光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 _ A#lyp  
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培训大纲 'v CMf  

z~~pH9=c2   01 OpticStudio 软件功能介绍; "9QZX[J|*   02 材料库、镜头库介绍； w{xa@Q]t-   03 如何定义新材料； 8M,@Mbn   04 如何使用镜头库；	PLz+%L;{   23 柯勒照明综合设计实例； T|D^kL%m!   24 投影系统设计 +75"Q:I   25 集光系统设计； /!?Tv8TPp   js Z"T   26 暗盒系统介绍；
&oHr]=xA   05 像差理论介绍； :Rv+Bm   06 Zemax 里像差分析图谱； M/9[P* VE   07 优化; g}R Cjl4   08 局部优化	{6RA~   27 分析工具应用； UF-'(   28 寻找最佳非球面 \zFCph 4   29 曲率套样板； |gu@b~8   ZX`x9/0&   30 镜头匹配工具；
D86F5HT}}   09 全局优化； 3%GsTq2o   10 锤形优化； oA~0"}eS   11 优化函数架构技巧； quaRVD>s +   12 单透镜优化实例	MaY_*[   31 Zemax 公差分析功能介绍; E#8|h(   32 加工误差、装配误差； &g23tT#P?   33 灵敏度分析; *C+[I   34 反灵敏度分析;
6|f8DX%3V   13 双胶合优化实例； KA{QGaZ/   14 热分析及衍射光学元件的使用; q. Jx|x   15 实例设计及分析； ftPhE)i   16 MTF	H!X*29nX   35 蒙特卡罗分析; ':_gYA   id : ^|   36 公差评价标准； cl&?'` )   37 公差操作数； =A'JIssk   38 补偿变量的使用；
CALD7qMK   17 双高斯镜头设计及优化； OAW_c.)5D   18 像质评价与图像模拟； |zP~/   19 坐标变换； =LK`mNA   20 坐标断点面的使用技巧	@}!?}QU   39 单透镜公差分析； {fl[BX]kZ   &1^~G0Rh\   40 库克镜头公差分析； `RE>gX   41 分析报告查看说明； 2W_[|.;'   42 公差脚本的使用；
.-& =\}^2l   21 序列模式棱镜建模； DA>nYj-s   R[v<mo[s   22 扫描反射镜设计实例；	w~crj$UM   43 镜头出图、CAD 出图； #4LTUVH   44 小结及答疑

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培训信息 u #}1 M  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。