光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 )+2hl  
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培训大纲 JFk lUgg  

\P`hq^;   01 OpticStudio 软件功能介绍; 6,{$J   02 材料库、镜头库介绍； k+pr \d~   03 如何定义新材料； ^.NU|NQi'   04 如何使用镜头库；	~M4;   23 柯勒照明综合设计实例； ?<'}r7D    24 投影系统设计 "1M[5\Ax   25 集光系统设计； rh}J3S5vp   U\*J9   26 暗盒系统介绍；
9mTJ|sN:e   05 像差理论介绍； |8tilOqI   06 Zemax 里像差分析图谱； D!IY&H,wo   07 优化; WEi2=3dV   08 局部优化	A2jUmK.&   27 分析工具应用； *CI#+P   28 寻找最佳非球面 G*P#]eO   29 曲率套样板； 81 sG   [E juUElr   30 镜头匹配工具；
IB]l1<   09 全局优化； DN57p!z   10 锤形优化； oEZdd#*;   11 优化函数架构技巧； JrRH\+4K   12 单透镜优化实例	wEvVL   31 Zemax 公差分析功能介绍; 0^K">   32 加工误差、装配误差； a HR"n|7{   33 灵敏度分析; + @s"zp;F   34 反灵敏度分析;
RdRp.pb8   13 双胶合优化实例； ;@Y;g(bw:   14 热分析及衍射光学元件的使用; %/#NK1&M   15 实例设计及分析； _^%,x   16 MTF	'@k+ 4y9q?   35 蒙特卡罗分析; ZRU{[4   VQ9/Gxdeo   36 公差评价标准； 8NAON5.!   37 公差操作数； C1 GKLl~   38 补偿变量的使用；
Vb]=B~^`   17 双高斯镜头设计及优化； 8>in_h9   18 像质评价与图像模拟； Trz@~d/[,n   19 坐标变换； +*/Zu`kzX   20 坐标断点面的使用技巧	#fn)k1   39 单透镜公差分析； ?QdWrE_   p]2128kqx   40 库克镜头公差分析； R|87%&6']   41 分析报告查看说明； a'yK~;+_9   42 公差脚本的使用；
Wf>R&o6tr   21 序列模式棱镜建模； Iom'Y@x   +E(L\   22 扫描反射镜设计实例；	y,,dCca   43 镜头出图、CAD 出图； EaY?aAuS:   44 小结及答疑

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培训信息 p}pjfG  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 u.m[u)HQ  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。