光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 7R<<}dA]  
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培训大纲 Niou=PI@  

Da_g3z   01 OpticStudio 软件功能介绍; S`K8e^]   02 材料库、镜头库介绍； j?/T7a^   03 如何定义新材料； $4>K2   04 如何使用镜头库；	h:"<x$F   23 柯勒照明综合设计实例； ff?:_q+.N   24 投影系统设计 VZb0x)w   25 集光系统设计； 3tS~/o+]   1A< O Z>   26 暗盒系统介绍；
fseHuL=~   05 像差理论介绍； (Pin9^`ALc   06 Zemax 里像差分析图谱； rh${pHl   07 优化; 0>4:(t7h\   08 局部优化	/=lrdp!a   27 分析工具应用； 4B-v\3Ff   28 寻找最佳非球面 _yJd@   29 曲率套样板； <{9E.6G`n   hi*\5(uH   30 镜头匹配工具；
"npj%O<bd   09 全局优化； HMS9_#[kE   10 锤形优化； jv5p_v4%O   11 优化函数架构技巧； FoInJ(PDH   12 单透镜优化实例	' S)}mG_   31 Zemax 公差分析功能介绍; %S]5wR6;_   32 加工误差、装配误差； x>!#8?-h   33 灵敏度分析; 1 BAnf9   34 反灵敏度分析;
)`,3/i9C$   13 双胶合优化实例； ljlQ9wb[s   14 热分析及衍射光学元件的使用; G3OqRH   15 实例设计及分析； km}%7|R?   16 MTF	^$6EO)<   35 蒙特卡罗分析; yg5Ik{   H--(zxK   36 公差评价标准； @L=xY[&{   37 公差操作数； }Rt?p8p   38 补偿变量的使用；
W.HM!HQp   17 双高斯镜头设计及优化； R8W{[@   18 像质评价与图像模拟； Ih{(d O;   19 坐标变换； <I&X[Sqp   20 坐标断点面的使用技巧	vO&%sjvH   39 单透镜公差分析； &+xNR2";   K!).QB'   40 库克镜头公差分析； *A@~!@XE4   41 分析报告查看说明； 4@.qM6 \\q   42 公差脚本的使用；
~Ub'5 M   21 序列模式棱镜建模； ~Z=Q+'Hu0   fx_7X15   22 扫描反射镜设计实例；	_<+!   43 镜头出图、CAD 出图； [W,Ej   44 小结及答疑

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培训信息 MD1n+FgTu  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 3
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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。