[培训]光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 [复制链接]

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 W? G4>zA  
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培训大纲 z>!./z]p  

[Q T ;~5   01 OpticStudio 软件功能介绍; ug%7}&   02 材料库、镜头库介绍； \#[DZOI~   03 如何定义新材料； z(A60b}   04 如何使用镜头库；	o "r   23 柯勒照明综合设计实例； 27Gff(   24 投影系统设计 zTue(Kr   25 集光系统设计； Y~Uf2(7b5   |E6Thvl$   26 暗盒系统介绍；
Y$OE[nGi%X   05 像差理论介绍； %g?M?D8Ud3   06 Zemax 里像差分析图谱； X!hzpg(`hR   07 优化; %qV:h#   08 局部优化	MgiW9@_(   27 分析工具应用； Ktk?(49   28 寻找最佳非球面 <8(q.   29 曲率套样板； D?BegF   P*k n}:   30 镜头匹配工具；
e\}@w1   09 全局优化； kiF}+,z"   10 锤形优化； O C;~ H{   11 优化函数架构技巧； OTYkJEC8\N   12 单透镜优化实例	oyiG04H&   31 Zemax 公差分析功能介绍; m2m ;|rr   32 加工误差、装配误差； 6(7 56   33 灵敏度分析; %Ja0: e   34 反灵敏度分析;
h8WM4 PK   13 双胶合优化实例； uBG!R #T   14 热分析及衍射光学元件的使用; [#!Y7Ede   15 实例设计及分析； z$QoMq]   16 MTF	8A0a/ 7Lj   35 蒙特卡罗分析; E!X> C^   ?* +>T@MH   36 公差评价标准； |zRrGQYm   37 公差操作数； |QZ E   38 补偿变量的使用；
y /vc\e   17 双高斯镜头设计及优化； ShQ!'[J   18 像质评价与图像模拟； ?yG[VW   19 坐标变换； #bcZ:D@FC   20 坐标断点面的使用技巧	W Xo bh   39 单透镜公差分析； sw9ri}oc   3Z~_6P^ +N   40 库克镜头公差分析； n3? msY(*   41 分析报告查看说明； BW)@.!C   42 公差脚本的使用；
]fDb|s48   21 序列模式棱镜建模； uNEl]Q]<e]   SWtqp(h]'   22 扫描反射镜设计实例；	;0|:.q   43 镜头出图、CAD 出图； j0LZ )V   44 小结及答疑

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培训信息 O:'qwJ#~  

• N=U`BhL_  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• F7<u1Rx]  
  培训主题：Zemax 成像设计
• P@bPdw!JA  
  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 P(-   
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。