【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： OM&\M
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H S7 G_   01 OpticStudio 软件功能介绍; oXZ@*    02 材料库、镜头库介绍； '-1jWw:8   03 如何定义新材料； oqU#I~ -   04 如何使用镜头库； <`VJU2   05 像差理论介绍； 9.w3VF_C   06 Zemax 里像差分析图谱； 'Q;?_,`   07 优化; bD^ob.c.A   08 局部优化 GlkAJe]   09 全局优化； 9#$V1(}?   10 锤形优化； Ia>th\_&   11 优化函数架构技巧； yl]Cm?8   12 单透镜优化实例 =v#A&IPA'   13 双胶合优化实例； ]NhWhJ:   14 热分析及衍射光学元件的使用; 68G] a N3   15 实例设计及分析； mjr{L{H=?+   16 MTF !gH.st   17 双高斯镜头设计及优化； ~a0}   18 像质评价与图像模拟； tFP;CW!E   19 坐标变换； \iTPJcb5   20 坐标断点面的使用技巧 VBj;2~Xj4h   21 序列模式棱镜建模； ,Z\,IRn   =.2cZwxX$   22 扫描反射镜设计实例；

UC2OYZb   23 柯勒照明综合设计实例； sT T455h)   24 投影系统设计 n[p9$W`   25 集光系统设计； T!eh?^E   0$dNrq   26 暗盒系统介绍； ^xu)~:} i   27 分析工具应用； WOTu"Yj   28 寻找最佳非球面 %!/liS   29 曲率套样板； ]KPg=@Q/   O5n]4)<   30 镜头匹配工具； QMfy^t+I   31 Zemax 公差分析功能介绍; <:}AC{I   32 加工误差、装配误差； {_gj>n(1   33 灵敏度分析; WiCM,wDi   34 反灵敏度分析; tf}Q%)`f   35 蒙特卡罗分析; @T=HcUP)   &=t(N I$   36 公差评价标准； U=1`. Ove   37 公差操作数； 3ncvM>~g   38 补偿变量的使用； fi@+swfc   39 单透镜公差分析； jc.Uh9Kc   YY>Uf1}*9   40 库克镜头公差分析； OL+40J   41 分析报告查看说明； NGD2z.   42 公差脚本的使用； +P;D}1B#I?   43 镜头出图、CAD 出图； L|Gk}n   44 小结及答疑。

课程信息： 5|={1Lp24g  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 &WV 9%fI  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) i'LTKj  
报名方式：扫码报名 +}Wo=R
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