【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： ddJQC|xR}  

#% a;"w   01 OpticStudio 软件功能介绍; &gVN&   02 材料库、镜头库介绍； .zA^)qgL   03 如何定义新材料； sT3^hY7   04 如何使用镜头库； zT=Ho    05 像差理论介绍； 4ni<E*   06 Zemax 里像差分析图谱； [;4g   07 优化; f2Klt6"9   08 局部优化 aktU$Wbwl   09 全局优化； NPhhD&W_   10 锤形优化； rn/ /%   11 优化函数架构技巧； hm84Aq= f   12 单透镜优化实例 XX7{-Yy   13 双胶合优化实例； 5gH1.7i b   14 热分析及衍射光学元件的使用; #a/5SZP Z\   15 实例设计及分析； a]JYDq`,3   16 MTF aE`c%T):`   17 双高斯镜头设计及优化； Tzt8h\Q^z   18 像质评价与图像模拟； fM]+SMZy   19 坐标变换； !o5 W   20 坐标断点面的使用技巧 3EV;LH L   21 序列模式棱镜建模； zvYq@Mhr   0LPig[   22 扫描反射镜设计实例；

y6ECdVF   23 柯勒照明综合设计实例； y?[ v=j*U   24 投影系统设计 ciFmaM.   25 集光系统设计； yCd-9zb=   _(_a*ml   26 暗盒系统介绍； WKts[Z   27 分析工具应用； ?Nup1!D   28 寻找最佳非球面 aXQnZ+2e^R   29 曲率套样板； <":;+Ng+   hEA<o67   30 镜头匹配工具； chcbd y>C   31 Zemax 公差分析功能介绍; s[M ?as   32 加工误差、装配误差； R+2+-j4   33 灵敏度分析; \s/s7y6b+   34 反灵敏度分析; h%o%fH&F!   35 蒙特卡罗分析; RHaI~jb   .GsV>H   36 公差评价标准； <Y*+|T+&d   37 公差操作数； ]mo-rhDsM   38 补偿变量的使用； ]9YJ,d@J   39 单透镜公差分析； w,.+IV$Kk   X^T:8npxt   40 库克镜头公差分析； q-   41 分析报告查看说明； m4TE5q%3   42 公差脚本的使用； ^WHE$4U`   43 镜头出图、CAD 出图； ~k\fhx   44 小结及答疑。

课程信息： T_s_p  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 AJf4_+He  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) &R[ Mc-2  
报名方式：扫码报名 
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