光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 k3#'g'>yh  
|EE1S{!24m  
培训大纲 lDYgtUKG  

5X!-Hj   01 OpticStudio 软件功能介绍; yc](   02 材料库、镜头库介绍； >Wr%usNxc   03 如何定义新材料； zi-_l   04 如何使用镜头库；	*V6| FU   23 柯勒照明综合设计实例； C27:ty V   24 投影系统设计 92DM1~ *   25 集光系统设计； p:4jY|q   QadguV6|   26 暗盒系统介绍；
OjUPvR2 0   05 像差理论介绍； @oAz   06 Zemax 里像差分析图谱； Yb+A{`   07 优化; T0w_d_aS   08 局部优化	>c,s}HJ   27 分析工具应用； P "vrYom   28 寻找最佳非球面 n[ B~C   29 曲率套样板； sT\:**   [r/zBF-.   30 镜头匹配工具；
5BhR4+1J   09 全局优化； NHGTV$T`1   10 锤形优化； L|'^P3#7`   11 优化函数架构技巧； So a qmY;+   12 单透镜优化实例	Vx_33";S\   31 Zemax 公差分析功能介绍; [C "\]LiX   32 加工误差、装配误差； Y2 @8B6   33 灵敏度分析; KrE'M   34 反灵敏度分析;
X06Lr!-%   13 双胶合优化实例； L!fTYX#K]   14 热分析及衍射光学元件的使用; s\-,RQ1   15 实例设计及分析； po*G`b;v   16 MTF	_VrY7Mz:r   35 蒙特卡罗分析; )j_El ]?   W:d p(,L   36 公差评价标准； iQ)ydY a   37 公差操作数； ^dQ{vL@9b9   38 补偿变量的使用；
4V,.Oi   17 双高斯镜头设计及优化； S0,\{j   18 像质评价与图像模拟； Qz~uD'Rs/   19 坐标变换； <g[z jV9p   20 坐标断点面的使用技巧	XIW0Z C    39 单透镜公差分析； @UD:zUT)F   |mb2<!ag{   40 库克镜头公差分析； B 71/nt9   41 分析报告查看说明； tEhg',2t(   42 公差脚本的使用；
`%C-7D'?   21 序列模式棱镜建模； ||$&o!;/L   K;?D^n.   22 扫描反射镜设计实例；	u x;?WPyr   43 镜头出图、CAD 出图； *G19fJ[5   44 小结及答疑

(eN7s_  
y?$DDD  
培训信息 r\Nfq
(w  

• A6&*VD  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• *pKTJP  
  培训主题：Zemax 成像设计
• b^1QyX^?:  
  培训形式：线上培训
• 2B,O
  /3y  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• &k}f"TX2  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

3nxG>D7  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• 
  @R[{  
  报名方式：扫码报名

【备注】 $]v}X},,  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。