光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 N8k00*p65  
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培训大纲 &atu
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(gy#js#   01 OpticStudio 软件功能介绍; U@g4w!$r   02 材料库、镜头库介绍； Jzj1w}?H   03 如何定义新材料； YX=a#%vrl   04 如何使用镜头库；	t5[#x4 p   23 柯勒照明综合设计实例； \ wo?47+=   24 投影系统设计 %oq{L]C(rf   25 集光系统设计； yXz*5W_0D   $@"l#vJPfc   26 暗盒系统介绍；
EwuO&q   05 像差理论介绍； MJOz.=CbhR   06 Zemax 里像差分析图谱； IT(lF   07 优化; /~}}"zx&   08 局部优化	(mgS"zPS   27 分析工具应用； >Nvjl~o5   28 寻找最佳非球面 J]v%q,"   29 曲率套样板； NYE`Kin-   q ]M+/sl   30 镜头匹配工具；
Y'yH;Mz   09 全局优化； ^=T$&gD   10 锤形优化； gGr^@=;YC   11 优化函数架构技巧； wLmhy,   12 单透镜优化实例	$eD.W   31 Zemax 公差分析功能介绍; nTuJEFn{   32 加工误差、装配误差； ugo.@    33 灵敏度分析; =G]1LTI   34 反灵敏度分析;
}vZ+A   13 双胶合优化实例； !+1<E*NQ S   14 热分析及衍射光学元件的使用; >*]Hq.&8   15 实例设计及分析； 6qRx0"qB   16 MTF	uv=.2U46   35 蒙特卡罗分析; yOphx07 (   {6"Ph(I1   36 公差评价标准； ;gBRCZ   37 公差操作数； PK;*u,V   38 补偿变量的使用；
_&N2'hG=sn   17 双高斯镜头设计及优化； \]&#%6|V   18 像质评价与图像模拟； #.it]Nv{   19 坐标变换； IOb*GT b   20 坐标断点面的使用技巧	}R1 < 0~g   39 单透镜公差分析； =; ^%(%Y{m   x97 j   40 库克镜头公差分析； $>GgB`   41 分析报告查看说明； Y,WuBH   42 公差脚本的使用；
>_o}   21 序列模式棱镜建模； XM1WfjE\   )=5ng-   22 扫描反射镜设计实例；	#bMuvaP~   43 镜头出图、CAD 出图； fIj|4a+   44 小结及答疑

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培训信息 p89wNSMl[  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 u:[vaBh91  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。