【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲：
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fxyPh   01 OpticStudio 软件功能介绍; Z*`CK^^~   02 材料库、镜头库介绍； +F`! Jt   03 如何定义新材料； Zcdt\;HKr   04 如何使用镜头库； B"8^5#t4s   05 像差理论介绍；  'n.ATV,   06 Zemax 里像差分析图谱； FIW*Nr   07 优化; >.zk-`>-   08 局部优化 Grkj@Q*   09 全局优化； ^i@tOtS   10 锤形优化； J9>uLz   11 优化函数架构技巧； w~1K93/p!   12 单透镜优化实例 m]&d TZV   13 双胶合优化实例； xe%+Yb]   14 热分析及衍射光学元件的使用; wUl}x)xo   15 实例设计及分析； L,\ Yj   16 MTF JYKaF6bx8   17 双高斯镜头设计及优化； 191O( H   18 像质评价与图像模拟； @8DA   19 坐标变换； \Mt(9jNK   20 坐标断点面的使用技巧 0M:.Jhp   21 序列模式棱镜建模； ZW*"Kok   .D>%-   22 扫描反射镜设计实例；

+ PGfQN   23 柯勒照明综合设计实例； >Rx^@yQ!+z   24 投影系统设计 %*:-4K   25 集光系统设计； g+)T\_#u   py@5]n%   26 暗盒系统介绍； ^[d)Hk}L   27 分析工具应用； Qt!l-/flh   28 寻找最佳非球面 :?yv0Iu   29 曲率套样板； FFP>Y*v(   +&Sf$t 1   30 镜头匹配工具； $t[`}I }   31 Zemax 公差分析功能介绍; orEwP/L:   32 加工误差、装配误差； 6 {5*9!v63   33 灵敏度分析; UB(Q &U_   34 反灵敏度分析; !`Bb[ BTf   35 蒙特卡罗分析; Fi1gM}>py   /__we[$E   36 公差评价标准； V,{ydxfB   37 公差操作数； U%j=)VD])   38 补偿变量的使用； : `oYD   39 单透镜公差分析； @[.%A;E4   3Pkzzyk_|D   40 库克镜头公差分析； v0\2%PC   41 分析报告查看说明； W=]QTx,J   42 公差脚本的使用； Oh-HfJyi   43 镜头出图、CAD 出图； b pExYyt   44 小结及答疑。

课程信息： YVqhX]/
  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 [%z~0\lu8  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) `<C)oF\~f  
报名方式：扫码报名 >8oRO  
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