光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 av$/Om:  
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培训大纲 yb/%?DNQT  

5JLu2P   01 OpticStudio 软件功能介绍; |jVM &R2s   02 材料库、镜头库介绍； }C#;fp"L   03 如何定义新材料； e}.^Tiwd]   04 如何使用镜头库；	hWT[L.>k   23 柯勒照明综合设计实例； T9u<p=p   24 投影系统设计 V2i@.@$j   25 集光系统设计； ]@0NO;bK>F   =<NljOR4`   26 暗盒系统介绍；
tc!wLnhG   05 像差理论介绍； Ldl5zc   06 Zemax 里像差分析图谱； Ns[ym>x#2   07 优化; [fKUyIY_   08 局部优化	!Z5[QNVaV   27 分析工具应用； W"k8KODOY   28 寻找最佳非球面 e&qh9mlE   29 曲率套样板； ,i,q!M {-   &ZX{R#[L   30 镜头匹配工具；
i![dPM   09 全局优化； EB_NK   10 锤形优化； o`q_wdy?   11 优化函数架构技巧； mUz\ra;z   12 单透镜优化实例	$LLA,?;!   31 Zemax 公差分析功能介绍; 1s{^X -   32 加工误差、装配误差； f4guz   33 灵敏度分析; P b]3&!a   34 反灵敏度分析;
j`*#v   13 双胶合优化实例； L    14 热分析及衍射光学元件的使用; MiRdX#+Y   15 实例设计及分析； m~D&gGFt   16 MTF	{|yob4N   35 蒙特卡罗分析; B-T/V-c7   |-CnT:|o   36 公差评价标准； Cc, `}SP   37 公差操作数； /g$G_}   38 补偿变量的使用；
^+1#[E    17 双高斯镜头设计及优化； 9Y<#=C   18 像质评价与图像模拟； &%_& 8DkG   19 坐标变换； N?m0USu*   20 坐标断点面的使用技巧	RJON90,J   39 单透镜公差分析； <6G11-K   wprX!)w<i   40 库克镜头公差分析； (} 5S   41 分析报告查看说明； l?q%?v8   42 公差脚本的使用；
@5[kcU>   21 序列模式棱镜建模； 5&e<#"   [F[K^xYTlg   22 扫描反射镜设计实例；	Y&^P"Dw   43 镜头出图、CAD 出图； bI y sl   44 小结及答疑

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培训信息
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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。