光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 PL{lYexJ  
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培训大纲 gfj_]  

/y{:N   01 OpticStudio 软件功能介绍; JX&]>#6|E   02 材料库、镜头库介绍； EQ,`6UT>   03 如何定义新材料； 0*b8?e   04 如何使用镜头库；	7HH@7vpJ^   23 柯勒照明综合设计实例； @I?,!3`jS   24 投影系统设计 7>y]uT@ar   25 集光系统设计； s_/@`kd{   =o~+R\1ux+   26 暗盒系统介绍；
^3$U[u%q/{   05 像差理论介绍； `WOoC   06 Zemax 里像差分析图谱； X-( ( [A   07 优化; @y7KP$t   08 局部优化	ygnZ9ikh<-   27 分析工具应用； \O"H#gt   28 寻找最佳非球面 9;v3 (U+:   29 曲率套样板； #X'-/q`.   [-VH%OM   30 镜头匹配工具；
hGY-d}npAJ   09 全局优化； xaVX@ 3r.3   10 锤形优化； g$Y]{VM.J   11 优化函数架构技巧； ]NTQF/    12 单透镜优化实例	"zJxWXI   31 Zemax 公差分析功能介绍; 8%m\J:eR   32 加工误差、装配误差； aUZ?Ue9l>2   33 灵敏度分析; ,+`r2}N \/   34 反灵敏度分析;
xIm2t~i o   13 双胶合优化实例； D b|JR   14 热分析及衍射光学元件的使用; | Jd8ul:&e   15 实例设计及分析； =@M9S   16 MTF	2[`n<R\   35 蒙特卡罗分析; V[kJ;YLPN   -@>]iBl   36 公差评价标准； ;%2+Tc-7I   37 公差操作数； g]L8Jli   38 补偿变量的使用；
*uRDB9#9,   17 双高斯镜头设计及优化； Al*=%nY   18 像质评价与图像模拟； J' P:SC1   19 坐标变换； "r@#3T$   20 坐标断点面的使用技巧	4N$Wpx   39 单透镜公差分析；  ,c`6-   b}Gm{;s!   40 库克镜头公差分析； `PtB2,?   41 分析报告查看说明； ?GNRab   42 公差脚本的使用；
D? %*L   21 序列模式棱镜建模； YX,;z/Jw2   Z72%Bv   22 扫描反射镜设计实例；	qpe9?`vVX   43 镜头出图、CAD 出图； Uz_ob9l<#H   44 小结及答疑

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培训信息 h\@X!Z,  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 Szu@{lpP@  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。