光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中  t}*
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培训大纲 eN7yjd'Y6  

+LU).   01 OpticStudio 软件功能介绍; 07E".T%Ts   02 材料库、镜头库介绍； \t7zMp   03 如何定义新材料； QRn:=J%W W   04 如何使用镜头库；	OHXeqjhy   23 柯勒照明综合设计实例； Sd/d [   24 投影系统设计 '!2   25 集光系统设计； (kD?},Z   e>s.mH6A   26 暗盒系统介绍；
>LRaIU >   05 像差理论介绍； kdZ-<O7@   06 Zemax 里像差分析图谱； CH|g    07 优化; %.r5E2'   08 局部优化	gP"Mu#/D   27 分析工具应用； 4<!}4   28 寻找最佳非球面 <=LsloI   29 曲率套样板； FCw VVF0y   A&@jA5Jb   30 镜头匹配工具；
{Rh+]=7   09 全局优化； K<fq=:I3   10 锤形优化；  I$sm5oL   11 优化函数架构技巧； ~wQ WWRk   12 单透镜优化实例	Wg3WE1V   31 Zemax 公差分析功能介绍; YfYL?G   32 加工误差、装配误差； S4AB tKG   33 灵敏度分析; W(3~F2   34 反灵敏度分析;
?R~Ye   13 双胶合优化实例； GCmVmOdKr   14 热分析及衍射光学元件的使用; X/C54%T ~   15 实例设计及分析； " kJWWR   16 MTF	>0G}, S   35 蒙特卡罗分析; (Su2\x   ^[,1+WS%   36 公差评价标准； W,eKQV<j   37 公差操作数； 41_sSqq;^   38 补偿变量的使用；
Zm'::+tl   17 双高斯镜头设计及优化； [!|d[   18 像质评价与图像模拟； nCmrt*&}   19 坐标变换； nV6g]#~@   20 坐标断点面的使用技巧	ri_6wbPp   39 单透镜公差分析； ry<}DK<u   J}`$WL:   40 库克镜头公差分析； 7' l{I'Z   41 分析报告查看说明； [,V92-s;N   42 公差脚本的使用；
iPi'5g(a    21 序列模式棱镜建模； _|V+["IS   t7`Pw33#kY   22 扫描反射镜设计实例；	pHbguoH,   43 镜头出图、CAD 出图； y8 u)Q   44 小结及答疑

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培训信息 [[Eu?vQ9R  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。