光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ?6"{!s{v  
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培训大纲 G^;>8r  

&%mXYj3y5   01 OpticStudio 软件功能介绍; mbxbEqz   02 材料库、镜头库介绍； !)pdamdA   03 如何定义新材料； Ef)yQ   04 如何使用镜头库；	2VGg 6%   23 柯勒照明综合设计实例； 'e!J06   24 投影系统设计 g[[;w*;z   25 集光系统设计； CU)|-*uiK   k[kju%i4   26 暗盒系统介绍；
,xfO;yd   05 像差理论介绍； ?LK2g   06 Zemax 里像差分析图谱； [p;E~-S   07 优化; y[?-@7i   08 局部优化	SF[FmN!^^   27 分析工具应用； )]htm&q5   28 寻找最佳非球面 OLC{iD#   29 曲率套样板； 5ZY<JA3   {{yZ@>o6   30 镜头匹配工具；
6#@ f'~s   09 全局优化； 0#*Lw }qi   10 锤形优化； rXfy!rD_P_   11 优化函数架构技巧； S* *oA 6   12 单透镜优化实例	N!2Rl   31 Zemax 公差分析功能介绍; [7FItlF%I   32 加工误差、装配误差； Np+&t}   33 灵敏度分析; o*rQP!8,oy   34 反灵敏度分析;
L+}n@B   13 双胶合优化实例； Pr ]K a   14 热分析及衍射光学元件的使用; Bi,;lR5   15 实例设计及分析； ({WyDu&=   16 MTF	4m)OR   35 蒙特卡罗分析; hvka{LD   ]X Z-o>+,   36 公差评价标准； /3B $(   37 公差操作数； L;Z0 `mdz   38 补偿变量的使用；
XolZonJr   17 双高斯镜头设计及优化； NKb1LbnZ*y   18 像质评价与图像模拟； X;v$5UKU   19 坐标变换； Vv1|51B   20 坐标断点面的使用技巧	 Q6'x\   39 单透镜公差分析； 03E4cYxt5   ^z6_Uw[   40 库克镜头公差分析；  -!W<DJ*   41 分析报告查看说明； >9e(.6&2XZ   42 公差脚本的使用；
_WXtB#   21 序列模式棱镜建模； \^7C0R-hX   +l3=3   22 扫描反射镜设计实例；	:+Om]#`Vls   43 镜头出图、CAD 出图； kVK/9dy-F   44 小结及答疑

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培训信息 4lhw3,5  

• evkH05+;W  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• M])dJ9&e  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
• Mi'8 ~J  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• EnOU?D  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

• JRo?s~Ih  
  报名方式：扫码报名

【备注】 yE[#ze  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。