光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 wER>a (  
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培训大纲 1o;+.]B  

[V5ebj:6w   01 OpticStudio 软件功能介绍; Ba\l`$%X   02 材料库、镜头库介绍； tCk;tu!d   03 如何定义新材料； x_JCH7-   04 如何使用镜头库；	hoc$aqP6pp   23 柯勒照明综合设计实例； 0.~Pzg   24 投影系统设计 >! OD[9   25 集光系统设计； tBp146`   }wh)I]]U   26 暗盒系统介绍；
Xw=>L#Q   05 像差理论介绍； wnL\.%Y^   06 Zemax 里像差分析图谱； /hef3DV5I   07 优化; 8gv\ `   08 局部优化	B?nQUIb:   27 分析工具应用； l!plw,PYC   28 寻找最佳非球面 6BihZ |H04   29 曲率套样板； Xz'pZ*Hr$v   T<|B1jA   30 镜头匹配工具；
@LS*WJ< w-   09 全局优化； /3! KfG   10 锤形优化； 3hOiHO ;   11 优化函数架构技巧； oyBBW?m   12 单透镜优化实例	<|NP!eMsw8   31 Zemax 公差分析功能介绍; ?* ~W   32 加工误差、装配误差； -,Q !:   33 灵敏度分析; ,c@^u6a   34 反灵敏度分析;
{q%wr*   13 双胶合优化实例；  $&96qsr   14 热分析及衍射光学元件的使用; P"J(O<(1-:   15 实例设计及分析； +zQ a"Ep*   16 MTF	#7IM#tc@   35 蒙特卡罗分析; (bxSN@hp2   M1^?_;B   36 公差评价标准； ~n$VCLa   37 公差操作数； [2UjY^\;T   38 补偿变量的使用；
#YM5P   17 双高斯镜头设计及优化； ~a:0Q{>a   18 像质评价与图像模拟； ')w:`8Tl   19 坐标变换； _uuxTNN0x*   20 坐标断点面的使用技巧	Fu0 dYN   39 单透镜公差分析； %nQii?1`i   Kv'2^B   40 库克镜头公差分析； JzJS?ZF   41 分析报告查看说明； P%A^TD|   42 公差脚本的使用；
wfQ6J0   21 序列模式棱镜建模； t<M^/xe2   _-$"F>   22 扫描反射镜设计实例；	MzRwsf   43 镜头出图、CAD 出图； LfEeFF=#n   44 小结及答疑

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培训信息 @UCGsw  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
• 5t`< KRz)I  
  培训形式：线上培训
• ]a)o@FI  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。