光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 s2tey
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培训大纲 mN~ci 0  

Mx&&0#;r   01 OpticStudio 软件功能介绍; %kv0Wefs   02 材料库、镜头库介绍； XnDUa3   03 如何定义新材料； .}&`TU   04 如何使用镜头库；	W6f/T3   23 柯勒照明综合设计实例； ~KHVY)@P   24 投影系统设计 XJ;D=~   25 集光系统设计； Uhe=h&e2k@   "k/;[ Wt]   26 暗盒系统介绍；
AB=daie   05 像差理论介绍； D'7SAFOM   06 Zemax 里像差分析图谱； %4ePc-   07 优化; 4 K!JQ|9   08 局部优化	0F]>Jby   27 分析工具应用； Jzj1w}?H   28 寻找最佳非球面 YX=a#%vrl   29 曲率套样板； t5[#x4 p   _hN\10ydY   30 镜头匹配工具；
<<@bl@9'   09 全局优化； yXz*5W_0D   10 锤形优化； $@"l#vJPfc   11 优化函数架构技巧； cimp/n"   12 单透镜优化实例	\!>3SKs(e   31 Zemax 公差分析功能介绍; Q(lo{AFc   32 加工误差、装配误差； YwteZSbp6M   33 灵敏度分析; ~T9/#-e>BF   34 反灵敏度分析;
/h+8A',   13 双胶合优化实例； OTy.VT|   14 热分析及衍射光学元件的使用; '{E@*T/<.   15 实例设计及分析； s8wmCzB~   16 MTF	Q?e*4ba   35 蒙特卡罗分析; 6`O.! |)   {kp "nl$<   36 公差评价标准； W"zab   37 公差操作数； Px$/ _`H   38 补偿变量的使用；
]4~lYuI4   17 双高斯镜头设计及优化； !;0U,!WI   18 像质评价与图像模拟； RMK"o?   19 坐标变换； "^4_@ oo   20 坐标断点面的使用技巧	qC}-_u7s   39 单透镜公差分析； 87Oad@FOr   V"*O=h   40 库克镜头公差分析； Z9MdD>uwi   41 分析报告查看说明； f%Ns[S~r   42 公差脚本的使用；
} ~h3c |   21 序列模式棱镜建模； o}W%I/s   /]=C{)8   22 扫描反射镜设计实例；	\Z]UA&v_   43 镜头出图、CAD 出图； NPCs('cd>?   44 小结及答疑

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培训信息 !_`&Wks  

• 2Or'c`|  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。