光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 )-+\M_JK5  
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培训大纲 pg~zUOY  

}+91s'/c   01 OpticStudio 软件功能介绍; bp]^EVx   02 材料库、镜头库介绍； U1,~bO9   03 如何定义新材料； bQ-Gp;]   04 如何使用镜头库；	CM%|pB/z   23 柯勒照明综合设计实例； 9wO/?   24 投影系统设计 +}_Pf{MW   25 集光系统设计； Sl3KpZ   =\ ~E n5   26 暗盒系统介绍；
P%zH>K   05 像差理论介绍； cGgM8   06 Zemax 里像差分析图谱； de> ?*%<   07 优化; _:35d1[   08 局部优化	L`9TB"0R+   27 分析工具应用； -VS9`7k   28 寻找最佳非球面 j5L)N   29 曲率套样板； N\9}\Rk@   }3v'Cp0L   30 镜头匹配工具；
t"<s}~   09 全局优化； Ts| --,   10 锤形优化； t)-*.qZh   11 优化函数架构技巧； WnD^F>   12 单透镜优化实例	%1Bn_   31 Zemax 公差分析功能介绍; p"Ot5!F>   32 加工误差、装配误差； &|v{#,ymeb   33 灵敏度分析; iO!27y   34 反灵敏度分析;
Zimh_   13 双胶合优化实例； FH)t:!#   14 热分析及衍射光学元件的使用; 6!P`XTTE   15 实例设计及分析； H@V 7!d   16 MTF	:w@F?:C   35 蒙特卡罗分析; b,nn&B5@{   NF6X- ,cd   36 公差评价标准； Z+g1~\   37 公差操作数； 8RVS)D''   38 补偿变量的使用；
-x{dc7y2   17 双高斯镜头设计及优化； JkZ50L   18 像质评价与图像模拟； \[:PykS   19 坐标变换；  s[3e=N   20 坐标断点面的使用技巧	led))qd@V-   39 单透镜公差分析； 2ck4C/ h   )FRM_$t   40 库克镜头公差分析； >DHp*$y   41 分析报告查看说明； vu=me?m?(   42 公差脚本的使用；
K* ~]fy   21 序列模式棱镜建模； lWW+5   t)` p@]j   22 扫描反射镜设计实例；	`>s7M.|X   43 镜头出图、CAD 出图； !<&m]K   44 小结及答疑

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培训信息 gw"
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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。