【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： ay7\Ae]  

IAH"vHM   01 OpticStudio 软件功能介绍; qKfUm:7Q_   02 材料库、镜头库介绍； ;m7G8)I   03 如何定义新材料； M=Ze)X\E*'   04 如何使用镜头库； _HHvL=   05 像差理论介绍； 8)1q,[:M   06 Zemax 里像差分析图谱； D wJ^ W&*   07 优化; +fXwbZ?p   08 局部优化 ~-A"j\gi"   09 全局优化； 6v3l^~kc'   10 锤形优化； D;0>-   11 优化函数架构技巧； RBrb7D{   12 单透镜优化实例 /&Oo)OB;   13 双胶合优化实例； O]PM L`   14 热分析及衍射光学元件的使用; (uvQ/!   15 实例设计及分析； c1k[)O~   16 MTF (2#Xa,pb   17 双高斯镜头设计及优化； ]M*`Y[5"   18 像质评价与图像模拟； 5VTVx1P[8   19 坐标变换； LsWD^JE.   20 坐标断点面的使用技巧 W9%v#;2   21 序列模式棱镜建模； e&z@yy$   \.mVLLtG   22 扫描反射镜设计实例；

Pb' (Y   23 柯勒照明综合设计实例； BwWSztJ+B   24 投影系统设计 w&L~+Z<   25 集光系统设计； jlj ge=#c2   xkDK5&V   26 暗盒系统介绍； 3LETzsJ   27 分析工具应用； v ^h:E   28 寻找最佳非球面 g9" wX?*   29 曲率套样板； [ *Dj:A)V^   \lQ3j8U   30 镜头匹配工具； !ddyJJ^a   31 Zemax 公差分析功能介绍; 3UUdJh<~   32 加工误差、装配误差； VG 5*17nf5   33 灵敏度分析; l9f_NJHo   34 反灵敏度分析; h_(M#gG   35 蒙特卡罗分析; {nwoJ'-V   <8b1OdA   36 公差评价标准； zE/l   37 公差操作数； `Qo37B2   38 补偿变量的使用； #Q!Xz2z2   39 单透镜公差分析； _ARG "   BEaF-*?A   40 库克镜头公差分析； d MR?pbD   41 分析报告查看说明； I*N"_uKU   42 公差脚本的使用； !0@4*>n   43 镜头出图、CAD 出图； F^gTID   44 小结及答疑。

课程信息： y-3'qq'E  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 $97O7j@  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) \~*<[.8~  
报名方式：扫码报名 LXo$\~M8G8  
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