【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

描述:请输入描述

图片:ZEMAX 0414.jpg

A?OQE9'  
课程大纲： 1s;Saq+  

KD.]i' d<   01 OpticStudio 软件功能介绍; P@~yx#G   02 材料库、镜头库介绍； X1_5KH   03 如何定义新材料； :7;@ZEe   04 如何使用镜头库； lr&a;aZp   05 像差理论介绍； lPAQ3t!,   06 Zemax 里像差分析图谱； Z0r'S]fe   07 优化; %iqD5x$OA   08 局部优化 vW@=<aS Z   09 全局优化； <9b&<K:   10 锤形优化； ` 5>b:3   11 优化函数架构技巧； Ab;.5O$y   12 单透镜优化实例 )0k53-h&   13 双胶合优化实例； _DEjF)S   14 热分析及衍射光学元件的使用; uCB=u[]y4   15 实例设计及分析； ZSo)   16 MTF -$Ih@2"6   17 双高斯镜头设计及优化； fI|$K)K   18 像质评价与图像模拟； .x&%HA   19 坐标变换； K)iF>y|{*q   20 坐标断点面的使用技巧 _,*r_D61S   21 序列模式棱镜建模； <%mRSv   ;qV>L=a   22 扫描反射镜设计实例；

G^@5H/)   23 柯勒照明综合设计实例； |6y   24 投影系统设计 h;'~,xA   25 集光系统设计； + >!;i6|   Vi|#@tC'   26 暗盒系统介绍； U #0Cx-E   27 分析工具应用； (**oRwr%   28 寻找最佳非球面 -$g#I   29 曲率套样板； #[[ en   1{.9uw"2S   30 镜头匹配工具； DVeE1Q   31 Zemax 公差分析功能介绍; |5]X| v   32 加工误差、装配误差； ,`sv1xwd   33 灵敏度分析; ?\n> AC   34 反灵敏度分析; 3$ PV2"   35 蒙特卡罗分析; HK%7g   z0Z%m@   36 公差评价标准； MWh6]gGs   37 公差操作数； l}P=/#</T   38 补偿变量的使用； _tycgq#   39 单透镜公差分析； =i3n42M#   EiaW1Cs   40 库克镜头公差分析； 6wg^FD_Q   41 分析报告查看说明； \}G^\p6?M   42 公差脚本的使用； "uf%iJ:%   43 镜头出图、CAD 出图； wKY_Bo/d   44 小结及答疑。

课程信息： H%{+QwzZ[j  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 hCo|HB  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) f)<6  
报名方式：扫码报名 0IWf!Sk ]  
&,)&%Sg[