【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： .b3cn  

*.+Eg$'~V   01 OpticStudio 软件功能介绍; @D'NoA@1A   02 材料库、镜头库介绍； N~Kl{">`   03 如何定义新材料； t9Sog ~:'   04 如何使用镜头库； z }t{bm   05 像差理论介绍； fw[Z7`\Q5   06 Zemax 里像差分析图谱； 2X= pu.;F   07 优化; Zn-F!Lsv   08 局部优化 |q( .j4[i   09 全局优化； DbL=2   10 锤形优化； s={jwI50   11 优化函数架构技巧； o1dECLQa   12 单透镜优化实例 5LIbHSK   13 双胶合优化实例； H7I &Ky   14 热分析及衍射光学元件的使用; 2#^@awJ ?   15 实例设计及分析； fD1a)Az   16 MTF M^e;WY@ D   17 双高斯镜头设计及优化； 9q4%s?)j   18 像质评价与图像模拟； *h H\H    19 坐标变换； |z5`h   20 坐标断点面的使用技巧 9"jhS0M   21 序列模式棱镜建模； e*zt;SR   ,[Bv\4Ah   22 扫描反射镜设计实例；

IpRdGT02   23 柯勒照明综合设计实例； IPIas$   24 投影系统设计 T&/ ]|4   25 集光系统设计； 5y1:oiE/   "< c,I=A   26 暗盒系统介绍； |KC!6<}T~9   27 分析工具应用； }H>}v/   28 寻找最佳非球面 nO{m2&r+   29 曲率套样板； Q&X#(3&'   7M#irCX   30 镜头匹配工具； w7;,+Jq   31 Zemax 公差分析功能介绍; u=U.+\f5   32 加工误差、装配误差； `L. kyL   33 灵敏度分析; 2brxV'tk   34 反灵敏度分析; 2,3pmb   35 蒙特卡罗分析; +TW k}#G    $4&%<'l3I   36 公差评价标准； HqZ3]   37 公差操作数； !n?8'eqWru   38 补偿变量的使用； HZ+l){u   39 单透镜公差分析； Y[8GoqE|   Avc9W[4   40 库克镜头公差分析； JxV0y   41 分析报告查看说明； BbV@ziL   42 公差脚本的使用； Hl3%+f   43 镜头出图、CAD 出图； Zdm7As]   44 小结及答疑。

课程信息： "P@jr{zvMd  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 74c[m}'S  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) q\`0'Z,  
报名方式：扫码报名 5g-AB`6T  
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