光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 8{sGNCvU  
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培训大纲 tGa8W  

zK@@p+n_#.   01 OpticStudio 软件功能介绍; 3 Za}b|   02 材料库、镜头库介绍； [{,1=AB   03 如何定义新材料； ~Mxvq9vaD   04 如何使用镜头库；	wbl&   23 柯勒照明综合设计实例； wnC81$1l~   24 投影系统设计 *$g-:ILRuZ   25 集光系统设计； }5"u[Z.   J)-x!y>   26 暗盒系统介绍；
&tj!*k'   05 像差理论介绍； k9L;!TH~1K   06 Zemax 里像差分析图谱； ]c'A%:f<   07 优化; 4Fr   08 局部优化	/j.9$H'y   27 分析工具应用； Q^")jPd   28 寻找最佳非球面 S)@j6(HC4   29 曲率套样板； C,4e"yynb   3^yK!-Wp(   30 镜头匹配工具；
G"A#Q"   09 全局优化； F:S}w   10 锤形优化； o`-msz   11 优化函数架构技巧； UkFC~17P   12 单透镜优化实例	LKDO2N   31 Zemax 公差分析功能介绍; A.w.rVDD   32 加工误差、装配误差； Z *x'+X   33 灵敏度分析; 7@W>E;go   34 反灵敏度分析;
;aVZ"~a+\   13 双胶合优化实例； l.M0`Cn-%   14 热分析及衍射光学元件的使用; JB<t6+"rD   15 实例设计及分析； dSHDWu&   16 MTF	TB31- ()   35 蒙特卡罗分析; } 0y"F   do'GlU oMC   36 公差评价标准； $[ *w"iQ   37 公差操作数； 7b+6%fV   38 补偿变量的使用；
O;3>sLgc   17 双高斯镜头设计及优化； k+*u/neh   18 像质评价与图像模拟； a d\ot#V   19 坐标变换； cFXp   20 坐标断点面的使用技巧	xskz)kk   39 单透镜公差分析； MF'JeM;H   5[0?g@aO   40 库克镜头公差分析； v`T c}c '   41 分析报告查看说明； E2-\]?\F(   42 公差脚本的使用；
&UFZS94@r   21 序列模式棱镜建模； *{5fq_   uPvEwq* C   22 扫描反射镜设计实例；	+lTq^ 4   43 镜头出图、CAD 出图； |Y.?_lC   44 小结及答疑

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培训信息 :Hbv)tS\3w  

• yB!dp;gM{  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。