【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： B4 bB`r  

gX"   01 OpticStudio 软件功能介绍; gY+d[3N   02 材料库、镜头库介绍； >p&"X 2 @   03 如何定义新材料； Sr+hB>{   04 如何使用镜头库； HOi~eX1d   05 像差理论介绍； x @X2r   06 Zemax 里像差分析图谱； 5,xPB5pK   07 优化; Up Z 9g"   08 局部优化 4EYD5   09 全局优化； auI`'O`/   10 锤形优化； E"}%$=yK   11 优化函数架构技巧； !S~)U{SSK   12 单透镜优化实例 , S^y>   13 双胶合优化实例； V;^-EWNj   14 热分析及衍射光学元件的使用; K0>;4E>B   15 实例设计及分析； ;$tdn?|   16 MTF 5$ How!   17 双高斯镜头设计及优化； [__P-h{J   18 像质评价与图像模拟； {~&]   19 坐标变换； 9q]f]S.L   20 坐标断点面的使用技巧 Zzlt^#KLx   21 序列模式棱镜建模； PU%Zay   I484cR2.   22 扫描反射镜设计实例；

<\nM5-wR   23 柯勒照明综合设计实例； RZEq@q   24 投影系统设计 wmpQF<   25 集光系统设计； =nHkFi@D=t   HFB>0<$   26 暗盒系统介绍； !"FEp   27 分析工具应用； L@RnLaoQ   28 寻找最佳非球面 C;ab-gh   29 曲率套样板； O0y0'P-rJq   ;{8 X+H   30 镜头匹配工具； RrLj5Jq   31 Zemax 公差分析功能介绍; Dj= {%   32 加工误差、装配误差； 3 85qQppz   33 灵敏度分析; [#wt3<d`)   34 反灵敏度分析; .|"E:qTD   35 蒙特卡罗分析; W+Piqf*   C!_=L?QT^   36 公差评价标准； `]]m$   37 公差操作数； [-`s`g-   38 补偿变量的使用； =f@ 71D1   39 单透镜公差分析； aQH]hLvs   u;%~P 9O   40 库克镜头公差分析； Zk7!CJVM   41 分析报告查看说明； .WeSU0XG   42 公差脚本的使用； yC@PMyE]   43 镜头出图、CAD 出图； G;u 6p   44 小结及答疑。

课程信息： "z6p=B"?3  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 EqHToD I3  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) Mmgm6{  
报名方式：扫码报名 uJ|,-"~F  
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