光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 l;?:}\sI=  
,jU>V]YC  
培训大纲 lqDCK&g$E#  

7?P'f3)fG   01 OpticStudio 软件功能介绍; 727#7Bo   02 材料库、镜头库介绍； K'A+V   03 如何定义新材料； ~_THvx1   04 如何使用镜头库；	UXm_-/&b9   23 柯勒照明综合设计实例； ?<?Ogq"<   24 投影系统设计 b<h((]Q>^   25 集光系统设计； i~@gI5[k+   ot0teNF   26 暗盒系统介绍；
>xWS>   05 像差理论介绍； 73Dxf -   06 Zemax 里像差分析图谱； (tK_(gO   07 优化; H2X_WSwm   08 局部优化	\GFqRRn   27 分析工具应用； 7 N}@zPAZ   28 寻找最佳非球面 [2:d@=%.   29 曲率套样板； Yuv(4a<M%   pPReo)   30 镜头匹配工具；
b 74!Zw   09 全局优化； I?T !   10 锤形优化； inu.U[.   11 优化函数架构技巧； NdK`-RT   12 单透镜优化实例	u>XXKlW:   31 Zemax 公差分析功能介绍; l@`k:?   32 加工误差、装配误差；  f<o|5r   33 灵敏度分析; o&JoeKXor   34 反灵敏度分析;
gtKih   13 双胶合优化实例； >,6   14 热分析及衍射光学元件的使用; d59rq<yI   15 实例设计及分析； >d 5-if   16 MTF	?1Nz ,Lc$   35 蒙特卡罗分析; n:AZ(f    CL<-3y*   36 公差评价标准； +y| B"}x   37 公差操作数； b8!oZ~K   38 补偿变量的使用；
rO87V!Cj   17 双高斯镜头设计及优化； [^"}jbn/   18 像质评价与图像模拟； {_7hX`p   19 坐标变换； 0\mf1{$"!7   20 坐标断点面的使用技巧	g *5_m(H   39 单透镜公差分析； <IrhR,@M,L   4LSsWO<@   40 库克镜头公差分析； wgz]R   41 分析报告查看说明； W ?x~"-*   42 公差脚本的使用；
^-%'ItVO   21 序列模式棱镜建模； T;u ;r@R/   T{prCM   22 扫描反射镜设计实例；	|Iy;_8c   43 镜头出图、CAD 出图； 3.movkj   44 小结及答疑

\Z.r Pq  
[REH*_  
培训信息 L7ae6#5.  

• %_ew{ff
  |  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• VgPlIIHh5  
  培训主题：Zemax 成像设计
• /&6{}n  
  培训形式：线上培训
• 
  jV% VN  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• T m"B  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

"8Dm7)nB  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• `.@udfog^0  
  报名方式：扫码报名

【备注】 r'noB<|e  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。