光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 %FN3/iM
 
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培训大纲 %&D,|Yl6  

vkQ81PEt   01 OpticStudio 软件功能介绍; <ZF,3~v?   02 材料库、镜头库介绍； W6kDQ&q   03 如何定义新材料； vSu|!Xb]   04 如何使用镜头库；	^iWcuh_n   23 柯勒照明综合设计实例； < C{-ph   24 投影系统设计 pI__<   25 集光系统设计； [gZz'q&[)   1-HL#y*7$   26 暗盒系统介绍；
z0XH`H|~   05 像差理论介绍； KK}?x6wV0,   06 Zemax 里像差分析图谱； .I6:iB   07 优化; ,34|_   08 局部优化	bp'qrcFuiL   27 分析工具应用； [# X:!xcl   28 寻找最佳非球面 ?A!Lh,   29 曲率套样板； NT qtr="   ^qs{Cf$   30 镜头匹配工具；
Bl)znJ^   09 全局优化； lnXb]t m;   10 锤形优化； ul{u^ j   11 优化函数架构技巧； $ OE~0Z\0   12 单透镜优化实例	}~8/ a3   31 Zemax 公差分析功能介绍; WK{{U$:$   32 加工误差、装配误差； DXbzl +R   33 灵敏度分析; 5& &6e`   34 反灵敏度分析;
o6H\JCne   13 双胶合优化实例； bzz{ p1e   14 热分析及衍射光学元件的使用; fS( )F*J   15 实例设计及分析； $!+t2P@d.5   16 MTF	auV'`PR   35 蒙特卡罗分析; c"vF i~Db   >a5M:s)   36 公差评价标准； f87>ul!*   37 公差操作数； EYe)d+E*   38 补偿变量的使用；
a@1r3az   17 双高斯镜头设计及优化； Ch`nDIne   18 像质评价与图像模拟； b!>w4MPe   19 坐标变换； k\:f2%!!   20 坐标断点面的使用技巧	410WWR&4_   39 单透镜公差分析； S Z@ JzOA   9.bMA<X   40 库克镜头公差分析； }]-SAM   41 分析报告查看说明； ya+eGD@N':   42 公差脚本的使用；
%-zAV*>   21 序列模式棱镜建模； owYSR?aG   E8-8E2i,   22 扫描反射镜设计实例；	D,aJ`PK~   43 镜头出图、CAD 出图； 9!XW):   44 小结及答疑

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培训信息 ` ,B&oV>  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 6B
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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。