光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 <(6-9(zHa  
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培训大纲 X<@y*?D9D  

sWpRX2{5,   01 OpticStudio 软件功能介绍; JE8p5WaR   02 材料库、镜头库介绍； VK@i#/jm   03 如何定义新材料； `hQ!*f6   04 如何使用镜头库；	^r?sgJ   23 柯勒照明综合设计实例； h#6 jUQ   24 投影系统设计 d9Ow 2KrC   25 集光系统设计； a_}BTkfHa   G Q8Dj!8   26 暗盒系统介绍；
41+E UMc   05 像差理论介绍； D+vl%(g   06 Zemax 里像差分析图谱； vY+_tpuEH   07 优化; "8j;k5<   08 局部优化	/9vMGef@   27 分析工具应用； 8d*<Aki?;   28 寻找最佳非球面 ?#{2?%_   29 曲率套样板； T\b";+!W   ]@j"0F/`   30 镜头匹配工具；
/w0v5X7   09 全局优化； hvv>UC/   10 锤形优化； 0z<]\a4   11 优化函数架构技巧； @gVyLefS6g   12 单透镜优化实例	\"sSS.'   31 Zemax 公差分析功能介绍; K:mL%o2J   32 加工误差、装配误差； 1{fwr1b   33 灵敏度分析; D*2 p   34 反灵敏度分析;
LZAj4|~,m   13 双胶合优化实例； 77bZ   14 热分析及衍射光学元件的使用; /j5- "<;.   15 实例设计及分析； vS,G<V3B   16 MTF	Q17o5##x7   35 蒙特卡罗分析; }rAN2D]"}   B,na   36 公差评价标准； (P52KD[A[   37 公差操作数； 'I01F:`   38 补偿变量的使用；
JV6U0$g_S   17 双高斯镜头设计及优化； m^u&g&^   18 像质评价与图像模拟； $\J9F=<a   19 坐标变换； i:N^:%   20 坐标断点面的使用技巧	YPJx/@Z`   39 单透镜公差分析； tH|Q4C   CFrHNU   40 库克镜头公差分析； Tk|;5^#H   41 分析报告查看说明； t-gNG!B   42 公差脚本的使用；
^1& LHrT   21 序列模式棱镜建模； 2BU)qv-   x%?*]*W   22 扫描反射镜设计实例；	M$hw(fC|m1   43 镜头出图、CAD 出图； v]Q_   44 小结及答疑

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培训信息 `]I5WTt*X  

• NCpn^m)Q}  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 9h0,L/;\  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。