光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 Qu`n&  
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培训大纲 i|%5  

gA_krK,Z   01 OpticStudio 软件功能介绍; s|Zx(.EP   02 材料库、镜头库介绍； }&1Iyb   03 如何定义新材料； ;+ G9-   04 如何使用镜头库；	s;J\Kc?"|   23 柯勒照明综合设计实例； va5FxF*%   24 投影系统设计 4b4QbJ$   25 集光系统设计； CN/IH   ;W0]66&   26 暗盒系统介绍；
Vu[:A   05 像差理论介绍； 84'?um   06 Zemax 里像差分析图谱； Y;,Hzmbs6w   07 优化; }kE87x '   08 局部优化	=2,0Wo]$   27 分析工具应用； `@|w>8bMz{   28 寻找最佳非球面 kg3ppt   29 曲率套样板； 0O~p7D   )Pli})   30 镜头匹配工具；
&3Tx@XhO   09 全局优化； :mpiAs<%U"   10 锤形优化； &EovZ@u   11 优化函数架构技巧； VFO\4:.   12 单透镜优化实例	&!jq!u$(   31 Zemax 公差分析功能介绍; oEu>}JD   32 加工误差、装配误差； 'S?;J ,/   33 灵敏度分析; f7J,&<<5w   34 反灵敏度分析;
cx^{/U?9}   13 双胶合优化实例； YsP/p-   14 热分析及衍射光学元件的使用; B!bsTvX   15 实例设计及分析； )47MFNr~>   16 MTF	?+r!z   35 蒙特卡罗分析; 5h8o4   m=TJDr-   36 公差评价标准； TY.FpW   37 公差操作数； Z^zbWFO ]5   38 补偿变量的使用；
t};~H\:   17 双高斯镜头设计及优化； rGlRAn#?,   18 像质评价与图像模拟； t)N;'v &   19 坐标变换； k=/eM$":   20 坐标断点面的使用技巧	4DLq}v   39 单透镜公差分析； -[R!O'N9   nxaT.uFd1   40 库克镜头公差分析； Bf]$X>d   41 分析报告查看说明； +;q.Y?   42 公差脚本的使用；
>qR~ '$,$   21 序列模式棱镜建模； g:<?   )"`!AerJ   22 扫描反射镜设计实例；	R8 &|+ya   43 镜头出图、CAD 出图； \M(*=5   44 小结及答疑

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培训信息 *Oo &}oAj  

• e*]r  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

• 8]< f$3.  
  报名方式：扫码报名

【备注】 9"sDm}5%  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。