光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 l-h7ksRs  
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培训大纲 dBq,O%$oq  

K?OX   01 OpticStudio 软件功能介绍; \FY De   02 材料库、镜头库介绍； 9B;Sk]y   03 如何定义新材料； owY_cDzrH   04 如何使用镜头库；	T#^6u)   23 柯勒照明综合设计实例； K~ /V   24 投影系统设计 B?YfOSF=5   25 集光系统设计； Lp]C![\>U   l'{goyf   26 暗盒系统介绍；
w>q_8V_K   05 像差理论介绍； 4a\+o]   06 Zemax 里像差分析图谱； ? QIQ,?.   07 优化; !zJ67-G   08 局部优化	m}'@S+k^   27 分析工具应用； v*]Xur6e}   28 寻找最佳非球面 jeBj    29 曲率套样板； |2&mvjk@H   r~Ubgd ]U   30 镜头匹配工具；
 x w83K   09 全局优化； +4p;4/=   10 锤形优化； 2?nyPqT3AM   11 优化函数架构技巧； [[DFEvOEh   12 单透镜优化实例	Z6A U%3]   31 Zemax 公差分析功能介绍; qlT:9*&g   32 加工误差、装配误差； MmX[xk   33 灵敏度分析; _,?HrL9   34 反灵敏度分析;
m)RxV@   13 双胶合优化实例； u]-El}*[   14 热分析及衍射光学元件的使用; .MPOUo/e   15 实例设计及分析； 1'pQ,   16 MTF	z}N^`_ *   35 蒙特卡罗分析; s ;Nu2aOp7   8A]q!To   36 公差评价标准； juYt =   37 公差操作数； %LlKi5u]   38 补偿变量的使用；
`l0icfy   17 双高斯镜头设计及优化； ^a5~FI:   18 像质评价与图像模拟； I%*Zj,>   19 坐标变换； pR7G/]U$A   20 坐标断点面的使用技巧	pG=zGx4   39 单透镜公差分析； "Ksd9,J\b   W&[9x%Ba   40 库克镜头公差分析； 9>, \QrrH   41 分析报告查看说明； H$iMP.AK   42 公差脚本的使用；
F+-MafN7Y   21 序列模式棱镜建模； xx#Ef@bS   a2)*tbM9\   22 扫描反射镜设计实例；	[/^g) ^s:   43 镜头出图、CAD 出图； m{Xf_rQ w   44 小结及答疑

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培训信息 [o6<aE-  

• UM^hF%  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• I`lH6hHp  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 c
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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。