光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 *=xr-!MEk  
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培训大纲 O33`+UV"W  

4I(Xy]wm   01 OpticStudio 软件功能介绍; K.yb ^dg5   02 材料库、镜头库介绍； Kf -JcBsrT   03 如何定义新材料； $Z>'Jp   04 如何使用镜头库；	K|s,ru   23 柯勒照明综合设计实例； kSo"Ak!   24 投影系统设计 [.}oyz;}N   25 集光系统设计； VG~Vs@c(   'E.w=7z&   26 暗盒系统介绍；
$`'/+x"%   05 像差理论介绍； ;GD]dW#   06 Zemax 里像差分析图谱； Z #m+ObHK1   07 优化; -%4,@ x`   08 局部优化	+W+|%qM,\   27 分析工具应用； U`s{Jm   28 寻找最佳非球面 >5SSQ\2~a   29 曲率套样板； k|f4Cf,   tZB<on<.)   30 镜头匹配工具；
x$(f7?s] 1   09 全局优化； W n}'bqp   10 锤形优化； S`]k>' l   11 优化函数架构技巧； Dum9l j   12 单透镜优化实例	>`D:-huNeE   31 Zemax 公差分析功能介绍; -|9=P\U8S   32 加工误差、装配误差； h@wgd~X9   33 灵敏度分析; 2b8L\$1q   34 反灵敏度分析;
SZCze"`[   13 双胶合优化实例； rQ snhv   14 热分析及衍射光学元件的使用; j _7mNIr   15 实例设计及分析； j*m%*_kO   16 MTF	;xn0;V'=   35 蒙特卡罗分析; k~z Iy;AZ   Mrb)   36 公差评价标准； ku M$UYTTX   37 公差操作数； 1m0c|ckb   38 补偿变量的使用；
S `Rs82>   17 双高斯镜头设计及优化； PeEj&4k   18 像质评价与图像模拟； )Xyn q(   19 坐标变换； I1&aM}y{G   20 坐标断点面的使用技巧	IO:G1;[/2L   39 单透镜公差分析； -`6+UkOV[x   Y`wSv NU   40 库克镜头公差分析； .6 ?U@2   41 分析报告查看说明； vY`s'%WV   42 公差脚本的使用；
[)X\|pO&   21 序列模式棱镜建模； ~WV"SaA)*U   jb!i$/%w   22 扫描反射镜设计实例；	vs{s_T7Mz]   43 镜头出图、CAD 出图； '@P^0+B!(.   44 小结及答疑

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培训信息 iO; 7t@]-  

• Pj%|\kbNs  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 y:l\$pGC%  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。