【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： Nh}-6|M  

i0K 2#}=^   01 OpticStudio 软件功能介绍; z+7V}a PM   02 材料库、镜头库介绍； |ymW0gh7o$   03 如何定义新材料； Ig}hap]G   04 如何使用镜头库； H'zAMGZa   05 像差理论介绍； W+1nf:AI.   06 Zemax 里像差分析图谱； H=C~h\me?   07 优化; t!Cz;ajNi   08 局部优化 #%@bZ f   09 全局优化； JAd .\2%Y   10 锤形优化； `e<IO_cg   11 优化函数架构技巧； \tYImh   12 单透镜优化实例 P"^Yx8L#   13 双胶合优化实例； Gg9s.]W   14 热分析及衍射光学元件的使用; 4 H0rS'5d   15 实例设计及分析；  ~deS*   16 MTF zPp22   17 双高斯镜头设计及优化； s_/@`kd{   18 像质评价与图像模拟； =o~+R\1ux+   19 坐标变换； ^3$U[u%q/{   20 坐标断点面的使用技巧 7FcZxu\   21 序列模式棱镜建模； ,$:u^;V(   9e K~g0m   22 扫描反射镜设计实例；

O=7S=Rm4&   23 柯勒照明综合设计实例； \ Y F@r7   24 投影系统设计 S1Y,5,}   25 集光系统设计； |.$B,cEd   \#]%S/_ A   26 暗盒系统介绍； j!i*&   27 分析工具应用； /)J]ItJlz   28 寻找最佳非球面 >8I~i:hn   29 曲率套样板； :?zq!   !AE;s}v)0{   30 镜头匹配工具； jFdgFKc)   31 Zemax 公差分析功能介绍; 0SYJ*7lPX   32 加工误差、装配误差； #;a+)~3*O   33 灵敏度分析; )jgz(\KZ   34 反灵敏度分析; ME]4tu   35 蒙特卡罗分析; ;X+tCkzF   DCiU?u~   36 公差评价标准； tqh)yr;   37 公差操作数； Yv]vl6<   38 补偿变量的使用； ?%~p@   39 单透镜公差分析； vw!7f|Pg ~   siCi+Y   40 库克镜头公差分析； wE.jf.q   41 分析报告查看说明； a%m )8N;C   42 公差脚本的使用； jy.L/s   43 镜头出图、CAD 出图； w:%NEa,Z   44 小结及答疑。

课程信息： 59D'*!l-  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 HN N
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(三人及以上组团报名可享八折优惠) m}?jU  
报名方式：扫码报名 ty['yV-;a  
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