【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： QdZHIgh`i  

lS;S:- -F   01 OpticStudio 软件功能介绍; %_]O|(   02 材料库、镜头库介绍； 2P57C;N8|   03 如何定义新材料； S@\&^1;4Hv   04 如何使用镜头库； :^7_E&   05 像差理论介绍； ]$K5 8C   06 Zemax 里像差分析图谱； 5'Mw{`   07 优化; F[ ^ p~u{   08 局部优化 #;2mP6a[   09 全局优化； )$Fw<;4   10 锤形优化； }2y"F@{T   11 优化函数架构技巧； w#(E+s~}   12 单透镜优化实例 99h#M3@!   13 双胶合优化实例； #!z'R20PH   14 热分析及衍射光学元件的使用; wj$3L3   15 实例设计及分析； K(mzt[n(   16 MTF f$nZogaQ   17 双高斯镜头设计及优化； i/N68   18 像质评价与图像模拟； aLevml2:T   19 坐标变换； ,J*#Ixe}   20 坐标断点面的使用技巧 bB.nevb9p   21 序列模式棱镜建模； D5T0o"A   7Il /+l(   22 扫描反射镜设计实例；

(>D{"}   23 柯勒照明综合设计实例； [:Odb?+`F   24 投影系统设计 &)Wm rF   25 集光系统设计； 5tbi};   'vIVsv<p   26 暗盒系统介绍； >GDN~'}^oz   27 分析工具应用； "'8o8g   28 寻找最佳非球面 AK;G_L   29 曲率套样板； tIX|oWC$q   #5kg3OO   30 镜头匹配工具； {-c[w&q   31 Zemax 公差分析功能介绍; $_Lcw"xO   32 加工误差、装配误差； `Oi6o[a   33 灵敏度分析; l$p"%5]_   34 反灵敏度分析; Yi"jj;!^S   35 蒙特卡罗分析; IW|1)8d   N'5!4JUI   36 公差评价标准； YKj PE   37 公差操作数； oX]c$<w5   38 补偿变量的使用； }WkR-5N   39 单透镜公差分析； bF3}L=z   DOo34l6#   40 库克镜头公差分析； zI>,A|yy   41 分析报告查看说明； ^nL_*+V`f   42 公差脚本的使用； r+l3J>:K   43 镜头出图、CAD 出图； 2ap0/l[   44 小结及答疑。

课程信息： /Big^^u  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 m>?{flO  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) c/}bx52>u  
报名方式：扫码报名 H"g p  
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