光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 kB@gy}  
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培训大纲 "W+>?u)  

F,S)P`?   01 OpticStudio 软件功能介绍; Y(6evo&IR   02 材料库、镜头库介绍； $rW(*#C   03 如何定义新材料； 26aDPTP$<   04 如何使用镜头库；	_(J#RH   23 柯勒照明综合设计实例； MUl7o@{'   24 投影系统设计 >U*p[FGW   25 集光系统设计； | I:@:   _s@PL59,   26 暗盒系统介绍；
e4=FO;%   05 像差理论介绍； ':_9o5I   06 Zemax 里像差分析图谱； +:^l|6%}   07 优化; Eo J\Jk   08 局部优化	9+9g(6   27 分析工具应用； '/qy_7O   28 寻找最佳非球面 H'#06zP>5   29 曲率套样板； 8: c=h/fa   $Z)u04;&@   30 镜头匹配工具；
0#TL$?=|   09 全局优化； eef&ZL6g   10 锤形优化； ^=^\=9" b   11 优化函数架构技巧； lv/ im/]v   12 单透镜优化实例	kF^4kCJ@   31 Zemax 公差分析功能介绍; h%F.h![*   32 加工误差、装配误差； (8m_GfT   33 灵敏度分析; O'(Us!aq   34 反灵敏度分析;
g(i6Uj~)   13 双胶合优化实例； O0jOI3/P%   14 热分析及衍射光学元件的使用; E`_T_O=P   15 实例设计及分析； >z%YKdq   16 MTF	9NwUXh(:(   35 蒙特卡罗分析; ]:LlOv$   mOj;0 R   36 公差评价标准； &Cb,C+q   37 公差操作数； 8>WA5:]v   38 补偿变量的使用；
(rhlK} C   17 双高斯镜头设计及优化； XcT!4xG0   18 像质评价与图像模拟； t[+bZUS$~   19 坐标变换； plPPf+\   20 坐标断点面的使用技巧	ZMlBd}H   39 单透镜公差分析； 8<}=f4vUj5   ^cNuEF9   40 库克镜头公差分析； OF`J{`{r   41 分析报告查看说明； uz+WVmb   42 公差脚本的使用；
^z!=,M<+{   21 序列模式棱镜建模； c! kr BS   eb`3'&zV&)   22 扫描反射镜设计实例；	./;uhj   43 镜头出图、CAD 出图； RK-bsf   44 小结及答疑

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培训信息 Gn4b*Y&M]3  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。