【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： jIdhmd* $z  

e4CG=K3s   01 OpticStudio 软件功能介绍; o'Tqqrr   02 材料库、镜头库介绍； nsgNIE{>gO   03 如何定义新材料； ,st4K;-   04 如何使用镜头库； zP=J5qOZ8   05 像差理论介绍； vgE5(fJh   06 Zemax 里像差分析图谱； PVEEKKJP]J   07 优化; >b*P d *f   08 局部优化 $a5K   09 全局优化； )sNtwSl^   10 锤形优化； $$qhX]^~   11 优化函数架构技巧； i@B5B2   12 单透镜优化实例 +}9%Duim   13 双胶合优化实例； iQa Q"s   14 热分析及衍射光学元件的使用; pM VeUK?   15 实例设计及分析； 8KoPaq   16 MTF RNvtgZ}k{X   17 双高斯镜头设计及优化； ?# G_&   18 像质评价与图像模拟； |u;5|i   19 坐标变换； 'inWV* P*g   20 坐标断点面的使用技巧 $h_@`j   21 序列模式棱镜建模； g>f(5   VCc4nn#   22 扫描反射镜设计实例；

Mu:*(P/   23 柯勒照明综合设计实例； PS=crU@"H   24 投影系统设计 4a)qn?<z   25 集光系统设计； @&M$`b ^   6K<vyr40   26 暗盒系统介绍； :EA,0 ,   27 分析工具应用； $~ItT1k_   28 寻找最佳非球面 {I2jLc   29 曲率套样板； 'Z&A5\~   )0d3sJ8   30 镜头匹配工具； ! B)Em   31 Zemax 公差分析功能介绍; BwBv'p+n   32 加工误差、装配误差； `pcjOM8u   33 灵敏度分析; @[JQCQ#r   34 反灵敏度分析; 9Xm"kVqd/   35 蒙特卡罗分析; s@3!G+ -}   <w,aS;v6jp   36 公差评价标准； N$=<6eQm   37 公差操作数； /D~ ,X48+   38 补偿变量的使用； p(x[zn+%Y   39 单透镜公差分析； pCg0xbc`   l{y ~N   40 库克镜头公差分析； zxsnrn;|   41 分析报告查看说明； o^AK@\e:^Z   42 公差脚本的使用； 7z+NR&'M$   43 镜头出图、CAD 出图； St(7@)gvY   44 小结及答疑。

课程信息： e|kYu[^  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 vO&1F@  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) +5T0]!  
报名方式：扫码报名 DsFrA]  
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