光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 y!kM#DC^  
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培训大纲 4+au6ABy  

{IQCA-AI   01 OpticStudio 软件功能介绍; }U$p[Gi<   02 材料库、镜头库介绍； 8MCSU'uQ   03 如何定义新材料； 3HB(rTw   04 如何使用镜头库；	9X87"   23 柯勒照明综合设计实例； qF4pTQf   24 投影系统设计 6s&%~6J,   25 集光系统设计； ziD+% -   Rm=[Sj84   26 暗盒系统介绍；
1&JB@F9 !   05 像差理论介绍； qISzn04   06 Zemax 里像差分析图谱； `xu/|})KI   07 优化; Ec|5'Kz]   08 局部优化	__,}/|K2   27 分析工具应用； +FtL_7[v   28 寻找最佳非球面 AO^c=^   29 曲率套样板； "?Xb$V7   REKv&^FLN   30 镜头匹配工具；
)Xd2qbi   09 全局优化； FLOSdMYdw   10 锤形优化； ,2^zX]dgM   11 优化函数架构技巧； C-L["O0[   12 单透镜优化实例	HXRK<6k$   31 Zemax 公差分析功能介绍; c^BeT;   32 加工误差、装配误差； "%{J$o   33 灵敏度分析; -nC!kpo   34 反灵敏度分析;
e(sV4Z~   13 双胶合优化实例； B}2JK9   14 热分析及衍射光学元件的使用; u7ER   15 实例设计及分析；  9/R<,   16 MTF	.eM A*C~n   35 蒙特卡罗分析;  Q~AK0W   *heX[D &>)   36 公差评价标准； 'Lv>!s 7   37 公差操作数； gIaPS0Q   38 补偿变量的使用；
dnUiNs8   17 双高斯镜头设计及优化； ;l2pdP4 jf   18 像质评价与图像模拟； b>"=kN/   19 坐标变换； s9}VnNr   20 坐标断点面的使用技巧	X|X~|&j   39 单透镜公差分析； <MoKTP-<   qox31pnS   40 库克镜头公差分析； E7UYJ)6]   41 分析报告查看说明； ,mW-O!$3W   42 公差脚本的使用；
V61.UEN   21 序列模式棱镜建模； L BP|   {pW(@4U   22 扫描反射镜设计实例；	.jjvS   43 镜头出图、CAD 出图； Fl&Z}&5p   44 小结及答疑


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培训信息 ^zVBS7`J  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。