光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 6 <&jY  
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培训大纲 z D&5R/I  

O3H~|R+^   01 OpticStudio 软件功能介绍; i7@qfe$fR   02 材料库、镜头库介绍； `U-i{i   03 如何定义新材料； 8=XfwwWHy<   04 如何使用镜头库；	`$V7AqX(   23 柯勒照明综合设计实例； "'38 9*-   24 投影系统设计 aI8k:FK"   25 集光系统设计； kJ ^)7_3   {R`,iWV   26 暗盒系统介绍；
Yc5{M*w   05 像差理论介绍； \SA"DT   06 Zemax 里像差分析图谱； P(H,_7 4   07 优化; pVuJ4+`   08 局部优化	CHeU`!:   27 分析工具应用； vkFfHzR$   28 寻找最佳非球面 wW5:p]<Y   29 曲率套样板； !uIT5D   N =k}"2_=   30 镜头匹配工具；
`gI`Cq4   09 全局优化； Rg4'9I%B   10 锤形优化； M]\p9p(_   11 优化函数架构技巧； sY @S   12 单透镜优化实例	?fO 2&)r   31 Zemax 公差分析功能介绍; Qi&!Ub]   32 加工误差、装配误差； y^M~zOe   33 灵敏度分析; 'A#`,^]uLF   34 反灵敏度分析;
z:Sr@!DZ   13 双胶合优化实例； Z0fl]3p   14 热分析及衍射光学元件的使用; Vfm (K   15 实例设计及分析； ql Z()   16 MTF	XaFu(Xu7   35 蒙特卡罗分析; - v\n0Jt   P=Au~2X   36 公差评价标准； ZS\jbii8   37 公差操作数；  bnll-G|   38 补偿变量的使用；
&C_0JyT   17 双高斯镜头设计及优化； ([Gb]0   18 像质评价与图像模拟； < 5%:/j   19 坐标变换； Tt,<@U[/}   20 坐标断点面的使用技巧	v37TDY3;   39 单透镜公差分析； qu}`;\9@ld   AOh\%|}   40 库克镜头公差分析； {J`]6ba   41 分析报告查看说明； 2(_+PQ6C=   42 公差脚本的使用；
p&Os5zw;|   21 序列模式棱镜建模； ~;m3i3D   XiP xg[;   22 扫描反射镜设计实例；	zli@XZ#   43 镜头出图、CAD 出图；  y">_$   44 小结及答疑

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培训信息 %/b3G*$W  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。