 像质评价与图像模拟 GT<oYrjU  
19 坐标变换; XlU\D}zS  
20 坐标断点面的使用技巧 e6j1Fa9  
21 序列模式棱镜建模; Mg`!tFe3  
j9[I6ko5'  
22 扫描反射镜设计实例;
dE_Xd :>  
23 柯勒照明综合设计实例; t!qLgJ5%y  
24 投影系统设计 :IS?si5|  
25 集光系统设计; *7h~0%WR  
/_qq(,3  
26 暗盒系统介绍; }OAU5P!rp  
27 分析工具应用; -[-oz0`Sl{  
28 寻找最佳非球面 ,7&\jET5^0  
29 曲率套样板; ZgxB7zl//  
49QsT5b)  
30 镜头匹配工具; 5U47 5&  
31 Zemax 公差分析功能介绍; C LaQE{  
32 加工误差、装配误差; <3B^5p\/  
33 灵敏度分析; .u7} p#  
34 反灵敏度分析; bLai@mL&a  
35 蒙特卡罗分析; ?/3wO/7[  
V )<>W_g  
36 公差评价标准; "frZ%mv  
37 公差操作数; FFcCoPX_  
38 补偿变量的使用; '2r  
39 单透镜公差分析; 1WMZ$vsQUb  
XMI*obS'z  
40 库克镜头公差分析; /@ @F nQ++  
41 分析报告查看说明; n;Oe-+oSC  
42 公差脚本的使用; dw<i)P^   
43 镜头出图、CAD 出图; s0?'mC+p  
44 小结及答疑。
课程信息: )sm9%|.&  
主办单位:武汉宇熠科技有限公司培训主题:Zemax 成像设计培训形式:线上培训培训时间:2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用:¥ 1980元 / 人 rc8HZ  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) t`K9K"|k  
报名方式:扫码报名 CXrOb+  
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注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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