光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 pmS=$z;I  
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培训大纲 ZjcJYtD  

uO6_lOT9n   01 OpticStudio 软件功能介绍; Cw_<t   02 材料库、镜头库介绍； DlP}Fp{   03 如何定义新材料； NF.SGga   04 如何使用镜头库；	q8 oEb   23 柯勒照明综合设计实例； li{_biey}   24 投影系统设计 !cpBX>{w   25 集光系统设计； WC4Il C   k@2gw]y"   26 暗盒系统介绍；
@dXf_2Tv=   05 像差理论介绍； +]6 EkZO   06 Zemax 里像差分析图谱； T \AuL   07 优化; yH`xk%q_   08 局部优化	L.R   27 分析工具应用； v/.2Z(sZ   28 寻找最佳非球面 8,R]R=   29 曲率套样板； D>mLSh   p|((r?{   30 镜头匹配工具；
'L,rJ =M3   09 全局优化； IV*}w"r   10 锤形优化； J kA~Ol   11 优化函数架构技巧； H [v~   12 单透镜优化实例	Li'T{0)1)   31 Zemax 公差分析功能介绍; H)p {T@   32 加工误差、装配误差； &5a>5ZG}   33 灵敏度分析; 1w5nBVC*$V   34 反灵敏度分析;
UJZa1p@L   13 双胶合优化实例； e\h:==f   14 热分析及衍射光学元件的使用; t5_`q(:   15 实例设计及分析； f`cz@   16 MTF	XBc+_=)$   35 蒙特卡罗分析; Z(.Tl M2h   Qknd^%   36 公差评价标准； =19]a   37 公差操作数； ,&k 5Qq   38 补偿变量的使用；
;)kBJ @   17 双高斯镜头设计及优化； sJD"u4#y   18 像质评价与图像模拟； 4?&=H *H:   19 坐标变换； $^l=#tV   20 坐标断点面的使用技巧	-P?} qy^j(   39 单透镜公差分析； bw4b'9cK   JWBWa-   40 库克镜头公差分析； j]P|iL   41 分析报告查看说明； G'("-9   42 公差脚本的使用；
F 6Ol5   21 序列模式棱镜建模； & #|vGhA   vr;7p[~   22 扫描反射镜设计实例；	-L Y_7Kg   43 镜头出图、CAD 出图； #Y:/^Q$_qS   44 小结及答疑

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培训信息 ]*Hz'  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 SX4p(t  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。