光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 kybDw{(}gc  
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培训大纲 U5;Y o+z  

:w9s bW   01 OpticStudio 软件功能介绍; i7O8f^|   02 材料库、镜头库介绍； NHD`c)Q   03 如何定义新材料； (7|!%IO.   04 如何使用镜头库；	N}\3UHtO   23 柯勒照明综合设计实例； !h+VbZ   24 投影系统设计 -pN'r/$3V   25 集光系统设计； o[k,{`M0   j>O!|V   26 暗盒系统介绍；
6M6r&,yRu   05 像差理论介绍； q[~+Z m   06 Zemax 里像差分析图谱； (p?B=   07 优化; 26-K:"   08 局部优化	P?M WT]fY   27 分析工具应用； MgQb" qx   28 寻找最佳非球面 . L]!*   29 曲率套样板； kIH)>euZ   3Ebk q[/*%   30 镜头匹配工具；
u[LsH   09 全局优化； ]]V|]}<)m   10 锤形优化； cG4$)q;q   11 优化函数架构技巧； 90 pt'Jg   12 单透镜优化实例	g:[yA{ Eh   31 Zemax 公差分析功能介绍; `;3fnTI:1   32 加工误差、装配误差； 71k>_'fl   33 灵敏度分析; i/q1>   34 反灵敏度分析;
FrQRHbp3   13 双胶合优化实例； } &/_ S   14 热分析及衍射光学元件的使用; $McbVn)~f   15 实例设计及分析； LVNJlRK   16 MTF	pa6-3c   35 蒙特卡罗分析; Qr]`flQ8   F44KbUH   36 公差评价标准； $w ,^q+   37 公差操作数； Bpdx]5qfK   38 补偿变量的使用；
]t.6bb4   17 双高斯镜头设计及优化； ??? ;H   18 像质评价与图像模拟； R}0!F2   19 坐标变换； 52z{    20 坐标断点面的使用技巧	~|=goHmm[   39 单透镜公差分析； PG'+vl   dW"=/UW   40 库克镜头公差分析； zr1A4%S"   41 分析报告查看说明； )\fLS d   42 公差脚本的使用；
;Km74!.e7   21 序列模式棱镜建模； {*t0WE&1t   </)HcRj'e   22 扫描反射镜设计实例；	rI;tMNs   43 镜头出图、CAD 出图； y[I)hSD=   44 小结及答疑

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培训信息 U9:I"f,  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 ,p[9EW*8  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。