光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 :n@j"-HA  
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培训大纲 F4Jc7k2  

]Wn^m+   01 OpticStudio 软件功能介绍; ?1+JBl~/d   02 材料库、镜头库介绍； &zGf`Zi6*%   03 如何定义新材料； dKKh^D`~   04 如何使用镜头库；	;w\7p a   23 柯勒照明综合设计实例； M/O4JZEqh   24 投影系统设计 fj/sN HU   25 集光系统设计； s>pOfXIx   .<0s?Q   26 暗盒系统介绍；
, Ww\C   05 像差理论介绍； f3g#(1   06 Zemax 里像差分析图谱； 7W{xK'|]   07 优化; tA*hh"9   08 局部优化	 ;8?i   27 分析工具应用； v#HaZT]u   28 寻找最佳非球面 J ejDF*Q   29 曲率套样板； ]bPj%sb*@   M;14s*g   30 镜头匹配工具；
mKsTA;   09 全局优化； O%w"bEr)N   10 锤形优化； "*ot:;I   11 优化函数架构技巧； C( ay7   12 单透镜优化实例	(%i)A$i6a   31 Zemax 公差分析功能介绍; Q|!}&=   32 加工误差、装配误差； YY&3M   33 灵敏度分析; stb)Tl^   34 反灵敏度分析;
gK`o;` ^   13 双胶合优化实例； Usa   14 热分析及衍射光学元件的使用; ftL>oOz[   15 实例设计及分析； X2Z E9b   16 MTF	v P_V%5~yN   35 蒙特卡罗分析; J?Ed^B-   tt|v opz   36 公差评价标准； `]+-z+   37 公差操作数； [RZ}9`V   38 补偿变量的使用；
)Mtw 9[   17 双高斯镜头设计及优化； o(2tRDT\_b   18 像质评价与图像模拟； wFgL\[$^|   19 坐标变换； Q%seV<!/   20 坐标断点面的使用技巧	mt0ZD}E   39 单透镜公差分析； ^/)!)=?   oAMB}a;   40 库克镜头公差分析； !<ae~#]3P   41 分析报告查看说明； A3\%t@y   42 公差脚本的使用；
Ap{2*o   21 序列模式棱镜建模； m((A   SM<kR1bo   22 扫描反射镜设计实例；	ndsu}:my   43 镜头出图、CAD 出图； rvdhfM!-A   44 小结及答疑

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培训信息 5i 6*$#OM_  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。