光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 OO]~\j
 
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培训大纲 amK?LDf]  

"Git@%80   01 OpticStudio 软件功能介绍; cV_nYcLkz   02 材料库、镜头库介绍； :O{`!&[>L   03 如何定义新材料； `B"=\0   04 如何使用镜头库；	zJOjc/\   23 柯勒照明综合设计实例； 0iinr:=u   24 投影系统设计 * 'WzIk 2   25 集光系统设计； {^1GHU   KRf$VbuL   26 暗盒系统介绍；
>lU[ lf+/   05 像差理论介绍； fKf5i@CvB@   06 Zemax 里像差分析图谱； :;t*:iG   07 优化; 29 L~SMf   08 局部优化	G%   27 分析工具应用； t(-noy)   28 寻找最佳非球面 zy~vw6vu   29 曲率套样板； Pk7Yq:avL   FRQ0tIp   30 镜头匹配工具；
3gaijVN   09 全局优化； w-2p'u['Z   10 锤形优化； iE, I\TY[   11 优化函数架构技巧；   H`G[QC   12 单透镜优化实例	F``$}]9KHD   31 Zemax 公差分析功能介绍; ~z$vF   32 加工误差、装配误差； 1D&Q{?RM   33 灵敏度分析; T ggM/@k   34 反灵敏度分析;
YQvN;W   13 双胶合优化实例； y5 $h   14 热分析及衍射光学元件的使用; ='q:Io?T   15 实例设计及分析； bX:Y5o49   16 MTF	k, &*d4   35 蒙特卡罗分析; 7c1xB.g    V~tq _   36 公差评价标准； !5wm9I!5^   37 公差操作数； K4YpE}]u   38 补偿变量的使用；
2--"@@   17 双高斯镜头设计及优化； a?/GEfd   18 像质评价与图像模拟； %|}obiV)   19 坐标变换； R"EX$Zj^E   20 坐标断点面的使用技巧	.8S6;xnkC   39 单透镜公差分析； t&T0E.kh*X   +VkhM;'"C   40 库克镜头公差分析； (|I: d!>:U   41 分析报告查看说明； \/g.`Pe   42 公差脚本的使用；
, \|S BS   21 序列模式棱镜建模； IqJ7'X   laG@SV   22 扫描反射镜设计实例；	+!6aB|-   43 镜头出图、CAD 出图； 6e3s |   44 小结及答疑

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培训信息 K9B_o,  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。