【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： \NqEw@91B  

pX=,iOF[I   01 OpticStudio 软件功能介绍; z\/53Sy<   02 材料库、镜头库介绍； ba3-t;S   03 如何定义新材料； {$M;H+Foh   04 如何使用镜头库； C#w]4$/   05 像差理论介绍； G]Jz"xH#   06 Zemax 里像差分析图谱； @:x"]!1   07 优化; htPqT,L   08 局部优化 _iEj   09 全局优化； I|/'Ds:   10 锤形优化； s^T+5E&}   11 优化函数架构技巧； y>\S@I   12 单透镜优化实例 1zktU.SZ   13 双胶合优化实例； [k]|Qink   14 热分析及衍射光学元件的使用; +^6}    15 实例设计及分析； @1R8-aa-r   16 MTF .~}z4r   17 双高斯镜头设计及优化； %TrF0{NR90   18 像质评价与图像模拟； !CjqL~   19 坐标变换； MF[z-7   20 坐标断点面的使用技巧 1'G8o=~   21 序列模式棱镜建模； JLb6C52   Ih1|LR/c   22 扫描反射镜设计实例；

0W>9'Rw   23 柯勒照明综合设计实例； : [M[(   24 投影系统设计 Napf"Av   25 集光系统设计； Ak~4|w-   2:$ k   26 暗盒系统介绍； $gp!w8h   27 分析工具应用； S2~@nhO`U(   28 寻找最佳非球面 ,f: jioY   29 曲率套样板； |xr32gs   )'q%2%Ak   30 镜头匹配工具； T`$KeuL   31 Zemax 公差分析功能介绍; 3z{S}~   32 加工误差、装配误差； gY`Nr!O   33 灵敏度分析; J?P]EQU   34 反灵敏度分析; jiIST^Zq#t   35 蒙特卡罗分析; &WZP2Q|   }gsO&g"8   36 公差评价标准； ew#T8F[   37 公差操作数； w 7tC|^#G   38 补偿变量的使用； r3I,11B   39 单透镜公差分析； oTOfK}   dmR3Y.\jd   40 库克镜头公差分析； JZ`L%   41 分析报告查看说明； ui'F'"tPz   42 公差脚本的使用； OoP@-D"e   43 镜头出图、CAD 出图； n_$yV:MuT!   44 小结及答疑。

课程信息： .R5/8VuHF  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 )-&nxOP  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) FsCwF&/q  
报名方式：扫码报名 =sQ(iso%f  
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