【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： 14YV#o:  

Z*aU2Kr`;   01 OpticStudio 软件功能介绍; C^=gZ 6m   02 材料库、镜头库介绍； <\>ak7m   03 如何定义新材料； -XIvj'u   04 如何使用镜头库； ~)IJE+e>}   05 像差理论介绍； rkc%S5we   06 Zemax 里像差分析图谱； ?!j/wV_H   07 优化; d4h(F,K7V   08 局部优化 'yRv~BA   09 全局优化； 8PjhvU   10 锤形优化； +pViHOJu&V   11 优化函数架构技巧； -t'oW*kdL   12 单透镜优化实例 "<$vU_   13 双胶合优化实例； #I~dv{RX   14 热分析及衍射光学元件的使用; OSi9J.]O   15 实例设计及分析； E^W*'D   16 MTF Yn2^nT=8   17 双高斯镜头设计及优化； j?hyN@ns   18 像质评价与图像模拟； iSLf:   19 坐标变换； 9QZwUQ   20 坐标断点面的使用技巧 Y'*h_K   21 序列模式棱镜建模； c!wB'~MS#   $v@$oPmMj   22 扫描反射镜设计实例；

p)&\>    23 柯勒照明综合设计实例； 6@ ^`-N;   24 投影系统设计 j=%-b]   25 集光系统设计； C\@YH]   }M@Jrq+7   26 暗盒系统介绍； aMg f6veM   27 分析工具应用； G6mM6(Sr   28 寻找最佳非球面 V="f)'S$   29 曲率套样板； }(}vlL   *t9qH   30 镜头匹配工具； slO9H6<   31 Zemax 公差分析功能介绍; (`/i1#nR   32 加工误差、装配误差； |RXC;zt9s   33 灵敏度分析; ]!o,S{a&   34 反灵敏度分析; UI|@5:J   35 蒙特卡罗分析; 2#}IGZ`Yp/   grAL4   36 公差评价标准； ]JuB6o_L   37 公差操作数； ~6i mkv^ F   38 补偿变量的使用； 7gmMqz"z(>   39 单透镜公差分析； h,?Yw+#o"   H4A+Dg,   40 库克镜头公差分析； }U1shG[   41 分析报告查看说明； N ] /d   42 公差脚本的使用； J&1N8Wk)   43 镜头出图、CAD 出图； e;r-}U   44 小结及答疑。

课程信息： [;8fL  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 @|A&\a-"J  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) @5GP;3T  
报名方式：扫码报名 pvxqeC9`  
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