【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： s%`l>#H  

H.E=m0np   01 OpticStudio 软件功能介绍; /4 OmnE;   02 材料库、镜头库介绍； C;K+ITlJ   03 如何定义新材料； sxph#E%   04 如何使用镜头库； KK2YT/K$SG   05 像差理论介绍； unew XHA   06 Zemax 里像差分析图谱； JGTsVa2   07 优化; REE.8_   08 局部优化 <tZZ]Y]   09 全局优化； CEaAtAM   10 锤形优化； W;2J~V!c   11 优化函数架构技巧； EPH" 5$8   12 单透镜优化实例 l9="ccM   13 双胶合优化实例； KsE$^`   14 热分析及衍射光学元件的使用; ~%g,Uypi   15 实例设计及分析； 'j,  ([   16 MTF %=9o'Y,4   17 双高斯镜头设计及优化； f$kbb6juL   18 像质评价与图像模拟； Y6H?ZO q   19 坐标变换； ~jzLw@"~$^   20 坐标断点面的使用技巧 xH{-UQ3R   21 序列模式棱镜建模； -Yh(bS l   uax0%~O\   22 扫描反射镜设计实例；

KCw   23 柯勒照明综合设计实例； h]t v+\0   24 投影系统设计 O65`KOPn   25 集光系统设计； +h+ 7Q'k   `y^\c#k   26 暗盒系统介绍； }Oc+EV-Z   27 分析工具应用； OUF%DMl4   28 寻找最佳非球面 :i?6#_2IC   29 曲率套样板； <nD@4J-A0   .Y]0gi8z   30 镜头匹配工具； tz GQo5\   31 Zemax 公差分析功能介绍; KB|mtsi   32 加工误差、装配误差； 0RMW>v/7kL   33 灵敏度分析; D:bmq93PC   34 反灵敏度分析; e1h7~ j   35 蒙特卡罗分析; X5VNj|IE   UCfouQCj   36 公差评价标准； *8?2+)5"   37 公差操作数； M.}J SDt   38 补偿变量的使用； P658 XKE   39 单透镜公差分析； Y* rujn{   i]? Eq?k   40 库克镜头公差分析； >4Tk#+%Jj   41 分析报告查看说明； [>54?4{|.   42 公差脚本的使用； 2XeyNX   43 镜头出图、CAD 出图； OzrIiahz/   44 小结及答疑。

课程信息： |TMn  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 W-#DEU 7_  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) 6A]I" E]5  
报名方式：扫码报名 gFHBIN;u  
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