光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 mXsSOAD<  
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培训大纲 A}3E)Qo=G  

}R:oWR   01 OpticStudio 软件功能介绍; Eok8+7g0&   02 材料库、镜头库介绍； b0tbS[j   03 如何定义新材料； 715J1~aRNr   04 如何使用镜头库；	jT;'T$   23 柯勒照明综合设计实例； j9cB<atL   24 投影系统设计 ONc#d'-L   25 集光系统设计； rAgpcp}   PC%_^BDW   26 暗盒系统介绍；
#X6=`Xe#   05 像差理论介绍； j}8^gz]   06 Zemax 里像差分析图谱； /N@NT/.M<   07 优化; HhzPKd   08 局部优化	E#kH>q@K`$   27 分析工具应用； .&K?@T4l   28 寻找最佳非球面 h[C XH"   29 曲率套样板； !=+;9Ry$z   ! e?=g%(   30 镜头匹配工具；
*6v5JH&K   09 全局优化； F-$NoEL   10 锤形优化； 9g $fFO   11 优化函数架构技巧； U:$`M,762Z   12 单透镜优化实例	A~LTi   31 Zemax 公差分析功能介绍; *LvdrPxU=   32 加工误差、装配误差； XW{cC`&   33 灵敏度分析; ^q<EnsY   34 反灵敏度分析;
#EH\Q%   13 双胶合优化实例； aecvz0}@R   14 热分析及衍射光学元件的使用; mrVN&.   15 实例设计及分析； 2J`LZS   16 MTF	frWY8&W^H   35 蒙特卡罗分析; %Wc$S]>i   >waA\C}   36 公差评价标准； |J^I8gx+   37 公差操作数； J/[PA[Rf   38 补偿变量的使用；
uHTm   17 双高斯镜头设计及优化； r&XxF>   18 像质评价与图像模拟； X,K`]hb*0_   19 坐标变换；  ww\2   20 坐标断点面的使用技巧	W7IAW7w8U   39 单透镜公差分析； i2\CDYP   H#bu3*'   40 库克镜头公差分析； <H1e+l{8$   41 分析报告查看说明； "fSK7%BP   42 公差脚本的使用；
t1aKq)?   21 序列模式棱镜建模； "(:8$Fb   {_4zm&   22 扫描反射镜设计实例；	D,s[{RW+q   43 镜头出图、CAD 出图； u 0 K1n_   44 小结及答疑

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培训信息
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• A{52T]9X  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
•  V#+J4
   
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。