【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： 'FqQzx"r  

^8 zR   01 OpticStudio 软件功能介绍; pXrFljoYl[   02 材料库、镜头库介绍； Li!Vx1p;u.   03 如何定义新材料； 'qZW,],5   04 如何使用镜头库； "fG8? )d;   05 像差理论介绍； ]JCv yz H   06 Zemax 里像差分析图谱； <Wfx+F   07 优化; 1pt%Kw*@j   08 局部优化 pOGeruu?   09 全局优化； #xho[\   10 锤形优化； \n$u)Xj~6^   11 优化函数架构技巧； -8; 7Sp1   12 单透镜优化实例  'C`U"I   13 双胶合优化实例； dCE0$3'5   14 热分析及衍射光学元件的使用; d;zai]]   15 实例设计及分析； &+cEV6vb+   16 MTF 9KDEM gCW   17 双高斯镜头设计及优化； d: #yEC   18 像质评价与图像模拟； F20E_2;@@   19 坐标变换； K~AR*1??[   20 坐标断点面的使用技巧 8B /\U'   21 序列模式棱镜建模； [BWNRC1   O[I\A[*   22 扫描反射镜设计实例；

Yk)."r &?   23 柯勒照明综合设计实例； ZIf   24 投影系统设计 D ~st M   25 集光系统设计； MLoYnR^   @LS@cCC,a   26 暗盒系统介绍； kw#;w=\>R{   27 分析工具应用； 5>CEl2mSl   28 寻找最佳非球面 dYG,_ji   29 曲率套样板； ?%O(mC]u&   C9~52+S   30 镜头匹配工具； :Pvzl1   31 Zemax 公差分析功能介绍; |uX,5Q#6   32 加工误差、装配误差； oI=fx Sjd   33 灵敏度分析; 5 xppKt   34 反灵敏度分析; M^O2\G#B   35 蒙特卡罗分析; v>$'iT~l   j"}*T   36 公差评价标准； ,VCyG:dw   37 公差操作数； Rtb7|   38 补偿变量的使用； le1}0L   39 单透镜公差分析； 'm4W}F   !qv ea,vw   40 库克镜头公差分析； 'JCZ]pZ   41 分析报告查看说明； xC{qV,   42 公差脚本的使用； :ctu5{"UJ   43 镜头出图、CAD 出图； U@HK+C"M|   44 小结及答疑。

课程信息： )we}6sE"  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人  Q?nN!eT  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) ->l%TCHP  
报名方式：扫码报名 8kU!8^mH  
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