光学设计必学!Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

发布:ueotek 2022-02-18 10:49 阅读:1745
Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 !j- 7,  
Lz4iLLP  
培训大纲 ")TI,a`  
t4nAy)I)P  
01 OpticStudio 软件功能介绍; K }r%OOn0  
02 材料库、镜头库介绍; yNO5h]o  
03 如何定义新材料; Yx,  
04 如何使用镜头库;
gB?#T  
23 柯勒照明综合设计实例; [ %r :V"  
24 投影系统设计 H4)){\  
25 集光系统设计; #T+%$q [:  
zd+8fP/UB  
26 暗盒系统介绍;
|n0 )s% 8`  
05 像差理论介绍; l( "_JI  
06 Zemax 里像差分析图谱; 98A ;R  
07 优化; 7D4P= $UJp  
08 局部优化
9c<lFZb;  
27 分析工具应用; 2 3 P7~S  
28 寻找最佳非球面 ^oj)#(3C  
29 曲率套样板; i_V~SC`  
!J.qH%S5   
30 镜头匹配工具;
7\5;;23N4  
09 全局优化; 1}9@aKM  
10 锤形优化; Qb6s]QZEV  
11 优化函数架构技巧; C";F's)  
12 单透镜优化实例
ZY=x$($f  
31 Zemax 公差分析功能介绍; |0dmdrKD  
32 加工误差、装配误差; z6$W@-Vd  
33 灵敏度分析; ?-Fp rC  
34 反灵敏度分析;
F+|zCEc  
13 双胶合优化实例; wS#.W zp.w  
14 热分析及衍射光学元件的使用; (@~d9PvB>  
15 实例设计及分析; dtr8u  
16 MTF
n a_Y<R`  
35 蒙特卡罗分析; )9,9yd~SI  
GRS[r@W[1  
36 公差评价标准; jCxw|tmgq  
37 公差操作数; Ar N*9  
38 补偿变量的使用;
K)N7Y=C3  
17 双高斯镜头设计及优化; ]_@5LvI  
18 像质评价与图像模拟 $s$z"<  
19 坐标变换; V07e29w  
20 坐标断点面的使用技巧
._Wm%'uX  
39 单透镜公差分析; \XD&0inv  
zaf%%  
40 库克镜头公差分析; I HgYgn  
41 分析报告查看说明; Q >] v?4  
42 公差脚本的使用;
" 8>*O;xk  
21 序列模式棱镜建模; kT t;3Ia  
ANZD7v6a  
22 扫描反射镜设计实例;
]G#og)z4  
43 镜头出图、CAD 出图; 22)2o lU  
44 小结及答疑
XzIhFX6  
"JT R5;`w  
培训信息 KpA iKe  
  • VD#`1g<  
    主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • C A VqjT7  
    培训主题:Zemax 成像设计
  • FT!|YJz<K  
    培训形式:线上培训
  • IxHusB  
    培训时间:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
  • LSS3(l[,:  
    培训费用:¥ 1980元 / 人
zVFz}kJa  
三人及以上组团报名可享八折优惠
  • POdk0CuX  
    报名方式:扫码报名
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电话:027-87878386
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【备注】 )<nr;n  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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