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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark i(Xz3L#( 译:讯技科技股份有限公司 l_q=@y 校:讯技科技股份有限公司 ]J '#KT{ ce&Q}_ 书籍概况: Q<c{$o UnE[FYx Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 tyI!y~-z 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 =/#+, 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 g+RgDt9 q
HU}EEv 书籍目录 )qID<j# w'r?)WW$ 1 引言 R(^2+mV? 2 光学薄膜基础 HL`=zB% 2.1 一般规则 .="/n8B 2.2 正入射规则 B=<Z@u 2.3 斜入射规则 HxAN&g*: 2.4 精确计算 |T;]%<O3E 2.5 相干性 78MQoG< 3 Essential Macleod的快速预览 mVs<XnA47 4 Essential Macleod的特点 :>q*#vlb 4.1 容量和局限性 8mc0(Z@ 4.2 程序在哪? vyA
`Z1 4.3 数据文件 E2nsBP=5C 4.4 设计规则 + g*s%^(E 4.5 材料数据库和目录库 /cXVJ(#j 4.5.1 材料数据库及导入材料 m>:zwz< ; 4.5.2 材料目录库 6OPYq*| 4.5.3 导出材料数据 fxOa(mt 4.6 常用单位 ^o8o 4.7 插值 x| =]Xxco 4.8 材料数据的平滑 b%TLvV 9F 4.9 一般文档编辑规则 `zP{E T_Y 4.10 设计文档 W1!Nq` 4.10.1 公式 vmGGdj5aI 4.10.2 更多关于膜层厚度 N?3BzI%? 4.10.3 沉积密度 Z(|'zAb^ 4.10.4 性能计算 v1`*}.# 4.10.5 保存设计和性能 {Q(R#$)5+ 4.10.6 默认设计 1w$X;q" 4.11 图表 -}G>{5.A 4.11.1 合并曲线图 +M{A4nYY|1 4.11.2 自适应绘制 #wS/QrRE 4.11.3 动态参数图 (/[wM>q:r 4.11.4 3D绘图 O/ih9, 4.12导入和导出 tj1M1s|a 4.12.1 剪贴板 V"u .u 4.12.2 不通过剪贴板导入 (X?et
& 4.12.3 不通过剪贴板导出 >g+e`!;6 4.13 背景(Context) *p.70,5, 4.14 扩展公式 - 生成设计 x!`~+f.6 4.15 生成Rugate Z[GeU>?P 4.16 参考文献 VSDG_:!K 5 在Essential Macleod中建立一个Job r"hogmFD; 5.1 Jobs 9NEL[J| 5.2 创建一个新的Job -VafN 5.3 输入材料 k.6gX<T 5.4 设计数据文件夹 \1f&D!F]b 5.5 默认设计 2S@aG%-) 6 细化和合成 &fRZaq'2R 6.1 最优化导论 1=Y pNXX 6.2 细化 TD^w|U. 6.3 合成 =%ry-n G 6.4 目标和评价函数 \2OjIEQQ 6.4.1 目标输入 ,xOOR 6.4.2 目标关联 >mCS`D8 6.4.3 特殊的评价函数 ,1ceNF#oL 6.5 膜层锁定和关联 nJr:U2d 6.6 优化技术 V6a+VfH 6.6.1 单纯形 &Ndq^!e 6.6.1.1单纯形参数 D:.1Be`Tv 6.6.2 Optimac l}&&f8n 6.6.2.1 Optimac参数 *Hed^[sO 6.6.3 模拟退火算法 \Pt_5.bTs[ 6.6.3.1退火参数 @q++eGm\Q 6.6.4 共轭梯度 RA
ER\9i 6.6.4.1共轭梯度参数 'FC#O%l 6.6.5 拟牛顿法 ykBq?Vr 6.6.5.1 拟牛顿法参数: ) mh,F#"L 6.6.6 针形合成 ATkx_1]KM- 6.7 我应该使用哪种技术? q6AL}9]9 6.7.1 细化 ?L(y8b}F( 6.7.2 合成 >pj)va[Q 6.8 参考文献 9^2l<4^Z 7 导纳图和其他工具 3x3 =ke! 7.1 介绍 JL:\\JT. 7.2 导纳变换 Yue# 7.2.1 四分之一波长规则
