【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： $< %B#axL  

 .jg0a   01 OpticStudio 软件功能介绍; eBr4O i   02 材料库、镜头库介绍； Se^^E.Z,W   03 如何定义新材料； s&PM,BFf   04 如何使用镜头库； 3fS}:!sQ   05 像差理论介绍； xN->cA$A   06 Zemax 里像差分析图谱； <-C!;Ce{   07 优化; $n=lsDnhQ   08 局部优化 5>0.NiXGf'   09 全局优化； eQN.sl5   10 锤形优化； +Ghi}v   11 优化函数架构技巧； /MTf0^9   12 单透镜优化实例 Pe7e?79   13 双胶合优化实例； dDcZ!rRaL@   14 热分析及衍射光学元件的使用; 3}Xc71|v   15 实例设计及分析； ?bX   16 MTF O12Q8Oj!0   17 双高斯镜头设计及优化； 5N/Lk>p1u   18 像质评价与图像模拟； .J.vC1 4gi   19 坐标变换； 0irr7Y   20 坐标断点面的使用技巧 S q@H   21 序列模式棱镜建模； bY8 GA   -$k>F#   22 扫描反射镜设计实例；

HMQI&Lh=U   23 柯勒照明综合设计实例； oVO.@M#   24 投影系统设计 NP t(MFK\   25 集光系统设计； K'b*A$5o   4SVW/Zl.?   26 暗盒系统介绍； Q JX/7RA   27 分析工具应用； p]|LV)R n   28 寻找最佳非球面 {[OwMk   29 曲率套样板； ? Nj)6_&   /XpSe<3   30 镜头匹配工具； M@7Xp)S"   31 Zemax 公差分析功能介绍; pA4 ,@O   32 加工误差、装配误差； ocA]M=3~k   33 灵敏度分析; "~+.Af   34 反灵敏度分析; /'&;Q7!)   35 蒙特卡罗分析; fj']?a!m   a|qsQ'1,;   36 公差评价标准； wq0aF"k   37 公差操作数； s;.=5wcvi?   38 补偿变量的使用； \_ow9vU   39 单透镜公差分析； A|RR]CFJ   Hcv u7uD   40 库克镜头公差分析； k=n "+   41 分析报告查看说明； KCqqJ}G   42 公差脚本的使用； v<h;Di@   43 镜头出图、CAD 出图； ?l6jG   44 小结及答疑。

课程信息： \HSicV#i  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 Ol+Kp!ocY  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) g:~+Pe  
报名方式：扫码报名 3oBC   
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