【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

发布:ueotek 2022-03-28 16:15 阅读:1124
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课程大纲: =N9a!i i|  
7xOrG],E  
01 OpticStudio 软件功能介绍; N:y3tpG  
02 材料库、镜头库介绍; 4D`T_l  
03 如何定义新材料; %-6I  
04 如何使用镜头库; ZMHb  
05 像差理论介绍; TuBl9 p'6  
06 Zemax 里像差分析图谱; &.Jp,Xt)  
07 优化; hK+Iow-  
08 局部优化 )bqfj>%#c  
09 全局优化; mGXjSWsd  
10 锤形优化; ,4-)  e  
11 优化函数架构技巧; Qn77ZpL:LJ  
12 单透镜优化实例 eoS8e$}  
13 双胶合优化实例; 5Z7<X2  
14 热分析及衍射光学元件的使用; lglC1W-q  
15 实例设计及分析; 8/;q~:v  
16 MTF "b!EtlT9  
17 双高斯镜头设计及优化; ['MG/FKuv  
18 像质评价与图像模拟 _M/ckv1q@  
19 坐标变换; +oZq~2?*S6  
20 坐标断点面的使用技巧 _91g=pM   
21 序列模式棱镜建模; /.<T^p@\&  
Ocq.<#||H  
22 扫描反射镜设计实例;
J>YwMl  
23 柯勒照明综合设计实例; '*5I5'[ X,  
24 投影系统设计 u6A ReL 'f  
25 集光系统设计; O;9'0-F ?  
xq2{0q  
26 暗盒系统介绍; m ?a&XZ  
27 分析工具应用; ]w/`02w"$  
28 寻找最佳非球面 -bo5/`x  
29 曲率套样板; G SXe=?  
z O  
30 镜头匹配工具; -v4kW0G  
31 Zemax 公差分析功能介绍; FY [WdZDZ  
32 加工误差、装配误差; &+\J "V8  
33 灵敏度分析; Ji_3*(  
34 反灵敏度分析; fQ5V RpWGn  
35 蒙特卡罗分析; O+Fu zCWj  
+ RX{  
36 公差评价标准; 9Xt5{\PJ  
37 公差操作数; GqXnOmk  
38 补偿变量的使用; y#5xS  
39 单透镜公差分析; hBf0kl  
Ll%CeP  
40 库克镜头公差分析; \f6SA{vR|  
41 分析报告查看说明; ZR<T\w  
42 公差脚本的使用; Kv'2^B  
43 镜头出图、CAD 出图; JzJS?ZF  
44 小结及答疑。
课程信息: 0b9;v lGq$  
主办单位:武汉宇熠科技有限公司培训主题:Zemax 成像设计培训形式:线上培训培训时间:2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用:¥ 1980元 / 人 <=A1d\   
(三人及以上组团报名可享八折优惠) _ji"##K  
报名方式:扫码报名 .7Zb,r  
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注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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