光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 |J1$=s  
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培训大纲 DHyq^pJ  

b(,M1.[qt   01 OpticStudio 软件功能介绍; a4mn*,   02 材料库、镜头库介绍； +! ]zA4x   03 如何定义新材料； J!AgBF N4   04 如何使用镜头库；	RF`.xQ26=   23 柯勒照明综合设计实例； 9)h"-H;5:   24 投影系统设计 Q0)#8Rc m   25 集光系统设计； ~IY%   +G$4pt|=   26 暗盒系统介绍；
|hKDvH   05 像差理论介绍； ?U%qPv:   06 Zemax 里像差分析图谱； |'e^QpU5   07 优化; K='z G*$l   08 局部优化	#oS<E1   27 分析工具应用； )!3V/`I   28 寻找最佳非球面 )~G mU9f   29 曲率套样板； OyU5DoDz1   OsTc5K.U~   30 镜头匹配工具；
kVuUjP6(c   09 全局优化； vt/x ,Y   10 锤形优化； v3*_9e   11 优化函数架构技巧；  X@--m6-   12 单透镜优化实例	t*=CZE-   31 Zemax 公差分析功能介绍; ;"xfOzQ   32 加工误差、装配误差； [ZNtCnv   33 灵敏度分析; DRSr%d   34 反灵敏度分析;
R#s)r   13 双胶合优化实例； P:hBt\5B   14 热分析及衍射光学元件的使用; *2ZjE!A   15 实例设计及分析； UBv ,=v   16 MTF	To\QjP-   35 蒙特卡罗分析; dhC$W!N7!   kC:uG0sW   36 公差评价标准； aH yx_B   37 公差操作数； <!&[4-;fU   38 补偿变量的使用；
p99]   17 双高斯镜头设计及优化； z$&{:\hj   18 像质评价与图像模拟； ,j#XOy`mzy   19 坐标变换； {IjF+@I   20 坐标断点面的使用技巧	t DO=P c   39 单透镜公差分析； >d(~#Z`   `oAW7q)~   40 库克镜头公差分析； 9G9t" {   41 分析报告查看说明； 'HO$C,1]   42 公差脚本的使用；
@Y?#Sl*   21 序列模式棱镜建模； -r !. 9q   b\ X@gq   22 扫描反射镜设计实例；	1]d!~   43 镜头出图、CAD 出图； T5|qRlW   44 小结及答疑

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培训信息 5v[*:0p'  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。