光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 XhF7%KR  
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培训大纲 OKDBzl  

9C-!I,   01 OpticStudio 软件功能介绍; P\"|b\O1   02 材料库、镜头库介绍； FScE3~R   03 如何定义新材料； YHoj^=/b   04 如何使用镜头库；	lYZ5FacqC   23 柯勒照明综合设计实例； UNc!6Q-.   24 投影系统设计 a-I3#3VJ@   25 集光系统设计； _ZgIm3p0A   V?{[IMRC   26 暗盒系统介绍；
4AI\'M"d   05 像差理论介绍； U p1&(   06 Zemax 里像差分析图谱； MGUzvSf   07 优化; # N`~.96   08 局部优化	yFfa/d   27 分析工具应用； z"`q-R }m   28 寻找最佳非球面 W/dl`UDY   29 曲率套样板； 4H4U   ?t LJe   30 镜头匹配工具；
'B;aXy/JC   09 全局优化； fV[(s7vW   10 锤形优化； }F=+*-SYZ   11 优化函数架构技巧； 5l"EQ9   12 单透镜优化实例	 e=b>:n   31 Zemax 公差分析功能介绍; j~ +<~2%c   32 加工误差、装配误差； E\U6n""]   33 灵敏度分析; l V[d`%(   34 反灵敏度分析;
_c}@Fi+E   13 双胶合优化实例； ?A|8J5EV   14 热分析及衍射光学元件的使用; !f~ =p   15 实例设计及分析； chjXsq#Q^   16 MTF	g(d9=xq@k   35 蒙特卡罗分析; e/@tU'$   E|u#W3-:   36 公差评价标准； yRQR@   37 公差操作数； B7"/K]dR:   38 补偿变量的使用；
8nOMyNpy~M   17 双高斯镜头设计及优化； = ;sEi:HC   18 像质评价与图像模拟； :Mz$~o<   19 坐标变换； #BQ7rF7CNE   20 坐标断点面的使用技巧	cU\Er{ k   39 单透镜公差分析； 'I|A*rO   l#P)9$%   40 库克镜头公差分析； pDr%uL   41 分析报告查看说明； cr!6qv1   42 公差脚本的使用；
= 2HR+   21 序列模式棱镜建模； Vl;GQe   [zp v3Uw   22 扫描反射镜设计实例；	>*ey 7g   43 镜头出图、CAD 出图； \VL[,z=q.   44 小结及答疑

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培训信息 $~UQKv>  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。