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    [培训]【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中 [复制链接]

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    离线ueotek
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-28
    j:J7  
    课程大纲: bqm%@*fZo  
    ]iH~ 1[  
    01 OpticStudio 软件功能介绍; G/_9!lE  
    02 材料库、镜头库介绍; [kPF Jf  
    03 如何定义新材料; ?lQ-HOAw  
    04 如何使用镜头库; ]*yUb-xY  
    05 像差理论介绍; w O*x0$  
    06 Zemax 里像差分析图谱; |6zx YuX  
    07 优化; E>x,$w<?  
    08 局部优化 [O^mG 9  
    09 全局优化; :3By7BZgj  
    10 锤形优化; [!>DQE  
    11 优化函数架构技巧; z%[^-l-  
    12 单透镜优化实例 FDIOST !  
    13 双胶合优化实例; +Uf+`  
    14 热分析及衍射光学元件的使用; l=ZX9<3  
    15 实例设计及分析; pq<2:F:Kl  
    16 MTF 6^hCW`jG  
    17 双高斯镜头设计及优化; Q`(.Blgm;  
    18 像质评价与图像模拟 oD7^9=#  
    19 坐标变换; t,R4q*  
    20 坐标断点面的使用技巧 ynG@/S6)K  
    21 序列模式棱镜建模; A$XmO}+  
    APL #-`XC  
    22 扫描反射镜设计实例;
    D=!5l4  
    23 柯勒照明综合设计实例; 3^p;'7x  
    24 投影系统设计 R\n*O@E v3  
    25 集光系统设计; 9i/VvW  
    >iFi~)i_4y  
    26 暗盒系统介绍; =&v&qn e9  
    27 分析工具应用; OE_A$8L  
    28 寻找最佳非球面 JAP4Vwj%j  
    29 曲率套样板; }1pG0V4  
    Tq!.M1{&  
    30 镜头匹配工具; !6DH6<HC  
    31 Zemax 公差分析功能介绍; ^WmP,Xf#  
    32 加工误差、装配误差; 2W vf[2Xw  
    33 灵敏度分析; C(lGW,!  
    34 反灵敏度分析; 2f7]= snCG  
    35 蒙特卡罗分析; ~<Sb:I zld  
    zT"W(3  
    36 公差评价标准; E|hW{oX3  
    37 公差操作数; -4nSiI  
    38 补偿变量的使用; 137:T:  
    39 单透镜公差分析; G}p* oz~  
    i[a1ij=  
    40 库克镜头公差分析; !Di*y$`}b  
    41 分析报告查看说明; >p@v'h/Cr  
    42 公差脚本的使用; ":,J<|Oy  
    43 镜头出图、CAD 出图; %t J@)  
    44 小结及答疑。
    课程信息: cr<ty"3\  
    主办单位:武汉宇熠科技有限公司培训主题:Zemax 成像设计培训形式:线上培训培训时间:2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用:¥ 1980元 / 人 $ jgEB+  
    (三人及以上组团报名可享八折优惠) $WHmG!)*  
    报名方式:扫码报名 },(Ln%M  
    ^%~ux0%^T  
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    s2Hx ?~  
    注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
     
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