光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 + *W%4e  
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培训大纲 1La?x'{2MP  

G1 K@Ir<   01 OpticStudio 软件功能介绍; E8/Pi>QW   02 材料库、镜头库介绍； 9^?2{aP%   03 如何定义新材料； 2tw3 =)   04 如何使用镜头库；	lRANXM   23 柯勒照明综合设计实例； : uxJGx   24 投影系统设计 9GX'+$R]   25 集光系统设计； Hg~8Td**   &q7}HO/ @   26 暗盒系统介绍；
@?n~v^   05 像差理论介绍； cy64xR BB   06 Zemax 里像差分析图谱； 2!)|B ; y   07 优化; K3*-lO:A9   08 局部优化	{1"kZL   27 分析工具应用； {_G_YL[   28 寻找最佳非球面 swz)gh-*   29 曲率套样板； csFLBP   V8O-|7H$v   30 镜头匹配工具；
a9uMgx}   09 全局优化； ^\oMsU5(   10 锤形优化； g [u*`]-;v   11 优化函数架构技巧； A I v   12 单透镜优化实例	kmg/hNtN   31 Zemax 公差分析功能介绍; W5uC5C*,l   32 加工误差、装配误差； hg7_ZjO   33 灵敏度分析; yJ:rry   34 反灵敏度分析;
$ghlrV;:ct   13 双胶合优化实例； (kVxa8 0   14 热分析及衍射光学元件的使用; yRivf.wH   15 实例设计及分析； Q5&|1m Pb   16 MTF	0}`0!Kv   35 蒙特卡罗分析; 6T5\zInd   l h?[wc   36 公差评价标准； 0Of6$`   37 公差操作数； Nh01NY;   38 补偿变量的使用；
pK"iTc#\X   17 双高斯镜头设计及优化； 7*kTu0m   18 像质评价与图像模拟； E#E&z(G2   19 坐标变换； O!'gylj/   20 坐标断点面的使用技巧	BZa`:ah~x   39 单透镜公差分析； Mn 8| Knh   0Q~\1D 9g   40 库克镜头公差分析； t>2EZ{N+y   41 分析报告查看说明； *^iSP(dg   42 公差脚本的使用；
C{G;G@/7   21 序列模式棱镜建模； $Ji;zR4,   K} DrJ /s   22 扫描反射镜设计实例；	 e**5_L   43 镜头出图、CAD 出图； ;*{Ls#   44 小结及答疑

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培训信息 pQxv_4  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。