光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 B>|5xpZM12  
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培训大纲 Qp!J:YV  

(6k>FSpg   01 OpticStudio 软件功能介绍; I,j3bC   02 材料库、镜头库介绍； 3w'W~   03 如何定义新材料； ~zyQ('   04 如何使用镜头库；	#F4X}   23 柯勒照明综合设计实例； 3h&b Z   24 投影系统设计 a:u}d7T3e   25 集光系统设计； l0`'5>    }ywi"k4>   26 暗盒系统介绍；
;3UvkN   05 像差理论介绍； s.y}U5Ty?P   06 Zemax 里像差分析图谱； Dl\d_:+   07 优化; sqG`"O4W   08 局部优化	EcW1;wH   27 分析工具应用； &@; RI~   28 寻找最佳非球面 p&5S|![\   29 曲率套样板； B01^oYM}   8c).8RLf   30 镜头匹配工具；
k4R4YI"jV   09 全局优化； }17bV, t   10 锤形优化； qGa<@ b   11 优化函数架构技巧； -eL'KO5'   12 单透镜优化实例	mV zu~xym   31 Zemax 公差分析功能介绍; DV,DB\P$   32 加工误差、装配误差； a: IwA9!L   33 灵敏度分析; C1 {ZW~"YI   34 反灵敏度分析;
XnY"oDg^>   13 双胶合优化实例； )E`+BH   14 热分析及衍射光学元件的使用; ][t6VA   15 实例设计及分析； PP-kz;|   16 MTF	;[~^(. f   35 蒙特卡罗分析; iGa}3pF   D3.VXuKn6   36 公差评价标准； ysVi3eq   37 公差操作数； A^g>fv   38 补偿变量的使用；
" $=qGHA~   17 双高斯镜头设计及优化； 0n5!B..m}   18 像质评价与图像模拟； z8tl 0gd%D   19 坐标变换； M.[wKGX(   20 坐标断点面的使用技巧	J@<!q   39 单透镜公差分析； p `p?li   NL-_#N$   40 库克镜头公差分析； 8^T2^gs   41 分析报告查看说明； gvo?([j-m   42 公差脚本的使用；
^4UcTjh   21 序列模式棱镜建模； B^m!t7/,   f9F2U )   22 扫描反射镜设计实例；	X<FOn7qf   43 镜头出图、CAD 出图； DZP*x   44 小结及答疑

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培训信息 H9E(\)@  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• @<5Tba>SC  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。