【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： g_tEUaiK  

5$Kv%U   01 OpticStudio 软件功能介绍; S$wC{7?f   02 材料库、镜头库介绍； AoxORPp'   03 如何定义新材料； &2@Rc?!6_P   04 如何使用镜头库； l&] %APL   05 像差理论介绍； Y@ ;/Sf$Q   06 Zemax 里像差分析图谱； #X!seQ7a   07 优化; zKYN5|17   08 局部优化 ,T 3M   09 全局优化；  d *([!!i   10 锤形优化； X&49 C:jN   11 优化函数架构技巧； xQ?$H?5B<   12 单透镜优化实例 TK>~)hc}   13 双胶合优化实例； D2MIV&pahP   14 热分析及衍射光学元件的使用;  UiK)m:NU   15 实例设计及分析； 2"Unk\Y   16 MTF #>5T,[{?j   17 双高斯镜头设计及优化； 98zJ?NaD&   18 像质评价与图像模拟； NgxJz ]b   19 坐标变换； ?5pZp~   20 坐标断点面的使用技巧 1Nv qtVC   21 序列模式棱镜建模； 5?j#   ~^ '+.   22 扫描反射镜设计实例；

yG#x*\9   23 柯勒照明综合设计实例； +]H!q W:   24 投影系统设计 3<a|_(K   25 集光系统设计； (8W?ym   ^q}phj3E   26 暗盒系统介绍； $Zrc-tkV   27 分析工具应用； #.}&6ZP   28 寻找最佳非球面 5HAAaI   29 曲率套样板； daQJ{Cd,w   /W}"/W9   30 镜头匹配工具； =t}m   31 Zemax 公差分析功能介绍; 9I1`*0A   32 加工误差、装配误差； BH$hd|KD<   33 灵敏度分析; !*"#*)S.   34 反灵敏度分析; vsq |m5   35 蒙特卡罗分析; vBY?3p,0p   ~/K'n   36 公差评价标准； \)g}   37 公差操作数； v)zxQuH]^   38 补偿变量的使用； Q?Xqf7y   39 单透镜公差分析； J]NMqiq   N_0B[!B]   40 库克镜头公差分析； 3Z}m5f`t   41 分析报告查看说明； mLHl]xs4   42 公差脚本的使用； ronZa0   43 镜头出图、CAD 出图； h)r=+Q\'(S   44 小结及答疑。

课程信息： V)oKsO
 
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 @_#]7  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) 4 `}6W>*R  
报名方式：扫码报名 [/J(E\9  
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