光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 A?H#bR
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培训大纲 =&z+7Pe[  

7GOBb|   01 OpticStudio 软件功能介绍; 8Yh'/,o=L#   02 材料库、镜头库介绍； bzFac5n)Q   03 如何定义新材料； G*I   04 如何使用镜头库；	>qo!#vJc a   23 柯勒照明综合设计实例； h mRmU{(Y   24 投影系统设计 &DWSf`:Hx   25 集光系统设计； 9\4x<*   /oT~CB..   26 暗盒系统介绍；
YVMvT>/,   05 像差理论介绍； `;j1H<L   06 Zemax 里像差分析图谱； SE+hB   07 优化; !T,<p    08 局部优化	)#m{"rk[x,   27 分析工具应用； /o9it;   28 寻找最佳非球面 h9QM nH'   29 曲率套样板； f)*?Ji|5F   (%X *b.n=   30 镜头匹配工具；
!-lI<$S:   09 全局优化； I{89chi   10 锤形优化； pTCD1)   11 优化函数架构技巧； R!M'   12 单透镜优化实例	6 TW<,SM   31 Zemax 公差分析功能介绍; y|| n9   32 加工误差、装配误差； d_25]B(   33 灵敏度分析; v6 U!(x   34 反灵敏度分析;
Gd 4S7JE   13 双胶合优化实例； cg8/v:B   14 热分析及衍射光学元件的使用; $mPR)T   15 实例设计及分析； l$gJ^Wf2gY   16 MTF	epsRv&LfC   35 蒙特卡罗分析; =FzmifTc   Z ?+ )ox   36 公差评价标准； T \/^4N`   37 公差操作数； v@{y}   38 补偿变量的使用；
BQ6$T&   17 双高斯镜头设计及优化； }!iopu   18 像质评价与图像模拟； PA^*|^;Xh   19 坐标变换； ! v![K    20 坐标断点面的使用技巧	T B>_#+:   39 单透镜公差分析； 7KlL%\   8WytvwB}   40 库克镜头公差分析； -9om,U`t   41 分析报告查看说明； >GIQT?O6   42 公差脚本的使用；
Yb5U^OjyJ   21 序列模式棱镜建模； lf(+]k30   ._0$#J S[   22 扫描反射镜设计实例；	"o--MBq4   43 镜头出图、CAD 出图； ^VYR} 1Mw   44 小结及答疑

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培训信息 aG7Lm2{c"  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 l3u[  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。