光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 "![KQ  
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培训大纲 O9RnS\  

}H/94]~tH   01 OpticStudio 软件功能介绍; [8vqw(2Tm(   02 材料库、镜头库介绍； bNHsjx @   03 如何定义新材料； ,+x\NY2d   04 如何使用镜头库；	h7S; 4]   23 柯勒照明综合设计实例； M7#CMLy   24 投影系统设计 ;CuL1N#I   25 集光系统设计； s"~,Zzy@j   21] K7   26 暗盒系统介绍；
3f:]*U+O   05 像差理论介绍； [q^pMH#U"   06 Zemax 里像差分析图谱； J ayax]u7J   07 优化; %Rf{v5   08 局部优化	T0cm+|S   27 分析工具应用； ;zSV~G6-   28 寻找最佳非球面 kmt+E'^]   29 曲率套样板； ^c"\%!w"O   N9vNSmm   30 镜头匹配工具；
I/gfsyfA   09 全局优化； m" o=R\C   10 锤形优化； r l;Y7 l   11 优化函数架构技巧； }ee3'LUPX   12 单透镜优化实例	[geT u   31 Zemax 公差分析功能介绍; J3'0^JP*   32 加工误差、装配误差； 89W8c J$yW   33 灵敏度分析; T,B%iZgCh   34 反灵敏度分析;
K k^!P*#   13 双胶合优化实例； 3Qp6$m   14 热分析及衍射光学元件的使用; G$~hAZ   15 实例设计及分析； GT3}'`f B   16 MTF	tq*{Hil>P`   35 蒙特卡罗分析; i6i;{\tc   R5 EC/@   36 公差评价标准； [p)2!]y   37 公差操作数； VotI5O $   38 补偿变量的使用；
:]* =f].   17 双高斯镜头设计及优化； YP{mzGdE&   18 像质评价与图像模拟； 5^Lb c.h   19 坐标变换； ]ij:>O@{$   20 坐标断点面的使用技巧	Eb8z`@p   39 单透镜公差分析； |+=ctpx9&   wHQYBYKcd   40 库克镜头公差分析； ^SS9BQ*m   41 分析报告查看说明； /#}%c'   42 公差脚本的使用；
t'C9;   21 序列模式棱镜建模； t2qWB[r   2 xi@5;!   22 扫描反射镜设计实例；	1+-F3ROP   43 镜头出图、CAD 出图； v^ 1x}   44 小结及答疑

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培训信息
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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 6<UI%X  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。