光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 %bXx!x8(  
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培训大纲 N8cAqr  

a[bBT@f   01 OpticStudio 软件功能介绍; Q3W#`6jpF   02 材料库、镜头库介绍； q =HHNjj8   03 如何定义新材料； rf+:=|/_3   04 如何使用镜头库；	YEu1#N   23 柯勒照明综合设计实例； Z]w#vL R   24 投影系统设计 "tit\a6\(   25 集光系统设计； qMBR *f   z"4]5&3A   26 暗盒系统介绍；
Cm$1$?J   05 像差理论介绍； eg+!*>GaX   06 Zemax 里像差分析图谱； V vbFp   07 优化; =tTqN+4   08 局部优化	W" "*ASi   27 分析工具应用； |aQ"3d   28 寻找最佳非球面 $Kj&)&M   29 曲率套样板； PQW(EeQ   FUK3)lT   30 镜头匹配工具；
FxG7Pk+=   09 全局优化； >Y 1{rSk   10 锤形优化； `[#x_<\t   11 优化函数架构技巧； n@C~ev@%S   12 单透镜优化实例	rI$`9d   31 Zemax 公差分析功能介绍; [mxTa\   32 加工误差、装配误差； 9&%fq)gS   33 灵敏度分析; DQ.v+C,   34 反灵敏度分析;
iyZZ} M   13 双胶合优化实例； Hk_y/97OO   14 热分析及衍射光学元件的使用; inPJ2uBD\^   15 实例设计及分析； TfxwVPX   16 MTF	!;@_VWR   35 蒙特卡罗分析; :A46~UA!$   egR9AEJvz   36 公差评价标准； 6< J #^ 6   37 公差操作数； 3b'tx!tFN   38 补偿变量的使用；
g o5]<4`r   17 双高斯镜头设计及优化； M/PFPJ >`   18 像质评价与图像模拟； ^_I} x)i*@   19 坐标变换； $h9='0Wi0'   20 坐标断点面的使用技巧	wCs3:@UH   39 单透镜公差分析； j;yf8Nf   Mkp/0|Q*   40 库克镜头公差分析； +,+vkpL-%   41 分析报告查看说明； P=L$;xgp   42 公差脚本的使用；
FFhtj(hVgc   21 序列模式棱镜建模； ;wiao(t>4N   1PaUI#X"2F   22 扫描反射镜设计实例；	^da44Qqu   43 镜头出图、CAD 出图； HC {XX>F^   44 小结及答疑

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培训信息 C;AA/4Ib  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。