光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 `OfhzO
p  
]Ur/DRNS  
培训大纲 +A3/^C0  

B7%,D}   01 OpticStudio 软件功能介绍; >tM4|w|   02 材料库、镜头库介绍； "DW~E\Y   03 如何定义新材料； :U?g']`Z##   04 如何使用镜头库；	cE\w6uBR1   23 柯勒照明综合设计实例； t<!m4Yd|#   24 投影系统设计 *rq*li;   25 集光系统设计； =6sP`:   6Og@tho   26 暗盒系统介绍；
8+'}`   05 像差理论介绍； 'Ea3(OsuXn   06 Zemax 里像差分析图谱； !l'nX   07 优化; m%|\AZBA#   08 局部优化	C[ ^VM$   27 分析工具应用； `^)`J   28 寻找最佳非球面 4$Ai!a   29 曲率套样板； i 8sv,P   9)!Ksg(h   30 镜头匹配工具；
bQaRl=:[:   09 全局优化； 6r ~9$IM   10 锤形优化； iJTG+gx   11 优化函数架构技巧； @yTu/U   12 单透镜优化实例	C @Ts\);^   31 Zemax 公差分析功能介绍; Igo`\JY   32 加工误差、装配误差； M^kaik   33 灵敏度分析; db )2>   34 反灵敏度分析;
o]? yyP   13 双胶合优化实例； #}~tTL   14 热分析及衍射光学元件的使用; (PpY*jKR   15 实例设计及分析；  Q6 *n'6   16 MTF	().C    35 蒙特卡罗分析; Ab$E@H#   c&D+=    36 公差评价标准； 0}i 9`p   37 公差操作数； QytO0K5   38 补偿变量的使用；
IogLk hWX   17 双高斯镜头设计及优化； 1]}\h]*   18 像质评价与图像模拟； |gk*{3~y   19 坐标变换； AH,?B*zGj   20 坐标断点面的使用技巧	DFr$2Y3H   39 单透镜公差分析； ?O25k!7   A+/Lt>+AS   40 库克镜头公差分析； D4$b-?y   41 分析报告查看说明； 48p3m)5   42 公差脚本的使用；
>\JPX   21 序列模式棱镜建模； Rxy|Ag/I;V   o #FctM'Z   22 扫描反射镜设计实例；	B;bP~e>W   43 镜头出图、CAD 出图； S1r{2s&   44 小结及答疑

ir^d7CV,  
P}6#s'07~  
培训信息 zfUDo`V~  

• M.g2y&8  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• B} qRz  
  培训主题：Zemax 成像设计
• {A}T^q!m]  
  培训形式：线上培训
• r,eH7&P9{  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• 3n2^;b/]  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

caEIE0H~  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• wo9R:kQ  
  报名方式：扫码报名

【备注】 n l5+#e*\  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。