光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 )yig=nn  
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培训大纲 #*CMf.OCh  

gw,K*ph}q   01 OpticStudio 软件功能介绍; X+A@//,7   02 材料库、镜头库介绍； Y3[KS;_fr9   03 如何定义新材料； UwS7B~   04 如何使用镜头库；	= >TU   23 柯勒照明综合设计实例； Bcv{Y\x;ko   24 投影系统设计 '12*'Q+{+   25 集光系统设计； Het"x   `(?c4oq,c>   26 暗盒系统介绍；
+fboTsp% H   05 像差理论介绍； |-S!)iG1V   06 Zemax 里像差分析图谱； _w?!Mu   07 优化; )HE{`yiLL   08 局部优化	Sq,>^|v4&e   27 分析工具应用； GBB r[}y-   28 寻找最佳非球面 i,;eW&   29 曲率套样板； xP_%d,   zC)JOykI%   30 镜头匹配工具；
rMIX{K)'f   09 全局优化； l@GJcCufE   10 锤形优化； Iv   11 优化函数架构技巧； #p*uk   12 单透镜优化实例	V^Z5i]zT   31 Zemax 公差分析功能介绍; #OM'2@   32 加工误差、装配误差； Q+ Q"JU   33 灵敏度分析; *\'t$se+   34 反灵敏度分析;
z~`X4Segw   13 双胶合优化实例； $6UU58>n   14 热分析及衍射光学元件的使用; n^{h@u   15 实例设计及分析； yKj}l,i~8   16 MTF	Co(N8>1   35 蒙特卡罗分析; cFq<x=S   F!hjtIkPj   36 公差评价标准； }Em{?Hqy   37 公差操作数； di u"Nt   38 补偿变量的使用；
4s:M}=]N   17 双高斯镜头设计及优化； -V4{tIQY   18 像质评价与图像模拟； xP>cQELot   19 坐标变换； %+Nng<_U\T   20 坐标断点面的使用技巧	@R`6jS_gK   39 单透镜公差分析； Ua|iAD1   .+XK>jl+   40 库克镜头公差分析； /hqn>t   41 分析报告查看说明； =C,DR4xh   42 公差脚本的使用；
o[KZm17   21 序列模式棱镜建模； y[l{ UBue:   sdO8;v>   22 扫描反射镜设计实例；	_PPC?k{z!   43 镜头出图、CAD 出图； C@q#s   44 小结及答疑

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培训信息 bK#ZY  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• U`3?bhzua  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 tgCp2`n  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。