【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： {:q9:  

1pBsr(   01 OpticStudio 软件功能介绍; 5&7?0h+I   02 材料库、镜头库介绍； ?}>B4Z)   03 如何定义新材料； A_$Mt~qKi^   04 如何使用镜头库； 0.,&B5)   05 像差理论介绍； ^a0-5   06 Zemax 里像差分析图谱； K,T]Fuy   07 优化; nV6g]#~@   08 局部优化 w6%CBE2   09 全局优化； `oI/;&   10 锤形优化； XdXS^QA.s   11 优化函数架构技巧； rzY@H }u   12 单透镜优化实例 TuhL:   13 双胶合优化实例； [,V92-s;N   14 热分析及衍射光学元件的使用; 70l;**"4   15 实例设计及分析； zAdVJ58H   16 MTF \< +47+   17 双高斯镜头设计及优化； 4%.2=   18 像质评价与图像模拟； Ih0>]h-7   19 坐标变换； rcb/X`l=   20 坐标断点面的使用技巧 Rhxm)5+   21 序列模式棱镜建模； _1bd)L&dF   a5g{.:NfO   22 扫描反射镜设计实例；

C=f(NpyD6   23 柯勒照明综合设计实例； ,lGwW8$R   24 投影系统设计 rnrx% Q   25 集光系统设计； JqhVD@1{   g KY ,G   26 暗盒系统介绍； z.F+$6   27 分析工具应用； lfG&V +S1   28 寻找最佳非球面 CX2q7azG   29 曲率套样板； PL2Q!i`[o   ml \yc'   30 镜头匹配工具； FbT&w4Um=   31 Zemax 公差分析功能介绍; nylIP */   32 加工误差、装配误差； &:{yf=   33 灵敏度分析; 5m;wMW<   34 反灵敏度分析; [t\Mu}b   35 蒙特卡罗分析; "k@/Z7=   G U/k^Qy   36 公差评价标准； m!>'}z   37 公差操作数；  x a,LV   38 补偿变量的使用； ;SP3nU))   39 单透镜公差分析； by3kfY]4s   |?b"my$g$   40 库克镜头公差分析； ~./u0E   41 分析报告查看说明； @Bwl)G!|   42 公差脚本的使用； n;Wf|>   43 镜头出图、CAD 出图； OnJSu z>-   44 小结及答疑。

课程信息： +f~3FXM  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 *qOCo_=P8  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) @"5u~o')@v  
报名方式：扫码报名 mM%BO(X{=  
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