R7NE=X4 7.2.2 导纳轨迹图 ~Blsj9a2 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 Y8@TY? 7.4 全介质抗反射膜的应用 o`%;*tx 7.5 对称周期结构 Bnu5\P 7.6 参考文献 6$x9@x8 8.典型的镀膜实例 5K[MKfT 8.1 单层抗反射膜 9 =zZ,dg 8.2 1/4-1/4抗反射膜
Jknit 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 'E_~> 8.4 W-膜层 4Tn97G7 8.5 V-膜层 HE.YfD) 8.6 高折射基底V-膜层
.NRSBk 8.7 高折射率基底b V-膜层 XFJz\'{ 8.8 1/4-1/4高折射率基底 D\ kd6 8.9 四层抗反射膜 /~}<[6ZGCY 8.10 Reichert抗反射膜
y8/+kn + 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 Q/y"W,H# 8.12 宽波段6层抗反射膜 vQsI^p 8.13 宽波段8层抗反射膜 2e*"<>aeq 8.14 宽波段25层抗反射膜 ^7-l<R[T 8.15 四层2-1 增透膜 v i~NfD@s 8.16 1/4波长堆栈 qN@0k>11? 8.17 陷波滤光器 L3|~
i&k 8.18 Rugate [;, Xp/ 8.19 消偏振分光片1 Gcp!"y=i 8.20 消偏振分光片2 6<
@F 8.21 消偏振立体分光片 uj^l&" 8.22 消偏振截止滤光片 H?$gHZPI 8.23 偏振立体分光片1 I6.}r2?;A 8.24 偏振立体分光片2 XTS%:S 8.25 缓冲层 "C'T>^qw* 8.26 红外截止滤光片 gf^XqTLs 8.27 21层长波通过光片 q-R'5p\C?| 8.28 49层长波通滤光片 "fZWAGDBO\ 8.29 55层长波通滤光片 ~%Xs"R1c, 8.30 宽带通滤光片 xQ~N1Y2W 8.31 诱导透射滤光片 ^rssZQKY[ 8.32 诱导透射滤光片2 dH_g:ocA 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 -YJ4-]Z 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 ?CO..l 8.35 增益平坦滤光片 ql2O%B.6? 8.36 啁啾反射镜1 v|@1W Uc,g 8.37 啁啾反射镜2 #-9@*FFL, 8.38 啁啾反射镜3 0.lOSAq 8.39 铝保护膜 U?&&yynK 8.40 铝反射增强膜 .V.ga2+ 8.41 参考文献 *e%(J$t 9 多层膜 i27KuPjC 9.1 多层膜基本原理—堆栈 XI7:y4M 9.2 内透过率 1/ <Z6 ?U 9.3 简单例子 _t.Ub: 9.4 简单例子2 CA5q(ID_ 9.5 圆锥和带宽计算 ix!4s613w 9.6 在Design中加入堆栈进行计算 Wj"GS!5 10 光学镀膜色彩 e%EE| 10.1 介绍 3w$Ib}7 10.2 色彩 $ i;_yTht 10.3 主色调和纯度 ) ={
H 10.4 色度和浓度 ,Uu#41ZOKL 10.5 薄膜的颜色和最优化颜色刺激
LAO2Py# 10.6 Essential Macleod中的色彩计算 Q5>]f/LD 10.7 参考文献 7kq6VS;p 11 薄膜中的短脉冲现象 RC+`sZE9 11.1 短脉冲 O~&j}WN 11.2 群速度 1qd(3A41 11.3 群速度色散 .$N8cYu0 11.4 啁啾 R~H +.Vh 11.5 光学薄膜—相变 A`ScAzx5{ 11.6 群延时和群延迟色散 yR4++yk 11.7 色散 o6c>sh 11.8 色散补偿 &l
_NCo2 11.9 空间光线移位 .qg 2zE$0 11.10 参考文献 z%~rQa./$ 12 公差与误差 ;k5B@z/<S 12.1 蒙特卡罗模型 z%44@TP 12.2 Essential Macleod中的误差分析工具 qJYEsI2M 12.2.1 误差分析工具 5%;=(Oig 12.2.2 灵敏度工具 |7@@~|A 12.2.2.1 Independent Sensitivity f}uW(:f 12.2.2.2 灵敏度分布 f&88N<) 12.2.3 Simulator—一个更高级模型 @D7/u88| 12.3 参考文献 -Ta|
