光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 %QGw`E   
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培训大纲 #pK" ^O*!  

0b n%L~KU   01 OpticStudio 软件功能介绍; P7Qel,   02 材料库、镜头库介绍； 4 83r U   03 如何定义新材料； $?k]KD   04 如何使用镜头库；	Q[q`)~|   23 柯勒照明综合设计实例； q~W:W}z   24 投影系统设计 UuF(n$B   25 集光系统设计； "dDrw ]P;   ; Ad5Jk   26 暗盒系统介绍；
0WSZhzNyY   05 像差理论介绍； |S|'o*u   06 Zemax 里像差分析图谱； S ++~w9}   07 优化; O1t$]k:   08 局部优化	"8cI]~V   27 分析工具应用； M3|G^q:l   28 寻找最佳非球面 wD{c$TJ?{F   29 曲率套样板； Sl^PELU   SZ$WC8AX   30 镜头匹配工具；
Qr7v^H~E4.   09 全局优化； ^[Ka+E^Q   10 锤形优化； )78T+7Kq   11 优化函数架构技巧； kmt1vV.9   12 单透镜优化实例	Z(Y:   31 Zemax 公差分析功能介绍; h4F%lGot   32 加工误差、装配误差； b l+g7g;   33 灵敏度分析; y35~bz^2   34 反灵敏度分析;
> l0H)W   13 双胶合优化实例； (1 GU   14 热分析及衍射光学元件的使用; 6j6;lNUc   15 实例设计及分析； m9i/rK_   16 MTF	Pgy[\t2K   35 蒙特卡罗分析; xz5A[)N   oo7}Hg>   36 公差评价标准； Dat',5   37 公差操作数； ^w .]1x   38 补偿变量的使用；
vPz7*w   17 双高斯镜头设计及优化； 4:N*C7P   18 像质评价与图像模拟； ,R<9yEWm   19 坐标变换； o,*D8[   20 坐标断点面的使用技巧	j4!O,.!T   39 单透镜公差分析； cY_ke   p:Lmf8EI   40 库克镜头公差分析； N8#j|yf   41 分析报告查看说明； B,w ZI4oi*   42 公差脚本的使用；
.1{{E8Fj   21 序列模式棱镜建模； bDtb6hL   bP#!U'b"=   22 扫描反射镜设计实例；	Q!U}   43 镜头出图、CAD 出图； 7>F{.\Z   44 小结及答疑

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培训信息 E BBd  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• Q-gVg%'7  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 g;8 wP5i  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。