光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ^|zag  
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培训大纲 jUKMDlH  

yGNpx3H   01 OpticStudio 软件功能介绍; }y+Qj6dP   02 材料库、镜头库介绍； Tn/Zs|   03 如何定义新材料； ]T|$nwQ   04 如何使用镜头库；	]Jm\k'u[   23 柯勒照明综合设计实例； gE$Uv*Gj   24 投影系统设计 4eB oR%2o   25 集光系统设计； pnE]B0e   %7 yQ0'P   26 暗盒系统介绍；
g 8uq6U   05 像差理论介绍； :j .:t   06 Zemax 里像差分析图谱； M*qE)dZjS   07 优化; kaQNcMcq   08 局部优化	64#Ri!RR}   27 分析工具应用； E9>z.vV    28 寻找最佳非球面 u-y?i`   29 曲率套样板； ~E((n   n"aF#HR?0d   30 镜头匹配工具；
XEbVsw   09 全局优化； QEbf]U=   10 锤形优化； 7S 8X)   11 优化函数架构技巧； ]UEA"^   12 单透镜优化实例	vV$t`PEY   31 Zemax 公差分析功能介绍; 8x)i{>#i   32 加工误差、装配误差； %AtT(G(n   33 灵敏度分析; WkE="E}   34 反灵敏度分析;
yA"?Hv\o;   13 双胶合优化实例； )92(C   14 热分析及衍射光学元件的使用; IO9|o!&>   15 实例设计及分析； t3 ?I4HQ   16 MTF	#$k1w@   35 蒙特卡罗分析; H[nBNz)C   u&c%L0)E&   36 公差评价标准； :<B_V<   37 公差操作数； T30fp   38 补偿变量的使用；
;92xSe"Ww   17 双高斯镜头设计及优化； jUNt4   18 像质评价与图像模拟； "OYD9Q''   19 坐标变换； k7rg:P   20 坐标断点面的使用技巧	<yX u!   39 单透镜公差分析； 8@LWg d   9O-~Ws ;   40 库克镜头公差分析； C7vBa<a   41 分析报告查看说明； =^rp= Az   42 公差脚本的使用；
#k)z5vZ$h   21 序列模式棱镜建模； R_g(6l"3R^    )sdHJ   22 扫描反射镜设计实例；	Z}0xK6   43 镜头出图、CAD 出图； 7]1a3Jk   44 小结及答疑

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培训信息 gl`J(  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。