qQa 13 Runsheet 与Simulator |eEXCn3{ 13.1 基本原理 Ah Rvyj 13.2 边带滤光片设计 Pe)SugCs 14 光学常数提取 jzAXC^FS 14.1 介绍 \3 M%vJ 14.2 介电薄膜 L]#b=Y 14.3 n和k提取工具 >o|.0aw< 14.4 基底 JHCXUT-r{ 14.5 金属的光学常数 ;$/]6@bqB 14.6 不正确的模型 4d;.p1ro 14.7 参考文献 MoMxKmI 15 反演工程 _8&a%?R@W 15.1 随机和系统误差 L#Rj~&U 15.2 系统常见的问题 F@rx/3
[ 15.3 单层膜 xa$4P [ 15.4 多层模 S- JD}+9 15.5 建议 9/$Cq 15.6 反演工程 /nz J`d 16 应力、张力、温度和均匀性工具 yL"UBe}v 16.1 温度引起光学性能的改变 :XCRKRDLE 16.2 应力工具 :?f^D,w_B 16.3 平均误差 y?ypRCgO.u 16.3.1 Taper工具 \<Di|X1 16.3.2 波像差问题 !(#d7R 16.4 参考文献 |ohCA&k%; 17 如何在Function中编写操作数 a&%v ^r[ 17.1 引言 :@K~>^+U 17.2 操作数 VJOB+CKE 18 如何在Function中编写脚本 uh&Qdy!I 18.1 简介 Q1[EiM3 18.2 什么是脚本? (\M+E
tU<9 18.3 Function中脚本和操作数的对比 buA/G-<e 18.4 基本概念 AGK{t+` 18.4.1 Classes dr^MW?{a\ 18.4.2 Objects 3B?7h/f 18.4.3 Messages E3QyiW 18.4.4 Properties `{ ` W-C 18.4.5 Methods .F/0:) 18.4.6 显式声明 )| 0(#R 18.5创建对象 zCI.^^<? 18.5.1 创建对象函数 rL|9Xru 18.5.2 使用ThisSession和其他对象 m
e2$ R>@ 18.5.3 概要 M=#g_*d 18.6 脚本中的表格 'W*ODAz6 18.6.1 方法1 h1Logm+m 18.6.2 方法2 WuMr";2*E 18.7 注释 KZ$^Q<d^ 18.8 Scripts脚本管理器 W
![*0pL 18.9 更高级的脚本命令 e7M6|6nb 18.10 <Esc>键 gIY]hC. 18.11 优化用脚本 2aJ_[3p/h] 18.12 脚本对话框 {"mb)zr 18.12.1 介绍 a}V<CBi 18.12.2 消息框-MsgBox !a^'Jbb 18.12.3 输入框函数 nJcY>Rp? 18.12.4 自定义对话框 yt#~n_ 18.12.5 对话框编辑器 "HtaJVp// 18.12.6 对话框的控制 To =JE}jzo 18.12.7 更高级的对话框 g96]>]A<{ 18.13 进一步研究 M+-1/vR *@ 19 vStack $Qcr8~+a 19.1 vStack基本原理 DvY)n<U1qA 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 1)J'
pDa 19.3 五棱镜 R/jHH{T3 19.4 二向分色棱镜 u+qj_Ej 19.5 偏振泄漏 X.[8L^ldh 19.6 波前差—相位 T4h&ly5
f 19.7 其他参数 2 sK\.yS 20 报告生成器 <b_?[%(u 20.1 介绍 Ah_0o_Di 20.2 指令
J7p?9 20.3 页面布局指令 csj4?]gI 20.4 常见的Plots图和三维图 @o>3
Bv. 20.5 常见参数表 +l;A L5h 20.6 重复指令 a\tv,Lx 20.7 报告模版 _[,7DA.qc 20.8 预备设计一个报告模版 mOntc6&] 21 一个新项目 3Uy(d,N 21.1 创建一个新Job q+W*?a) 21.2 默认设计 lf}%^od~6 21.3 薄膜设计 *Ke\Yb 21.4 误差的灵敏度 {QVs[
J1 21.5 显色性 'wVi>{? 21.6 电场分布 .4XX
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