【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： EE qlsH  

-3XnUGK   01 OpticStudio 软件功能介绍; CT|H1Ry2T   02 材料库、镜头库介绍； 3V]psZS   03 如何定义新材料； <F|S<\Y.   04 如何使用镜头库； |J^I8gx+   05 像差理论介绍； J/[PA[Rf   06 Zemax 里像差分析图谱； uHTm   07 优化; zaE!=-U   08 局部优化 g G|4+' t   09 全局优化； \,`iu=YZv   10 锤形优化；  5%DHF-W)   11 优化函数架构技巧； u5,vchZ   12 单透镜优化实例 vE~<R   13 双胶合优化实例； >DW%i\k1V~   14 热分析及衍射光学元件的使用; #|Je%t}~   15 实例设计及分析； 14y>~~3C4   16 MTF BkDq9>   17 双高斯镜头设计及优化； K%/g!t)   18 像质评价与图像模拟； X`I=Z ysB   19 坐标变换； HA0yX?f]   20 坐标断点面的使用技巧 AgdU@&^   21 序列模式棱镜建模； y<y9'tx   r\} O{ZO   22 扫描反射镜设计实例；

_^^5   23 柯勒照明综合设计实例； &hzr(v~;   24 投影系统设计 4ug4[   25 集光系统设计； *(VwD)*   8sL+ik"   26 暗盒系统介绍； /IC]}0kkp   27 分析工具应用； X|60W   28 寻找最佳非球面 p vu% p8   29 曲率套样板； z'EphL7r   M5]$w]Ny9   30 镜头匹配工具； 6x8lnXtA   31 Zemax 公差分析功能介绍; Ude)$PAe%   32 加工误差、装配误差； '_xa>T}   33 灵敏度分析; ;S+"z;$m   34 反灵敏度分析; "6iq_!#L   35 蒙特卡罗分析; ;7!u(XzN   U[!wu]HMF   36 公差评价标准； kgRgHkAH~   37 公差操作数； xllmF)]*Y   38 补偿变量的使用； Q!W+vh   39 单透镜公差分析；  !]!9 $6n   {^K&9sz   40 库克镜头公差分析； BCr*GtR)W   41 分析报告查看说明； W-vEh   42 公差脚本的使用； DZ5h<1   43 镜头出图、CAD 出图； x4@IK|CE   44 小结及答疑。

课程信息： 0"`|f0}c  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 `I5So-^&z  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) *&W1|Qkg_  
报名方式：扫码报名 NW
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