光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 h+.{2^x  
mM.*b@d-  
培训大纲 Bm$"WbOq*R  

?,P3)&3g   01 OpticStudio 软件功能介绍; j!~l,::$"X   02 材料库、镜头库介绍； uf<@ruN   03 如何定义新材料； TQX)?^Ft   04 如何使用镜头库；	$\o{_?}1   23 柯勒照明综合设计实例；  @4d)R   24 投影系统设计 zIC;7 5#   25 集光系统设计； UEs7''6R M   'mCe=Y   26 暗盒系统介绍；
YG:3Fhx0~   05 像差理论介绍； >%p{38   06 Zemax 里像差分析图谱； S0h'50WteJ   07 优化; @5 3k8   08 局部优化	WtQ8X|\`   27 分析工具应用； Jk|Q`h   28 寻找最佳非球面 [%~ :@m   29 曲率套样板； {u{@jp   %V&n*3   30 镜头匹配工具；
~I/@i   09 全局优化； _EnwME{@   10 锤形优化； L$'[5"ma ;   11 优化函数架构技巧； .Ig+Dj{)   12 单透镜优化实例	H~eRT1   31 Zemax 公差分析功能介绍; mC&=X6Q]   32 加工误差、装配误差； (@X~VACT   33 灵敏度分析; dF0,Y?   34 反灵敏度分析;
m p<1yY]   13 双胶合优化实例； &*G<a3Q   14 热分析及衍射光学元件的使用; ~ *:F{   15 实例设计及分析； i"zuil   16 MTF	-U~    35 蒙特卡罗分析; G)#$]diNuX   ?7:KphFX)   36 公差评价标准； Y^Nuz/   37 公差操作数； waX>0e   38 补偿变量的使用；
v}@xlB=   17 双高斯镜头设计及优化； ~ vLW.:   18 像质评价与图像模拟； rn DCqv!'P   19 坐标变换； W)'*m-I   20 坐标断点面的使用技巧	V^y^ ;0I}[   39 单透镜公差分析； Z UKf`m[   U<XSj#&8|   40 库克镜头公差分析； hPq%Lc   41 分析报告查看说明； @3fn)YQ'   42 公差脚本的使用；
G6V F>2   21 序列模式棱镜建模； (>J4^``x=   }'r[m5T   22 扫描反射镜设计实例；	]v[|B   43 镜头出图、CAD 出图； $'W}aER   44 小结及答疑

jF`BjxrG  
l1ZY1#%j  
培训信息 f>'Y(dJ'W  

• A5,t+8`aci  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 8x`.26p  
  培训主题：Zemax 成像设计
• Bwr3jV?S  
  培训形式：线上培训
• yx V:!gl  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• q'pK,uNW  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

bo.(zAz  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• =4GSg1Biy  
  报名方式：扫码报名

【备注】 IH$0)g;s  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。