光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 f<^ScFVR  
h<Gypl
G  
培训大纲 V;P1nL4L  

?-4OfGN   01 OpticStudio 软件功能介绍; }WA<=9e   02 材料库、镜头库介绍； k:`a+LiZ   03 如何定义新材料； cxL,]27Bu   04 如何使用镜头库；	>}70]dN7b   23 柯勒照明综合设计实例； YmZC?x_{M2   24 投影系统设计 |&9tU   25 集光系统设计； `CPZPp,l6`   t; h+Cf4   26 暗盒系统介绍；
]aREQ?ma&z   05 像差理论介绍； zwKg   06 Zemax 里像差分析图谱； #W_i{ bdO   07 优化; XSD"/_xD   08 局部优化	58qaA\iw   27 分析工具应用； i:MlD5 F   28 寻找最佳非球面 "r:H5) !   29 曲率套样板； |:~("rA+v   n+v!H O"2u   30 镜头匹配工具；
PY[Sz=[   09 全局优化； 2=i+L z^   10 锤形优化； U+:S7z@j?   11 优化函数架构技巧； Pw0{.W~r   12 单透镜优化实例	<{3q{VW*   31 Zemax 公差分析功能介绍; @ARAX\F   32 加工误差、装配误差； HJnv'^yn   33 灵敏度分析; 'SsPx&)l   34 反灵敏度分析;
Ej-=y2j{g   13 双胶合优化实例； &z7N\n   14 热分析及衍射光学元件的使用; @hE7r-}]   15 实例设计及分析； B)_!F`9   16 MTF	l=Vowx.$2f   35 蒙特卡罗分析;  "Nk`RsW   ?FkQe~FN{   36 公差评价标准； Lr!L} y9T+   37 公差操作数； WiPM <'   38 补偿变量的使用；
R^n* o   17 双高斯镜头设计及优化； v'mJ~tz   18 像质评价与图像模拟； K * xM[vO   19 坐标变换； J"m%q\'   20 坐标断点面的使用技巧	V 2WUM+`uT   39 单透镜公差分析； ctnAVm   g?k#wj1uH   40 库克镜头公差分析； 3C E 39W   41 分析报告查看说明； S jC)6mo   42 公差脚本的使用；
wz*)L (pP   21 序列模式棱镜建模； ymzPJ?? !   A>rWGo.{E   22 扫描反射镜设计实例；	G_7ks]u-   43 镜头出图、CAD 出图； _47j9m]f   44 小结及答疑

/6Jy'"+'0  
j]cXLY  
培训信息 V1UUAvN7s  

• 2zmQp  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• .3S\Rrv  
  培训主题：Zemax 成像设计
• 1{;[q3a  
  培训形式：线上培训
• %zIl_/s  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• X#f+m) S  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

/)eNx  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• %_%f#S  
  报名方式：扫码报名

【备注】 2l\D~ y  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。