【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： ?r=`Kl  

Q65M(x+oy   01 OpticStudio 软件功能介绍; %{ '[S0@Z   02 材料库、镜头库介绍； k6DJ(.n'%a   03 如何定义新材料； _!|$i   04 如何使用镜头库； {R(/Usg!=   05 像差理论介绍； i.^UkN{   06 Zemax 里像差分析图谱； &OFVqm^   07 优化; ^xk 4HF    08 局部优化 A##Q>|>)   09 全局优化； zt]8F)l@   10 锤形优化； pHk$_t   11 优化函数架构技巧； 44n41.Q]   12 单透镜优化实例 3\{acm   13 双胶合优化实例； g<~ODMCO?W   14 热分析及衍射光学元件的使用; x- @?:P*   15 实例设计及分析； "=%YyH~WY   16 MTF V@LBy1z   17 双高斯镜头设计及优化； >g+Y//Z   18 像质评价与图像模拟； y+wy<[u   19 坐标变换； rv)Eg 53Q   20 坐标断点面的使用技巧 .FYRi_ Zd   21 序列模式棱镜建模； ve a$G~[%6   [GM!@ 6U   22 扫描反射镜设计实例；

s(5(zcBK   23 柯勒照明综合设计实例； f7 ew<c\   24 投影系统设计 F*z>B >{)   25 集光系统设计； X`Lv}6}xT   MC-Z6l2   26 暗盒系统介绍； Ac*)z#H   27 分析工具应用； q 7W7sw   28 寻找最佳非球面 \p\p~FVS   29 曲率套样板； @w%kOX   }#g &l*P   30 镜头匹配工具； kVeY} 8   31 Zemax 公差分析功能介绍; ?TDmW8G}J   32 加工误差、装配误差； Ozulp(8*   33 灵敏度分析; Ir` l*:j$   34 反灵敏度分析; jA@ uV,w   35 蒙特卡罗分析; _MQh<,Z8   .GYdC'   36 公差评价标准； )abH//Pps.   37 公差操作数； o|n+;h   38 补偿变量的使用； $+{o*   39 单透镜公差分析； *c.w:DkfB   %"E!E1_Sv   40 库克镜头公差分析； qbD_   41 分析报告查看说明； ,o `tRh <   42 公差脚本的使用； rCGKE`H   43 镜头出图、CAD 出图； _M>S=3w   44 小结及答疑。

课程信息： 2 =>3B  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 } ?+0s=Z  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) RT%{M1tkS  
报名方式：扫码报名 /lHs]) ,  
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