光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 Uo
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培训大纲 gJC~$/2  

Ufr,6IX   01 OpticStudio 软件功能介绍; 7U,[Ruu   02 材料库、镜头库介绍； 82*nC!P3E   03 如何定义新材料； V>Vu)7   04 如何使用镜头库；	?|NMJQsa7   23 柯勒照明综合设计实例； yT<,0~F9   24 投影系统设计 {\62c;.   25 集光系统设计； |%l&H/   &kp`1kv":   26 暗盒系统介绍；
a*(,ydF|L   05 像差理论介绍； =)mA.j}E2   06 Zemax 里像差分析图谱； <tx`#,   07 优化; xg8$ <Ut   08 局部优化	&b:SDl6   27 分析工具应用； d$T856   28 寻找最佳非球面 la}Xo0nq0+   29 曲率套样板； ;xxu,   dn}'B%   30 镜头匹配工具；
>#Ue`)d`aY   09 全局优化； !}pvrBS   10 锤形优化； @D@_PA)e(   11 优化函数架构技巧； xjK@Q1MJ   12 单透镜优化实例	gHmy?+)   31 Zemax 公差分析功能介绍; KqhE=2,   32 加工误差、装配误差； sRKoM   33 灵敏度分析;  dp DPSI   34 反灵敏度分析;
*)u%KYGr   13 双胶合优化实例； 1 ` ={**   14 热分析及衍射光学元件的使用; M>_ U9g   15 实例设计及分析； e` {F7rd:   16 MTF	@h)Z8so   35 蒙特卡罗分析; 3K{G=WE$   GA+#'R   36 公差评价标准； Yx"un4   37 公差操作数； w6&p4Jw/H?   38 补偿变量的使用；
k!)Pl,nJ   17 双高斯镜头设计及优化； bTepTWv   18 像质评价与图像模拟； (F=q/lK$   19 坐标变换； 1}ER+;If   20 坐标断点面的使用技巧	w gU2q|   39 单透镜公差分析； 7+;CA+;   Bh ,GQHJ   40 库克镜头公差分析； '<-F 3   41 分析报告查看说明； L|]!ULi$d   42 公差脚本的使用；
caD)'FSES   21 序列模式棱镜建模； 9AP."RV   U#>K(   22 扫描反射镜设计实例；	UR<a7j"@2   43 镜头出图、CAD 出图； Pe ?=M[u2   44 小结及答疑

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培训信息 #,B+&SK{  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。