【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： 78T;b7!-C  

~>]Ie~E: (   01 OpticStudio 软件功能介绍; o}36bi{   02 材料库、镜头库介绍； \py&v5J)s!   03 如何定义新材料； x6T$HN/2   04 如何使用镜头库； y54RD/`-   05 像差理论介绍； kVWrZ>McK   06 Zemax 里像差分析图谱； 31g1zdT!   07 优化; VKXB)-'L   08 局部优化 k?pNmKVJM   09 全局优化； V[44aN   10 锤形优化； z,qNuv"W   11 优化函数架构技巧； DS|x*w'I   12 单透镜优化实例 pdQaVe7tRo   13 双胶合优化实例； 2Sy:wt   14 热分析及衍射光学元件的使用; AnsJ3C   15 实例设计及分析； y}QqS/   16 MTF 50S*_4R   17 双高斯镜头设计及优化； ,=ju^_^sA   18 像质评价与图像模拟； Hb!A\;>   19 坐标变换； tr 8Q{   20 坐标断点面的使用技巧 T2T?)_f /   21 序列模式棱镜建模； A[88IMZs   0,LUi*10   22 扫描反射镜设计实例；

E&vCzQ   23 柯勒照明综合设计实例； iQh:y:Jo1&   24 投影系统设计 F>u/Lh!   25 集光系统设计； kx0w?A8-   o5z&sRZ   26 暗盒系统介绍； fb]=MoiJ   27 分析工具应用； .}tpEvAw}   28 寻找最佳非球面 C5^N)-]"   29 曲率套样板； Fw#wVs)@:   e+MsFXnB8   30 镜头匹配工具； uvD*]zX   31 Zemax 公差分析功能介绍; n*=Tm KQ   32 加工误差、装配误差； 'xOH~RlE   33 灵敏度分析; ,+_gx.H2j   34 反灵敏度分析; U%2{PbL   35 蒙特卡罗分析; kdm@1x   0pe*DbYP5   36 公差评价标准； kb*b|pWlO   37 公差操作数； >F!X'#Iv   38 补偿变量的使用； Ac,bf 8C   39 单透镜公差分析； oA ]F`N=   YH[HJ#:7r   40 库克镜头公差分析； b@1";+(27   41 分析报告查看说明； P$A'WEO'   42 公差脚本的使用； 0[OlJMVf   43 镜头出图、CAD 出图； 6<Zk%[7t   44 小结及答疑。

课程信息： YP}r15P  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 %t-}dC&  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) "CT`]:GGK  
报名方式：扫码报名 i ;YRE&X  
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