光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 T|h!06   
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培训大纲 NX(+%EBcA
 

5Rw2/J L   01 OpticStudio 软件功能介绍; G,P k3>I'   02 材料库、镜头库介绍； &FOq c   03 如何定义新材料； }aa]1X(u   04 如何使用镜头库；	5W|wDy   23 柯勒照明综合设计实例； HN/YuP03[   24 投影系统设计 CH!\uK22   25 集光系统设计； mAW(j@5sp   Bfdfw+   26 暗盒系统介绍；
>c Tt2v   05 像差理论介绍； Xg1TX_3Ml   06 Zemax 里像差分析图谱； ?G~rYETvw   07 优化; b%"/8rK   08 局部优化	TxN+-< f   27 分析工具应用； Iix: Y}   28 寻找最佳非球面 x5smJ__/   29 曲率套样板； ;O~FiA~`c   N.]~%)K:{   30 镜头匹配工具；
aL;zN%Tw   09 全局优化； Ge?DD,ac   10 锤形优化； 9fTl6?x   11 优化函数架构技巧； fU%Ys9:wU   12 单透镜优化实例	edpRx"_   31 Zemax 公差分析功能介绍; =^*EM<WG)   32 加工误差、装配误差； H=WB6~8)   33 灵敏度分析; iK1{SgXrFI   34 反灵敏度分析;
47*2QL^zj   13 双胶合优化实例； B>d49(jy   14 热分析及衍射光学元件的使用; 5S&Qj7kr   15 实例设计及分析； ouoIbA9X   16 MTF	MZA%ET,l,<   35 蒙特卡罗分析; ('BB9#\t   g26_#4 P   36 公差评价标准； zp'hA   37 公差操作数； d_Zj W   38 补偿变量的使用；
9h-S,q!   17 双高斯镜头设计及优化； ;H71A[M T   18 像质评价与图像模拟； %a0q|)Nrj   19 坐标变换； 6MU;9|&   20 坐标断点面的使用技巧	yU7XX+cB7   39 单透镜公差分析； N~`r;E   'aD"v>   40 库克镜头公差分析； Sa.nUj{M=   41 分析报告查看说明； Zg4wd/y?   42 公差脚本的使用；
5RO6YxQ   21 序列模式棱镜建模； uP8 cW([   e(1{W P   22 扫描反射镜设计实例；	g%m-*v*   43 镜头出图、CAD 出图；  myOW^   44 小结及答疑

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培训信息 tId,Q>zH  

• D0S^Msk9L  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• RCK*?\m5  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 +[S<"}ls7  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。