【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： hd<c&7|G'  

- %h.t+=U   01 OpticStudio 软件功能介绍; j{A y\n(   02 材料库、镜头库介绍； azp):*f("   03 如何定义新材料； 'G4ICtHQ   04 如何使用镜头库； }<SQ   05 像差理论介绍； @o _}g !9=   06 Zemax 里像差分析图谱； Lck K\`mh   07 优化; }2.`N%[   08 局部优化 osAd1<EI C   09 全局优化； }q`S$P;   10 锤形优化； Vn}0}Jz   11 优化函数架构技巧； u|TeE\0   12 单透镜优化实例 0&|\N ? 8_   13 双胶合优化实例； l<LI7Z]A   14 热分析及衍射光学元件的使用; <0&*9ZeD   15 实例设计及分析； mSF(q78?   16 MTF 06Sceq   17 双高斯镜头设计及优化； M`!H"R7   18 像质评价与图像模拟； 0@iY:aF   19 坐标变换； [D4SW#   20 坐标断点面的使用技巧 )'#A$ Fj   21 序列模式棱镜建模； 7'V@+5   g7`LEF <A   22 扫描反射镜设计实例；

9IfmW^0   23 柯勒照明综合设计实例； /]Md~=yNp   24 投影系统设计 97C]+2R%^   25 集光系统设计； {@{']Y   MaQqs=   26 暗盒系统介绍； *H2r@)Y[~   27 分析工具应用； {qJ1ko)$   28 寻找最佳非球面 ag[wdoj   29 曲率套样板； joAv{Tc   Z t{[*~   30 镜头匹配工具； ,i`,Oy(BI   31 Zemax 公差分析功能介绍; rcG"o\g@+   32 加工误差、装配误差； +_oJ}KI   33 灵敏度分析; FHg 9OI67   34 反灵敏度分析; {]@= ijjf   35 蒙特卡罗分析; "e>;'%W   O;jrCB   36 公差评价标准； `e&Suyf4B   37 公差操作数； ~4Fvy'   38 补偿变量的使用； `kXs;T6&   39 单透镜公差分析； PB*&aYLU   21l;\W   40 库克镜头公差分析； -zeG1gr3   41 分析报告查看说明； yq\K)g*=   42 公差脚本的使用； \V ~eVf;~   43 镜头出图、CAD 出图； AH7}/Rc   44 小结及答疑。

课程信息： uZKr  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 5e^ChK0Q  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) 2eY_%Y0  
报名方式：扫码报名 jLm ;ty2;  
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