【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： C1ZuDL)e  

b Y^K)0+^s   01 OpticStudio 软件功能介绍; r-aCa/4y!   02 材料库、镜头库介绍； alV{| Vf[6   03 如何定义新材料； V[RsSZx =   04 如何使用镜头库； X<*-d6?gD`   05 像差理论介绍； 4/J"}S   06 Zemax 里像差分析图谱； pX LXkF?   07 优化; ?[z@R4at   08 局部优化 |JVp(Kx   09 全局优化； ];63QJU   10 锤形优化； j+6`nN7L   11 优化函数架构技巧； 8[\~}Q6   12 单透镜优化实例 JMVh\($,x   13 双胶合优化实例； N}rc3d#   14 热分析及衍射光学元件的使用; 'i5,2vT0   15 实例设计及分析； qvN`46c   16 MTF y|Vwy4tK9   17 双高斯镜头设计及优化； *Q XUy   18 像质评价与图像模拟； kmZ  U;Z   19 坐标变换； lVra&5   20 坐标断点面的使用技巧 @||GMA+|   21 序列模式棱镜建模； }*>xSb1   oH>G3n|U^   22 扫描反射镜设计实例；

.;,` bH0   23 柯勒照明综合设计实例； uJ9 hU`h   24 投影系统设计 3@8Zy:[8<   25 集光系统设计； S #6:!   L[aA4`   26 暗盒系统介绍； [+.P'6/[$R   27 分析工具应用； e.l3xwt>$   28 寻找最佳非球面 tuIQiWHbM   29 曲率套样板； G 'c6%;0)   gH<A.5 xy   30 镜头匹配工具； &wea]./B   31 Zemax 公差分析功能介绍; h4geoC_W2   32 加工误差、装配误差； ;9"6g=q   33 灵敏度分析; :9Mqwgk,;3   34 反灵敏度分析; v~`'!N8   35 蒙特卡罗分析; m!LJK`gA   m$!Ex}2   36 公差评价标准； *DS>#x@3*i   37 公差操作数； OkfnxknZ|   38 补偿变量的使用； w3E#v&"=Y   39 单透镜公差分析； ]G H_;   rcU*6`IWA   40 库克镜头公差分析； wG}Rh,   41 分析报告查看说明； ]3&BLq   42 公差脚本的使用； 8L _]_   43 镜头出图、CAD 出图； qfS ]vc_N   44 小结及答疑。

课程信息： ]!'9Y}9a  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 )7;E,m<:tO  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) r$<4_*  
报名方式：扫码报名 P`TJqJiY~  
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