光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 g&8-X?^Q  
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培训大纲 [l7n"gJ~  

afu!.}4Ct   01 OpticStudio 软件功能介绍; \>{;,f   02 材料库、镜头库介绍； TZ}y%iU:mB   03 如何定义新材料； &]A0=h2{P*   04 如何使用镜头库；	Ka%#RNW   23 柯勒照明综合设计实例； 8KKhD$   24 投影系统设计 ;hEeFJ=/G   25 集光系统设计； zH#urF6<   ^oClf(   26 暗盒系统介绍；
m9-=Y{&/   05 像差理论介绍； g+(Y)9h&   06 Zemax 里像差分析图谱； 8,e%=7h_e   07 优化; K `A8N   08 局部优化	{M\n   27 分析工具应用； 58eO|c(   28 寻找最佳非球面 VtGZB3   29 曲率套样板； "3_GFq   7mtg   30 镜头匹配工具；
][YC.J   09 全局优化； lB8gD   10 锤形优化； i|28:FJA   11 优化函数架构技巧； *D1vla8   12 单透镜优化实例	H6/gRv@   31 Zemax 公差分析功能介绍; 8q:# '   32 加工误差、装配误差； o*oFCR]j   33 灵敏度分析; K}'?#a(aX=   34 反灵敏度分析;
2h)Qz+|7   13 双胶合优化实例； _c}# f\ +_   14 热分析及衍射光学元件的使用; rD9:4W`^   15 实例设计及分析； g0-rQ A   16 MTF	n8`WU3&   35 蒙特卡罗分析; I<+:Ho=6   _sY; dS/   36 公差评价标准； ksUF(lYk   37 公差操作数； 6` Aw!&{   38 补偿变量的使用；
cIrc@   17 双高斯镜头设计及优化； Ynp#3r   18 像质评价与图像模拟； 4Tb"+Y }   19 坐标变换； oa`7ClzD   20 坐标断点面的使用技巧	}02(Y!Gh   39 单透镜公差分析； s=556   8NTE`l=>/   40 库克镜头公差分析； 8xkLfN|N=   41 分析报告查看说明； O%px>rdkY   42 公差脚本的使用；
9\0$YY%   21 序列模式棱镜建模； QbY@{"" `   ^MG" n7)X   22 扫描反射镜设计实例；	\^jRMIM==   43 镜头出图、CAD 出图； )t CNp   44 小结及答疑

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培训信息 `;j$]  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。