【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： "t"dz'  

A2rr>   01 OpticStudio 软件功能介绍; %7 J   02 材料库、镜头库介绍； W11_MTIU   03 如何定义新材料； zq4mT;rqz   04 如何使用镜头库； M_79\Gz"   05 像差理论介绍； B}P,sFghw   06 Zemax 里像差分析图谱； /B1<N}   07 优化; ~ xf9 ml   08 局部优化 CF42KNq   09 全局优化； SfL,_X]*   10 锤形优化； gs'bv#4yd   11 优化函数架构技巧； Vaq=f/   12 单透镜优化实例 8  (.<   13 双胶合优化实例； yuI5# VUS   14 热分析及衍射光学元件的使用; 8`u#tl(   15 实例设计及分析； RE"}+D   16 MTF YT:<AJm   17 双高斯镜头设计及优化； 5>A3;P   18 像质评价与图像模拟； 79x^zqLb   19 坐标变换； z9dVT'   20 坐标断点面的使用技巧 HHEFX9u   21 序列模式棱镜建模； `fc*/D   2EK\QWo   22 扫描反射镜设计实例；

B0R[f   23 柯勒照明综合设计实例； &G<ZK9Ot}0   24 投影系统设计 z>y,}#D?C   25 集光系统设计； |qbJ]v!   j/Bzbjq"   26 暗盒系统介绍； dr/!wr'&hS   27 分析工具应用； hgVwoZ{`]   28 寻找最佳非球面 ojIh;e   29 曲率套样板； %eT/ :I   w$B7..r   30 镜头匹配工具； ut\9@>*J=Q   31 Zemax 公差分析功能介绍; }qlz^s   32 加工误差、装配误差； `H+Eo<U   33 灵敏度分析; -OkKLub   34 反灵敏度分析; Nz:   35 蒙特卡罗分析; i:[B#|%   y"9TS,lmK   36 公差评价标准； /+IR^WG#C}   37 公差操作数； BAKfs/N   38 补偿变量的使用； m]DjIs*@%h   39 单透镜公差分析； 1m![;Pg3   +[F9Q,bH@b   40 库克镜头公差分析； =lDmP|^   41 分析报告查看说明； >eRbasshEI   42 公差脚本的使用； 41C=O@9m   43 镜头出图、CAD 出图； *i$+i   44 小结及答疑。

课程信息： /?J_7Lg  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 '*~{1gG `  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) ^d2g"L   
报名方式：扫码报名
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