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    [培训]光学设计必学!Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 02-18
    Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 W? G4>zA  
    ;6 V~yB  
    培训大纲 z>!./z]p  
    [Q T ;~5  
    01 OpticStudio 软件功能介绍; ug%7}&  
    02 材料库、镜头库介绍; \#[DZOI~  
    03 如何定义新材料; z(A60b}  
    04 如何使用镜头库;
    o "r  
    23 柯勒照明综合设计实例; 27Gff(  
    24 投影系统设计 zTue(Kr  
    25 集光系统设计; Y~Uf2(7b5  
    |E6Thvl$  
    26 暗盒系统介绍;
    Y$OE[nGi%X  
    05 像差理论介绍; %g?M?D8Ud3  
    06 Zemax 里像差分析图谱; X!hzpg(`hR  
    07 优化; %qV:h#  
    08 局部优化
    MgiW9@_(  
    27 分析工具应用; Ktk?(49  
    28 寻找最佳非球面 <8(q.  
    29 曲率套样板;  D?Beg F  
    P*k n}:  
    30 镜头匹配工具;
    e\}@w1  
    09 全局优化; kiF}+,z"  
    10 锤形优化; O C;~ H{  
    11 优化函数架构技巧; OTYkJEC8\N  
    12 单透镜优化实例
    oyiG04H&  
    31 Zemax 公差分析功能介绍; m2m ;|rr  
    32 加工误差、装配误差; 6 (7 56  
    33 灵敏度分析; %Ja0:e  
    34 反灵敏度分析;
    h8WM4 PK  
    13 双胶合优化实例; uBG!R#T  
    14 热分析及衍射光学元件的使用; [#!Y7Ede  
    15 实例设计及分析; z$ QoMq]  
    16 MTF
    8A0a/ 7Lj  
    35 蒙特卡罗分析; E!X>C^  
    ?* +>T@MH  
    36 公差评价标准; |zRrGQY m  
    37 公差操作数; |QZ E  
    38 补偿变量的使用;
    y /vc\e  
    17 双高斯镜头设计及优化; ShQ!'[J  
    18 像质评价与图像模拟 ?yG[VW  
    19 坐标变换; #bcZ:D@FC  
    20 坐标断点面的使用技巧
    WXo bh  
    39 单透镜公差分析; sw9ri}oc  
    3Z~_6P^ +N  
    40 库克镜头公差分析; n3? msY(*  
    41 分析报告查看说明; B W)@.!C  
    42 公差脚本的使用;
    ]fDb|s48  
    21 序列模式棱镜建模; uNEl]Q]<e]  
    SWtqp(h]'  
    22 扫描反射镜设计实例;
    ;0| :.q  
    43 镜头出图、CAD 出图; j0LZ )V  
    44 小结及答疑
    ;eo}/-a_Xw  
    {^Q,G x(  
    培训信息 O:'qwJ# ~  
    • N=U`BhL_  
      主办单位:武汉宇熠科技有限公司
    • F7<u1R x]  
      培训主题:Zemax 成像设计
    • P@bPdw!JA  
      培训形式:线上培训
    • oumbJ7X=L  
      培训时间:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
    • X   
      培训费用:¥ 1980元 / 人
    -F(luRBS(W  
    三人及以上组团报名可享八折优惠
    • 7'At_oG  
      报名方式:扫码报名
    |7KWa(V5I  
    电话:027-87878386
    0`V=x+*,  
    【备注】 P( -   
    注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
     
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