光学设计必学!Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

发布:ueotek 2022-02-18 10:49 阅读:1548
Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ^C)n$L>C0  
QCOo  
培训大纲 <cN~jv-w$  
v6(E3)J7  
01 OpticStudio 软件功能介绍; +~zXDBS9  
02 材料库、镜头库介绍; sN=6gCau  
03 如何定义新材料; F"+o@9]  
04 如何使用镜头库;
jdA ]2]  
23 柯勒照明综合设计实例; =qVP]  9  
24 投影系统设计 YvL?j  
25 集光系统设计; Dh| w^Q  
22hSove.  
26 暗盒系统介绍;
]jMKC8uz  
05 像差理论介绍; >`RRP}u=u  
06 Zemax 里像差分析图谱; PyC0Q\$%  
07 优化; x[_=#8~.1x  
08 局部优化
"8)z=n  
27 分析工具应用; I&yVx8aH}  
28 寻找最佳非球面 )=pD%$iq  
29 曲率套样板; E$s/]wnr[  
KxGX\   
30 镜头匹配工具;
. RVVWqW  
09 全局优化; SuBeNA[&  
10 锤形优化; w0m^ &,;#  
11 优化函数架构技巧; 8TV;Rtl  
12 单透镜优化实例
w42OF7f  
31 Zemax 公差分析功能介绍; )KSoq/  
32 加工误差、装配误差; =JLh?Wx  
33 灵敏度分析; nwI3|&  
34 反灵敏度分析;
$"JpFT  
13 双胶合优化实例; q Dd~2"er  
14 热分析及衍射光学元件的使用; Nil}js27  
15 实例设计及分析; b p<^R  
16 MTF
|`k .y]9  
35 蒙特卡罗分析; @r^!{  
pE]?x $5U  
36 公差评价标准; % ~ ]xuP[  
37 公差操作数; BcWcdr+}9  
38 补偿变量的使用;
Z$KLl((  
17 双高斯镜头设计及优化; jjs&`Fy,  
18 像质评价与图像模拟 YB))S!;Ok  
19 坐标变换; Nt`b;X&  
20 坐标断点面的使用技巧
\p&~ ,%  
39 单透镜公差分析; +Lm4kA+aE5  
"bQ[CD  
40 库克镜头公差分析; fG LG$b  
41 分析报告查看说明; \kIMDg3}  
42 公差脚本的使用;
t !`Jse>  
21 序列模式棱镜建模; CBT>"sYE1  
^ZeJ[t&!#  
22 扫描反射镜设计实例;
9v )%dO.  
43 镜头出图、CAD 出图; 0BPMmk  
44 小结及答疑
\{\MxXW  
t G.(flW,  
培训信息 ,<,:8B  
  • V3N0Og3  
    主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • o5o^TW{  
    培训主题:Zemax 成像设计
  • ?9MVM~$  
    培训形式:线上培训
  • LE^G&<!  
    培训时间:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
  • \t4tiCw  
    培训费用:¥ 1980元 / 人
8iQ[9  
三人及以上组团报名可享八折优惠
  • L6P1L)  
    报名方式:扫码报名
1$lh"fHU  
电话:027-87878386
4NR@u\S  
【备注】 }u{gR:lZ  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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