【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： -D:J$d 6R<  

OD\x1,E)I   01 OpticStudio 软件功能介绍; K'?ab 0   02 材料库、镜头库介绍； >qtB27jV   03 如何定义新材料； /oiAAB27   04 如何使用镜头库； )\mklM9Z   05 像差理论介绍； &tMvs<q,   06 Zemax 里像差分析图谱； 1<\cMY6   07 优化; AN:,t(w   08 局部优化 ;k b^mJE   09 全局优化； oeIB1DaI   10 锤形优化； [&NF0c[i   11 优化函数架构技巧； fvit+   12 单透镜优化实例 ] {NY;|&I'   13 双胶合优化实例； AL|fL   14 热分析及衍射光学元件的使用; g-^CuXic   15 实例设计及分析； Yf{s0Z   16 MTF SF_kap%JM   17 双高斯镜头设计及优化； wCmwH= O   18 像质评价与图像模拟； ,}{E+e5jh7   19 坐标变换； 9HTb   20 坐标断点面的使用技巧 -8 &f=J)   21 序列模式棱镜建模； rcI(6P<*   `dL9sfj>   22 扫描反射镜设计实例；

EXJ>Z   23 柯勒照明综合设计实例； I">z#@CT   24 投影系统设计 9!9 Gpi   25 集光系统设计； W!tP sPM   |{9"n<JW   26 暗盒系统介绍； 9,y&?GLP   27 分析工具应用； f[|xp?ef   28 寻找最佳非球面 K03 a@:   29 曲率套样板； _^a.kF   Nm,vE7M   30 镜头匹配工具； *39sh[*}   31 Zemax 公差分析功能介绍; y|MW-|0=!   32 加工误差、装配误差； :eIBK   33 灵敏度分析; #ml lVQ   34 反灵敏度分析; 4 uNcp0   35 蒙特卡罗分析; ny=CtU!z   1Eg}qU,:   36 公差评价标准； a3O_8GU   37 公差操作数； Wb4sfP_   38 补偿变量的使用； m%Ef]({I   39 单透镜公差分析； Pi8U}lG;   iicrRGp3   40 库克镜头公差分析； zb;'}l;+   41 分析报告查看说明； wh*OD   42 公差脚本的使用； (b{ {B$O   43 镜头出图、CAD 出图； 2iH,U   44 小结及答疑。

课程信息： W1:o2 C7  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 :m37Fpz&b  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) QGshc  
报名方式：扫码报名 wV-cpJ,}  
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