光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ;x+4jpH]B  
Mzxz-cE  
培训大纲 Xb|hP  

yu}4L'e   01 OpticStudio 软件功能介绍; jY ^ndr0;   02 材料库、镜头库介绍； ^{Syg;F=   03 如何定义新材料； |Zkcs]8M!   04 如何使用镜头库；	h1)p{5}H   23 柯勒照明综合设计实例； i.K}(bo;b   24 投影系统设计 dqd Qt_   25 集光系统设计； /<|J\G21   UPJgTN*   26 暗盒系统介绍；
,wZ[Y 3   05 像差理论介绍； T5Pc2 R   06 Zemax 里像差分析图谱； <<n8P5pXt   07 优化; = ng\   08 局部优化	QC ]z--wu   27 分析工具应用； E* RP8   28 寻找最佳非球面 ;Oe6SNquT   29 曲率套样板； PB }$.8   :4)mv4Q   30 镜头匹配工具；
TzX>d<x   09 全局优化； 5'oWd e   10 锤形优化； G?jY>;P)   11 优化函数架构技巧； Z\dILt:#z   12 单透镜优化实例	NK"y@)%0   31 Zemax 公差分析功能介绍; (S9"(\A   32 加工误差、装配误差； 3OM\R%M   33 灵敏度分析; i<%(Z[9Lk   34 反灵敏度分析;
@h^5*M   13 双胶合优化实例； 1l1 X1   14 热分析及衍射光学元件的使用; {9C(\i +   15 实例设计及分析； M~ * E!   16 MTF	q D`')=   35 蒙特卡罗分析; ;5 IS58L   TXrC5AJx   36 公差评价标准； !pDS*{)E   37 公差操作数； Yz%=   38 补偿变量的使用；
]YOQIzkL4}   17 双高斯镜头设计及优化； :_^9.`   18 像质评价与图像模拟； >1joCG~   19 坐标变换； 9rA3qj%   20 坐标断点面的使用技巧	FK mFjqY   39 单透镜公差分析； uP+ j_is   Li<c   40 库克镜头公差分析； 39k P)cD   41 分析报告查看说明； #uey1I@"9   42 公差脚本的使用；
,ew<T{PL   21 序列模式棱镜建模； L6Ynid.k   UbMcXH8=F   22 扫描反射镜设计实例；	'*)!&4f   43 镜头出图、CAD 出图； u# %7>=   44 小结及答疑

xnh%nv<v{  
y{jv-&!xB  
培训信息 NWoZDsu  

• B /Dj2  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• Qt@~y'O  
  培训主题：Zemax 成像设计
• CQv [Od  
  培训形式：线上培训
• %*jpQOw  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• EH,uX{`e  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

I s8|  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• RA\H?1;8C  
  报名方式：扫码报名

【备注】 :mg#&MZj<  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。