光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 #z%D d{E  
%c\kLSe  
培训大纲 %aw.o*@:  

4P1}XYD-2   01 OpticStudio 软件功能介绍; IKPGqoM   02 材料库、镜头库介绍； \B84   03 如何定义新材料； YK6'/2!   04 如何使用镜头库；	p$|7T31 *   23 柯勒照明综合设计实例； m#8[")a$"   24 投影系统设计 >O24#!9XW   25 集光系统设计； ]7K2S{/o{   9-{=m+|b   26 暗盒系统介绍；
}]mxKz   05 像差理论介绍； KfBT'6t   06 Zemax 里像差分析图谱； YcDKRyrt   07 优化; R^/SBrWve   08 局部优化	:yD>Tn;1   27 分析工具应用； V+lF|CZb5   28 寻找最佳非球面 7LrmI~P   29 曲率套样板； kO3\v)B;   r*l3Hrho~K   30 镜头匹配工具；
^O+(eA7E   09 全局优化； P* `*^r3   10 锤形优化； ?hkOL$v<9}   11 优化函数架构技巧； v '+]T=   12 单透镜优化实例	\|{/ .R   31 Zemax 公差分析功能介绍; m?<E >-bI   32 加工误差、装配误差； =8?Kn@nMN   33 灵敏度分析; 9)'f)60^   34 反灵敏度分析;
|0=UZK7%O   13 双胶合优化实例； 1\&j)3mC   14 热分析及衍射光学元件的使用; m:?"|.]   15 实例设计及分析； [A,^F0:h   16 MTF	0(eaVi-%D   35 蒙特卡罗分析; esnq/   PZusYeV8b   36 公差评价标准； _#:/ ~Jp   37 公差操作数； l^Rb%?4Z   38 补偿变量的使用；
y')OmR2h   17 双高斯镜头设计及优化； .M^[/!   18 像质评价与图像模拟； s4"OsgP+   19 坐标变换； PT6]qS'1   20 坐标断点面的使用技巧	BtC*]WB"_'   39 单透镜公差分析； b[<R cM{r}   \4>,L_O   40 库克镜头公差分析； '&![h7B   41 分析报告查看说明； LjBIRV7   42 公差脚本的使用；
-U=Ci   21 序列模式棱镜建模； "GK9Y   U;MXiE3D   22 扫描反射镜设计实例；	O9sEaVX   43 镜头出图、CAD 出图； 22CET9iCe   44 小结及答疑

z~ C8JY:  
\c:$eF  
培训信息 "ntP928  

• Jo\P,-\(  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• LWF,w7v[L  
  培训主题：Zemax 成像设计
• fu^W#
  "{  
  培训形式：线上培训
• 1g{Pe`G,  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• HYfGu1j?X  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

2]5{Xmmo9  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• h= sNj  
  报名方式：扫码报名

【备注】 5.9<g>C  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。