【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： ad).X:Qs  

J;pn5k~3   01 OpticStudio 软件功能介绍; Yl[GO}M   02 材料库、镜头库介绍； 8-Ik .,}   03 如何定义新材料； Fh u(u   04 如何使用镜头库； %a;N)1/   05 像差理论介绍； s7?Q[vN   06 Zemax 里像差分析图谱； Suixk'-   07 优化; >}`q4U6$   08 局部优化 zmH8#   09 全局优化； H@$\SUc{   10 锤形优化； DGMvYNKTj   11 优化函数架构技巧； $~xY6"_}!!   12 单透镜优化实例 Z!Njfq5   13 双胶合优化实例； ^lCys   14 热分析及衍射光学元件的使用; x4jn45]x@   15 实例设计及分析； "wi=aV9j   16 MTF Jrp{e("9   17 双高斯镜头设计及优化； T!.6@g`x>   18 像质评价与图像模拟； hX\z93an   19 坐标变换； sM)n-Yy#9   20 坐标断点面的使用技巧 #<20vdc   21 序列模式棱镜建模； d(RSn|[0   0?3Ztdlb   22 扫描反射镜设计实例；

RI_:~^nO{r   23 柯勒照明综合设计实例； Zvd^<SP<?   24 投影系统设计 mAkR<\?iTF   25 集光系统设计； l][{ #>V   .l$'%AG:~   26 暗盒系统介绍； +Z0@z^6\   27 分析工具应用； "V!y"yQ   28 寻找最佳非球面 [m7^Euury   29 曲率套样板； f)x^s$H   *rPUVhD_   30 镜头匹配工具； f(Q-W6   31 Zemax 公差分析功能介绍; +$Q33@F5l   32 加工误差、装配误差； LyM"   33 灵敏度分析; qP<wf=wY   34 反灵敏度分析; HMbF#!E   35 蒙特卡罗分析; FCv3ZF?K   Y_n^6 ;   36 公差评价标准； j8*fa   37 公差操作数； x{IxS?.j+   38 补偿变量的使用； Bd$i%.r   39 单透镜公差分析； W)^0~[`i   eC:?j`H-   40 库克镜头公差分析； :d7Ju.*J   41 分析报告查看说明； 1*aw~nY 0   42 公差脚本的使用； Rckqr7q   43 镜头出图、CAD 出图； F;l*@y Tq   44 小结及答疑。

课程信息： 8KKI.i8`  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 J1kG'cH05  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) 4:Adn?"  
报名方式：扫码报名 "*O(3L.c-  
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