【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

发布:ueotek 2022-03-28 16:15 阅读:1101
(gmB$pwS  
课程大纲: mY AFruN  
=|#-Rm^YB  
01 OpticStudio 软件功能介绍; <n:?WP~U  
02 材料库、镜头库介绍; }GC{~ SZ4  
03 如何定义新材料; jF5JpyOc  
04 如何使用镜头库; U^YPL,m1  
05 像差理论介绍; gU%GM  
06 Zemax 里像差分析图谱; g Q9ff,  
07 优化; 8&;dR  
08 局部优化 T*ic?!  
09 全局优化; Sh*P^i.]+  
10 锤形优化; x!jhWX  
11 优化函数架构技巧; A^Zs?<C-  
12 单透镜优化实例 .) GVb<w  
13 双胶合优化实例; avz 4 &  
14 热分析及衍射光学元件的使用; .=FJ5?:4i%  
15 实例设计及分析; |S8pq4eKJ_  
16 MTF ;i:7E#@  
17 双高斯镜头设计及优化; Fi`:G}   
18 像质评价与图像模拟 @gj5'  
19 坐标变换; cs5Xd  
20 坐标断点面的使用技巧 51,m^veO  
21 序列模式棱镜建模; Sce9R?II  
:W&\})  
22 扫描反射镜设计实例;
h`Mf;'P  
23 柯勒照明综合设计实例; `WT7w']NT  
24 投影系统设计 -+=8&Wa  
25 集光系统设计; wf4Q}l2,d  
{8MF!CG]  
26 暗盒系统介绍; G~]BC#nB_  
27 分析工具应用; b2Hpuej  
28 寻找最佳非球面 O(d'8`8  
29 曲率套样板; ;@ e |}Gk  
0#7 dm9  
30 镜头匹配工具; -5[GX3h0  
31 Zemax 公差分析功能介绍; 6\K)\  
32 加工误差、装配误差; vKC>t95  
33 灵敏度分析; <*+ MBF  
34 反灵敏度分析; \2`U$3Q  
35 蒙特卡罗分析; jZ;T&s  
MI}D%n*  
36 公差评价标准; 7ou^wt+%  
37 公差操作数; ZZ(@:F  
38 补偿变量的使用; 1:t>}[Y  
39 单透镜公差分析; 34=0.{qn  
=jN]ckn  
40 库克镜头公差分析; 9wC; m:  
41 分析报告查看说明; Xy{+=UY  
42 公差脚本的使用; h]#)41y<  
43 镜头出图、CAD 出图; 2$91+N*w9  
44 小结及答疑。
课程信息: vn<S"  
主办单位:武汉宇熠科技有限公司培训主题:Zemax 成像设计培训形式:线上培训培训时间:2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用:¥ 1980元 / 人 C0%%@ 2+  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) UPYM~c+}  
报名方式:扫码报名 hA8 zXk/'8  
X`b5h}c  
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注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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