【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： b+=@;0p*6B  

{}.M(nPtv;   01 OpticStudio 软件功能介绍; 1SAO6Wh   02 材料库、镜头库介绍； olm0O (9   03 如何定义新材料； =Msr+P9Ai   04 如何使用镜头库； Qy4eDv5   05 像差理论介绍； `$PdI4~J   06 Zemax 里像差分析图谱； .rPg   07 优化; ~F [V   08 局部优化 ^(+ X|t   09 全局优化； cn~/P|B[   10 锤形优化； ke2zxX2f   11 优化函数架构技巧； s9#WkDR   12 单透镜优化实例 "A(D}~i   13 双胶合优化实例； hs;YMUA"   14 热分析及衍射光学元件的使用; 9%#u,I   15 实例设计及分析； d/"%fpp^0G   16 MTF <z.Y#{p?k   17 双高斯镜头设计及优化； e w%rc.;   18 像质评价与图像模拟； ;*c8,I;   19 坐标变换； B~?R 6   20 坐标断点面的使用技巧 "]SA4Ud^   21 序列模式棱镜建模； $)YalZ   SO|!x}GfI   22 扫描反射镜设计实例；

R|m!* B~   23 柯勒照明综合设计实例； dDg[ry   24 投影系统设计 wiFA3_\G   25 集光系统设计； *P01 yW0   "g 5<jp   26 暗盒系统介绍； "cZ){w   27 分析工具应用； 9kzJ5}   28 寻找最佳非球面 G1 K@Ir<   29 曲率套样板； g+j\wvx0   1b=,lm   30 镜头匹配工具； .DR*MQI9   31 Zemax 公差分析功能介绍; ' Ig:-   32 加工误差、装配误差； (.J6>"K<   33 灵敏度分析; oA*88c+{f   34 反灵敏度分析; ~hxW3e   35 蒙特卡罗分析; {i<L<Y(3   *b4W+E   36 公差评价标准； +Pc2`,pw|   37 公差操作数； 2RU/oqmR   38 补偿变量的使用； J4]tT pu"K   39 单透镜公差分析； cd&sAK"   fKbg?   40 库克镜头公差分析； 1f+z[ad&^   41 分析报告查看说明； V.e30u5   42 公差脚本的使用； /EW=O Z/   43 镜头出图、CAD 出图； D!DL6l`   44 小结及答疑。

课程信息： *L&|4|BF2  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 #e[S+a
 
(三人及以上组团报名可享八折优惠) +<T361eyY  
报名方式：扫码报名 oe*fgk/o9  
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