光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 kOo>Iy  
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培训大纲 Rs`Vr_?Hk  

~oEXM?M   01 OpticStudio 软件功能介绍; ^[k6] 1h   02 材料库、镜头库介绍； kO /~i   03 如何定义新材料； ?+5" %4o   04 如何使用镜头库；	bEBZ!ghU   23 柯勒照明综合设计实例； >1_Dk7E0D   24 投影系统设计 0V{>)w!Fo   25 集光系统设计； 6nM rO$i0k   VGq{y{(   26 暗盒系统介绍；
[~zE,!   05 像差理论介绍； .N?|t$J   06 Zemax 里像差分析图谱； k fH9Y%bOy   07 优化; 1c1e+H   08 局部优化	9aW8wYL~b   27 分析工具应用； BA`kxL /x   28 寻找最佳非球面 J@=!w[v+   29 曲率套样板； bEOOFs   i4 y(H   30 镜头匹配工具；
W\d0   09 全局优化； #c8"   10 锤形优化； Br_3qJNVP   11 优化函数架构技巧； %D%e:se   12 单透镜优化实例	1\"BvFE*E~   31 Zemax 公差分析功能介绍; AX!Md:s   32 加工误差、装配误差； EBN]>zz   33 灵敏度分析; o(S^1j5   34 反灵敏度分析;
Th I   13 双胶合优化实例； 8' WLm   14 热分析及衍射光学元件的使用; { EiG23!qV   15 实例设计及分析； *,Aa9wa{   16 MTF	si+5h6I.}   35 蒙特卡罗分析; ^MF=,U'8   gu~-}   36 公差评价标准； \`p|, j   37 公差操作数； #,Fx@3y\a   38 补偿变量的使用；
FQv0 2V+&<   17 双高斯镜头设计及优化； hfP(N_""S   18 像质评价与图像模拟； b*$o[wO9   19 坐标变换； ]lG_rGw   20 坐标断点面的使用技巧	TLR Lng   39 单透镜公差分析； jb6ZAT<8   T`0`]z!~   40 库克镜头公差分析； G5X|JTzpu<   41 分析报告查看说明； $P1d#;rb%   42 公差脚本的使用；
*(_ON$+3   21 序列模式棱镜建模； Hf`&&   )aO!cQ{s   22 扫描反射镜设计实例；	<#J<QYF&2   43 镜头出图、CAD 出图； Cys/1DkE   44 小结及答疑

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培训信息 .5$V7t.t$\  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。