【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： ID<[=es6  

v] m`rV8S[   01 OpticStudio 软件功能介绍; Jid_&\   02 材料库、镜头库介绍； %_~1(Glz   03 如何定义新材料； "{c@}~   04 如何使用镜头库； Ylgr]?Db*   05 像差理论介绍； 7|o}m}yVx   06 Zemax 里像差分析图谱； >X5RRSo   07 优化; 4H{$zMq8   08 局部优化 -KZ9TV # R   09 全局优化； j(M.7Z7^   10 锤形优化； /J(~NGT   11 优化函数架构技巧； #vAqqAS`,   12 单透镜优化实例 ?u0qYep:   13 双胶合优化实例； NceK>::56   14 热分析及衍射光学元件的使用; RVF<l?EI4R   15 实例设计及分析； #RKd>ig%   16 MTF Z|A+\#'   17 双高斯镜头设计及优化； + +Eu.W;&#   18 像质评价与图像模拟； Ri*mu*r\}   19 坐标变换； i?|u$[^=+   20 坐标断点面的使用技巧 E 0@u|   21 序列模式棱镜建模； E `V?Io   hZ')<@hNP   22 扫描反射镜设计实例；

>LB*5   23 柯勒照明综合设计实例； $&i8/pD   24 投影系统设计 =NWzsRl,   25 集光系统设计； @ 0/EKWF   Dv4H^   26 暗盒系统介绍； NL'(/|)   27 分析工具应用； q2;CvoF   28 寻找最佳非球面 t Q.%f:|   29 曲率套样板； 9"}5jq4*   kPO+M~+n   30 镜头匹配工具； AE Abny q   31 Zemax 公差分析功能介绍; =<AG}by![   32 加工误差、装配误差； <@y(ikp>   33 灵敏度分析; db>"2 EE   34 反灵敏度分析; |;"(C# B   35 蒙特卡罗分析; Jn9{@??   &gI*[5v   36 公差评价标准； 4.>y[_vu   37 公差操作数； i1GQ=@   38 补偿变量的使用； #E#@6ZomT   39 单透镜公差分析； &<cP{aBa   ^,J>=>,1\   40 库克镜头公差分析； vOl3utu7   41 分析报告查看说明； a|k*A&5u2   42 公差脚本的使用； QoMa+QTuc   43 镜头出图、CAD 出图； R''2o_F6   44 小结及答疑。

课程信息： shiw;.vR{B  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 cs4IO O$  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) 8
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报名方式：扫码报名 Dw,LB>Eq,  
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