光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 SJ};TEA  
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培训大纲 jD`d#R  

zdEPDdB   01 OpticStudio 软件功能介绍; {nvLPUL   02 材料库、镜头库介绍； f4guz   03 如何定义新材料； BZXUwqEh   04 如何使用镜头库；	jvV9eA:zl   23 柯勒照明综合设计实例； %bD}m!   24 投影系统设计 }Iz7l{al   25 集光系统设计； ~2zMkVH   ,+ #6Y_   26 暗盒系统介绍；
DVkB$2 ]   05 像差理论介绍； ~~6^Sh60g   06 Zemax 里像差分析图谱； a /:@"&Y   07 优化; !grVR157P   08 局部优化	&09U@uc$   27 分析工具应用； ,s_T pq   28 寻找最佳非球面 Zb134b '   29 曲率套样板； x $zKzfHW   L:k9#6   30 镜头匹配工具；
F1Hh7 F   09 全局优化； >N?2""   10 锤形优化； jh.@-   11 优化函数架构技巧； !Y:0c#MPH   12 单透镜优化实例	hAjM1UQ,Y   31 Zemax 公差分析功能介绍; j$7Xs"   32 加工误差、装配误差； W(Uu@^   33 灵敏度分析; @5[kcU>   34 反灵敏度分析;
|/|   13 双胶合优化实例； [F[K^xYTlg   14 热分析及衍射光学元件的使用; *\ o/q[   15 实例设计及分析； J-<^P5   16 MTF	S#-tOjU*   35 蒙特卡罗分析; .<K iMh   N*@aDM07   36 公差评价标准； MCP "GZK6W   37 公差操作数； /2RajsK   38 补偿变量的使用；
zA;@@)hwR   17 双高斯镜头设计及优化； gn{=%`[   18 像质评价与图像模拟； \G2B?>E;   19 坐标变换； Go&D[#   20 坐标断点面的使用技巧	7'-j%!#w   39 单透镜公差分析； ,\aUq|~   @Fpb-Qd"   40 库克镜头公差分析； :~ A%#   41 分析报告查看说明； 62>zt2=   42 公差脚本的使用；
3F#+~^2   21 序列模式棱镜建模； 4A3nO<oMF   )kJH5/   22 扫描反射镜设计实例；	4W# E`9 6u   43 镜头出图、CAD 出图； HSIvWhg?p   44 小结及答疑

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培训信息 RuG-{NF{F  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 dtAbc7
 
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。