光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 $~5ax8u&!#  
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培训大纲 r"xs?P&/$  

c%@< h6   01 OpticStudio 软件功能介绍; IB\O[R$x   02 材料库、镜头库介绍； N/6!|F   03 如何定义新材料； }^tW's8   04 如何使用镜头库；	-"uOh,G}   23 柯勒照明综合设计实例； &5d~ODO   24 投影系统设计 vef9*u`   25 集光系统设计； !hWS%m@   51-@4E2:l:   26 暗盒系统介绍；
=k^ d5   05 像差理论介绍； v@ifB I   06 Zemax 里像差分析图谱； 7 F> a&r   07 优化; SQs+4YJ   08 局部优化	qN\?cW'   27 分析工具应用； /?Hq   28 寻找最佳非球面 C8t;E`   29 曲率套样板； _Nacqa   fR>"d< ;T   30 镜头匹配工具；
ZgA+$}U)uW   09 全局优化； &t:~e" 5<   10 锤形优化； H;{IOBo   11 优化函数架构技巧； P"f4`q   12 单透镜优化实例	.s-*aoj   31 Zemax 公差分析功能介绍; q1pB~eg5   32 加工误差、装配误差； l/-qVAd!q   33 灵敏度分析; F[KM0t!   34 反灵敏度分析;
.H 9r_   13 双胶合优化实例； [P*zm8b   14 热分析及衍射光学元件的使用; L(o#)I>j   15 实例设计及分析； {H3B1*Dk   16 MTF	J_7#UjGA,   35 蒙特卡罗分析; ]FEDAGu   7sq15oL   36 公差评价标准； ;a 6Z=LB   37 公差操作数； rT_J6F5J   38 补偿变量的使用；
[\-)c[/   17 双高斯镜头设计及优化； =$SvKzN   18 像质评价与图像模拟； @{{6Nd5   19 坐标变换； ~JHEr48   20 坐标断点面的使用技巧	bT15jN a   39 单透镜公差分析； >|aVGY   m:6*4_!   40 库克镜头公差分析； ,H>'1~q   41 分析报告查看说明； 5Nl?Km~   42 公差脚本的使用；
J,:Wv`N:9~   21 序列模式棱镜建模； |j=Pj)5J   "0LSy x   22 扫描反射镜设计实例；	$Y M(NC   43 镜头出图、CAD 出图； GT,1t=|&V   44 小结及答疑

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培训信息 \aN7[>R.Q  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 :7~DiH:
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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。