光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 My
g;2.  
K{DmMi];I  
培训大纲 }ixCbuD  

0H4|}+e   01 OpticStudio 软件功能介绍; #V/{DPz   02 材料库、镜头库介绍； viYrPh H+z   03 如何定义新材料； *?1\S^7R   04 如何使用镜头库；	3zKeN:w   23 柯勒照明综合设计实例； __tA(uA   24 投影系统设计 }qp)VF   25 集光系统设计； ._]Pz6   n]4Elrxx   26 暗盒系统介绍；
'JdK0w#   05 像差理论介绍； K7JZUS`C!   06 Zemax 里像差分析图谱； DN=W2MEfc   07 优化; 9"S iHp\)   08 局部优化	p>?(uGV   27 分析工具应用； ydOG8EI   28 寻找最佳非球面 |+HJ>xA4I   29 曲率套样板； 9fbbJ"I+   QwG_-   30 镜头匹配工具；
WO%pX+PoH   09 全局优化； <Bn0wr8)\   10 锤形优化； [+b8 !'|&   11 优化函数架构技巧； G/3T0d+-   12 单透镜优化实例	Yh!k uS#<   31 Zemax 公差分析功能介绍; [6g$;SicT   32 加工误差、装配误差； q#8\BOTP |   33 灵敏度分析; cjGN=|`u   34 反灵敏度分析;
C"5P7F{   13 双胶合优化实例； q~aj"GD   14 热分析及衍射光学元件的使用; a;; Es   15 实例设计及分析； nJv=kk1|o   16 MTF	.6rbn8h   35 蒙特卡罗分析; *mj=kJ7(   rt*>)GI]b   36 公差评价标准； 5K? /-0yG   37 公差操作数； <uFj5.   38 补偿变量的使用；
v\G7V   17 双高斯镜头设计及优化； ->;2CcpHB   18 像质评价与图像模拟； K0vS   19 坐标变换； t%^&b'/Z   20 坐标断点面的使用技巧	a"O;DYh   39 单透镜公差分析； ;q%z\gA   havmhS)O   40 库克镜头公差分析； B<.\^fuS   41 分析报告查看说明； &D-z|ZjgHi   42 公差脚本的使用；
FhBV.,bU,m   21 序列模式棱镜建模； ,:K{   \X(*JNQ   22 扫描反射镜设计实例；	^K J#dT   43 镜头出图、CAD 出图； |[#Qk 4Ttf   44 小结及答疑

&|'yqzS3  
cg]Gt1SU  
培训信息 {=d}04i)E"  

• eG2'W  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• fXnewPr=#  
  培训主题：Zemax 成像设计
• WZ!zUUp}V  
  培训形式：线上培训
• 54WX#/<Yik  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• +]wM$
  bP  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

[P~7kNFOh  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• Jh%SenP_oP  
  报名方式：扫码报名

【备注】 F}[!OYyg  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。