光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ;~"FLQg@  
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培训大纲 v#.r.{t  

f ` R/ i   01 OpticStudio 软件功能介绍; KTP8?Q"n0   02 材料库、镜头库介绍； (>r[-Bft   03 如何定义新材料； (+B5|_xQu   04 如何使用镜头库；	13@|w1/Z   23 柯勒照明综合设计实例； m06ALD_   24 投影系统设计 +R|z{M)*   25 集光系统设计； .w0s%T,8}^   Kac' ; 1   26 暗盒系统介绍；
MOn   05 像差理论介绍； a>GyO&+Dkg   06 Zemax 里像差分析图谱； zxC#0@qX07   07 优化; w]]8dz   08 局部优化	[/e<l&y   27 分析工具应用；  \4v]7SV   28 寻找最佳非球面 mG Jasn   29 曲率套样板； f}x.jxY?   LUqB&,a}   30 镜头匹配工具；
4<k9?)~(J   09 全局优化； FLGk?.x$\   10 锤形优化； `QyO`y=?[Y   11 优化函数架构技巧； ;4.!H,d   12 单透镜优化实例	1+}{8D_F   31 Zemax 公差分析功能介绍; Of4^?` ^   32 加工误差、装配误差； b/C`Jp   33 灵敏度分析; ~])t 6i   34 反灵敏度分析;
v 8$>rwB   13 双胶合优化实例； 4`!Z$kt   14 热分析及衍射光学元件的使用; gK[YQXfTy   15 实例设计及分析； U$_xUG   16 MTF	?XA 2&   35 蒙特卡罗分析; Ry%Mej:   A'jP7P   36 公差评价标准； bdQ_?S(   37 公差操作数； 4cl\^yD   38 补偿变量的使用；
ug+io mZ   17 双高斯镜头设计及优化； K95p>E`9e   18 像质评价与图像模拟； (Q.waI   19 坐标变换； ^yyC [Mz   20 坐标断点面的使用技巧	cm&I* 0\   39 单透镜公差分析； YKO){f5   fjs [f'L   40 库克镜头公差分析； =8; {\   41 分析报告查看说明； uF1~FKB   42 公差脚本的使用；
7z!tKs"TMT   21 序列模式棱镜建模； =jX8.K4]   Aq0S-HKF   22 扫描反射镜设计实例；	Ahk8   43 镜头出图、CAD 出图； ]dI2y=[!C   44 小结及答疑

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培训信息 /4` 0?/V  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。