-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-06-19
- 在线时间1790小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark gM|X":j 译:讯技科技股份有限公司 !F{ 5"$ 校:讯技科技股份有限公司 g<~[k?~J h+$1+Es 书籍概况: S<+_yB? zk]6|i$!I Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 fU~>A-P 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 jr"~ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]4@z.1Mr -W>zON|l 书籍目录 FE1dr_i N i^pP@(' 1 引言 gDnG!i+ 2 光学薄膜基础 6<A\U/ 2.1 一般规则 &Qghm o 2.2 正入射规则 NWB/N* 2.3 斜入射规则 Y VTY{>Q 2.4 精确计算 h Mw}[6m 2.5 相干性 z'r .LBnh 3 Essential Macleod的快速预览 2q# t/oN3T 4 Essential Macleod的特点 F!{N4X>%T 4.1 容量和局限性 &eY$(o-Hw 4.2 程序在哪? +7+
VbsFG 4.3 数据文件 T$%u=$E%F 4.4 设计规则 FQi"OZHq
4.5 材料数据库和目录库 X %,;IW]a 4.5.1 材料数据库及导入材料 R4}G@&Q 4.5.2 材料目录库 =}7wpTc, 4.5.3 导出材料数据 @6.1EK0 4.6 常用单位 Xu HJy 4.7 插值 #.}Su+XF 4.8 材料数据的平滑 l;Zc[6 4.9 一般文档编辑规则 8%7H
F: 4.10 设计文档 0*:]eM};P 4.10.1 公式 #eE:hiu<v 4.10.2 更多关于膜层厚度 3v:RLnB 4.10.3 沉积密度 :[(X!eP 4.10.4 性能计算 ..;LU:F 4.10.5 保存设计和性能 $if(`8 4.10.6 默认设计 %8
cFzyE* 4.11 图表 _F^|n}Qbj 4.11.1 合并曲线图 $K<jmEC@< 4.11.2 自适应绘制 KUH&_yCRB 4.11.3 动态参数图 Q*$x!q 4.11.4 3D绘图 !l6B_[!@ 4.12导入和导出 O0b8wpFf 4.12.1 剪贴板 Kr]!BI?z 4.12.2 不通过剪贴板导入 jopC\Z 4.12.3 不通过剪贴板导出 P9`i6H'~ 4.13 背景(Context) RW>Z~Nj 4.14 扩展公式 - 生成设计 ;
@Gm@d 4.15 生成Rugate {LJCY<IGq 4.16 参考文献 f$V']dOj1q 5 在Essential Macleod中建立一个Job @zfeCxVOA 5.1 Jobs Mw'd<{ 5.2 创建一个新的Job m!;mEBL{ 5.3 输入材料 tvRa.3 5.4 设计数据文件夹 ?\\
]u 5.5 默认设计 Vzbl*Zmx 6 细化和合成 FG#E?G 6.1 最优化导论 ;p\rgam 6.2 细化 b'9G`Y s^ 6.3 合成 'U}i<^,c 6.4 目标和评价函数 1ygu>sKS&A 6.4.1 目标输入 [+GQ3Z\ 6.4.2 目标关联 >47,Hq:2 6.4.3 特殊的评价函数 NX)7g}S 6.5 膜层锁定和关联 E?Q=#+}U 6.6 优化技术 E? F @ 6.6.1 单纯形 t4s}w$4 6.6.1.1单纯形参数 7Oxvq^[ 6.6.2 Optimac -ZihEyG?V 6.6.2.1 Optimac参数 ,PN>,hFL 6.6.3 模拟退火算法 o]Vx6 6.6.3.1退火参数 , PN?_N 6.6.4 共轭梯度 mg >oB/,'Z 6.6.4.1共轭梯度参数 s?%1/&.~ 6.6.5 拟牛顿法 l@#X]3h! 6.6.5.1 拟牛顿法参数: SKRD{MRsux 6.6.6 针形合成 @Gn9x(?J 6.7 我应该使用哪种技术? I[t)V*L9 6.7.1 细化 8a?V h^ 6.7.2 合成 H`@x5RjS 6.8 参考文献 (Z `Y 7 导纳图和其他工具 $ HUCp9 7.1 介绍 >!WJ{M0 7.2 导纳变换 E?08=$^5%
7.2.1 四分之一波长规则 OgfQGGc 7.2.2 导纳轨迹图 yY_]YeeR 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 c1n? @L 7.4 全介质抗反射膜的应用 eW >k'ez 7.5 对称周期结构 ^O892 -R 7.6 参考文献 ~=c^Oo: 8.典型的镀膜实例 7%w4?Nv3I 8.1 单层抗反射膜 >656if O 8.2 1/4-1/4抗反射膜 0W=IuPDU 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 i,RK0q?> 8.4 W-膜层 ,hOJe=u46 8.5 V-膜层 F1Z20)8K 8.6 高折射基底V-膜层 @$(4;ar 8.7 高折射率基底b V-膜层 'm/b+9?. 8.8 1/4-1/4高折射率基底 =
)(; 8.9 四层抗反射膜 >Xb]n_` 8.10 Reichert抗反射膜 _bMs~%?~/ 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 >/'WU79TYE 8.12 宽波段6层抗反射膜 'mmyzsQ\6 8.13 宽波段8层抗反射膜 ![Jxh,f 8.14 宽波段25层抗反射膜 QCtG #/ 8.15 四层2-1 增透膜 -@#AQ\ 8.16 1/4波长堆栈 T_gW't>
8.17 陷波滤光器 .)W8
U [ 8.18 Rugate !EKF^n6 8.19 消偏振分光片1 uNx3us- 8.20 消偏振分光片2 mfx'Yw*{ 8.21 消偏振立体分光片 $W0lz#s: 8.22 消偏振截止滤光片 +p43d:[ 8.23 偏振立体分光片1 ,g\.C+.S 8.24 偏振立体分光片2 Pel3e ~?t 8.25 缓冲层 j
f^fj- 8.26 红外截止滤光片 ~sA}.7 8.27 21层长波通过光片 7`WK1_rR\ 8.28 49层长波通滤光片 cc^V~-ph 8.29 55层长波通滤光片 zR`]8E] 8.30 宽带通滤光片 .eeM& |