【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： iW\cLp "  

y)N57#e   01 OpticStudio 软件功能介绍; '&4W@lvyz   02 材料库、镜头库介绍； &x$1hx'   03 如何定义新材料； 1?s]nU   04 如何使用镜头库； *cn,[   05 像差理论介绍； !_<zK:`-L   06 Zemax 里像差分析图谱； V"=(I'X   07 优化; "{-jZdq'   08 局部优化 z45 7 /zO   09 全局优化； Q$Y ]KV   10 锤形优化； lrg3n[y-l   11 优化函数架构技巧； D.?Rc'yD   12 单透镜优化实例 &`hx   13 双胶合优化实例； Lk{ES$   14 热分析及衍射光学元件的使用; b,U"N-6   15 实例设计及分析； %7WQb]y   16 MTF E _d^&{j   17 双高斯镜头设计及优化； w yi n   18 像质评价与图像模拟； 6}bUX_!&s   19 坐标变换； 9&e=s<6dO   20 坐标断点面的使用技巧 3B|?{U~   21 序列模式棱镜建模； uN1(l}z$   y7J2:/@[x   22 扫描反射镜设计实例；

=8BMCedH|   23 柯勒照明综合设计实例； ;ew j   24 投影系统设计 Cz@[l=-T7   25 集光系统设计； 04{*iS95J   tHgn-Dhzr   26 暗盒系统介绍； RzG7Xr=t   27 分析工具应用； f?)BAah   28 寻找最佳非球面 ( dZu&   29 曲率套样板； p^1s9CM%   )Zx;Z[   30 镜头匹配工具； wxw3t@%mNm   31 Zemax 公差分析功能介绍; NYopt?Xg   32 加工误差、装配误差； ;OjxEXaq   33 灵敏度分析; P~Ss\ PT   34 反灵敏度分析; VB x,q3.   35 蒙特卡罗分析; [|{2&830   w\wS?E4G   36 公差评价标准； >|h$d:~n   37 公差操作数； *7MTq_K(An   38 补偿变量的使用； :ryyo$   39 单透镜公差分析； %-C   uA]Z "   40 库克镜头公差分析； $-4OveS~B   41 分析报告查看说明； rGjP|v@3^   42 公差脚本的使用； iU3GUsPy   43 镜头出图、CAD 出图； ]:Y@pZ   44 小结及答疑。

课程信息： rybs9:_}  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 ke$g[g  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) J,@SSmJ`  
报名方式：扫码报名 %mLQ'$  
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