光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 3_ ZlZ_Tq  
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培训大纲 ~X<?&;6  

Yy'CBIq#f   01 OpticStudio 软件功能介绍; (>SucUU   02 材料库、镜头库介绍； 9UCA&n   03 如何定义新材料； )lH`a   04 如何使用镜头库；	Vr:`?V9Q2(   23 柯勒照明综合设计实例； b ;>?m   24 投影系统设计 9/h[ (qvT   25 集光系统设计； !;Vqs/E   oTg 'N   26 暗盒系统介绍；
z#B(1uI   05 像差理论介绍； %J8uVD.2   06 Zemax 里像差分析图谱； tu's]3RE   07 优化; 8osP$"/o   08 局部优化	v Q51-.g   27 分析工具应用； @^.o8+Pp   28 寻找最佳非球面 5><T#0W?   29 曲率套样板； bTMgEY   TPn#cIPG   30 镜头匹配工具；
7$mB.\|   09 全局优化； \U>|^$4 #5   10 锤形优化； (SMk!b]}   11 优化函数架构技巧； H.< F6   12 单透镜优化实例	Zi}jf25   31 Zemax 公差分析功能介绍; ue*o>iohB   32 加工误差、装配误差； "fC>]iA8I   33 灵敏度分析; LKBh{X0%(   34 反灵敏度分析;
`<-/e%8   13 双胶合优化实例； :{9HsF"h0   14 热分析及衍射光学元件的使用; av bup   15 实例设计及分析； F#^/=AR'   16 MTF	1&RB=7.h   35 蒙特卡罗分析; S3s6   %-[*G;c'w   36 公差评价标准； Z*'<9l_1   37 公差操作数； 3oV2Ek<d   38 补偿变量的使用；
LkWY6 ?$U   17 双高斯镜头设计及优化； ~gaWZQXyu   18 像质评价与图像模拟； s Fx0   19 坐标变换； |rI;OvZ\   20 坐标断点面的使用技巧	OAaLCpRp   39 单透镜公差分析； eo~b]D   `Hqgahb{P   40 库克镜头公差分析； WmkCV+thA   41 分析报告查看说明； ??f,(om   42 公差脚本的使用；
}tL]EW^   21 序列模式棱镜建模； Uy|Tu~   R'pfA B|!   22 扫描反射镜设计实例；	0mNL!"   43 镜头出图、CAD 出图； V jd(Z   44 小结及答疑

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培训信息 Vh
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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 NkoyEa/^[  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。