光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中
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培训大纲 08S|$_  

~J6c1jG   01 OpticStudio 软件功能介绍; #IP<4"Hf   02 材料库、镜头库介绍； rK2*DuE   03 如何定义新材料； Cj}1 )qWq   04 如何使用镜头库；	, c/\'k\K)   23 柯勒照明综合设计实例； c]W]m`:   24 投影系统设计 %97IXrE   25 集光系统设计； dQt*/]{q   (+9_nAgZ,   26 暗盒系统介绍；
Tc `LY/%Od   05 像差理论介绍； J+LFzl07q   06 Zemax 里像差分析图谱； |YQ:4'^"   07 优化; 'wX'}3_/g   08 局部优化	EpCUL@+   27 分析工具应用； ;#!`cgAh   28 寻找最佳非球面 ~'HwNzDQc   29 曲率套样板； 0bpl3Fh.v   '@Y@H ,   30 镜头匹配工具；
gRKmfJ*u   09 全局优化； >"S'R9t   10 锤形优化； M,PZ|=V6a   11 优化函数架构技巧； t_WNEZW7f   12 单透镜优化实例	])a?ri   31 Zemax 公差分析功能介绍; yKa}U!$    32 加工误差、装配误差； VWmZ|9Ri   33 灵敏度分析; ^c^9kK'   34 反灵敏度分析;
h.g11xa   13 双胶合优化实例； rBkf@   14 热分析及衍射光学元件的使用; !o&Mw:d   15 实例设计及分析； s0.yPA   16 MTF	*Rj>// A   35 蒙特卡罗分析; z8mR< q%`   a)[XJLCQ   36 公差评价标准； gNzQ"W=   37 公差操作数； X1i6CEa<   38 补偿变量的使用；
zie])_8|h   17 双高斯镜头设计及优化； %n9}P , ?   18 像质评价与图像模拟； xZL`<3?   19 坐标变换； KC?hsID{   20 坐标断点面的使用技巧	H4 & d,8:m   39 单透镜公差分析； oyJ/Oe {   ALwkX"AN   40 库克镜头公差分析； IX^k<Jqr   41 分析报告查看说明； >3X!c"#l   42 公差脚本的使用；
F)Yn1&a#H   21 序列模式棱镜建模； }jfU qqFd   3b{8c8N^   22 扫描反射镜设计实例；	mhp5}   43 镜头出图、CAD 出图； 7vcYI#(2 Y   44 小结及答疑

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培训信息 g^^%4Y  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 #:vosVqG  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。