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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark e+wINW 译:讯技科技股份有限公司 fOz.kK[] 校:讯技科技股份有限公司 \_t[\&.a} .-.b:gdO( 书籍概况: /3qKsv# XOPiwrg%p Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 G5!!^p~ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 y6 gaoj 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 GBGna3 r.v.y[u 书籍目录 RtF!(gd \!Ap< 1 引言 ;Bne=vjQp 2 光学薄膜基础 o:lMRP~ 2.1 一般规则 kQO5sX$; 2.2 正入射规则 Poxoc-s 2.3 斜入射规则 (kSb74*g 2.4 精确计算 (T =u_oe 2.5 相干性 w9CX5Fg 3 Essential Macleod的快速预览 Gn 1 4 Essential Macleod的特点 snyA 4.1 容量和局限性 U]O>DM^' 4.2 程序在哪? 6'jgjWEe3& 4.3 数据文件 4'H)h'#C 4.4 设计规则 C@@PLsMg 4.5 材料数据库和目录库 |pR'#M4j4A 4.5.1 材料数据库及导入材料 !+n'0{ 4.5.2 材料目录库 H.)J?3 4.5.3 导出材料数据 82yfPQ&UI 4.6 常用单位 92 1s'" 4.7 插值 *!`bC@E 4.8 材料数据的平滑 8D`TN8[W 4.9 一般文档编辑规则 ,gIeQ!+vy 4.10 设计文档 %=i/MFGX 4.10.1 公式 |5\:
E}1 4.10.2 更多关于膜层厚度 WM GiV 4.10.3 沉积密度 ~!'T!g%C 4.10.4 性能计算 @g1T??h 4.10.5 保存设计和性能 =T#?:J#a 4.10.6 默认设计 %Wt F\p 4.11 图表 ro18%'RRI 4.11.1 合并曲线图 #QiNSS 4.11.2 自适应绘制 M0woJt[& 4.11.3 动态参数图 r9~I R 4.11.4 3D绘图 -
*xn`DH 4.12导入和导出 xhncQhf\ 4.12.1 剪贴板 'o1lJ?~kH 4.12.2 不通过剪贴板导入 A 1x
4.12.3 不通过剪贴板导出 N7Kkz
/ 4.13 背景(Context) UX)QdT45Mh 4.14 扩展公式 - 生成设计 +A2}@k 4.15 生成Rugate phy:G}F6% 4.16 参考文献 Ob|v$C 5 在Essential Macleod中建立一个Job ]v0=jm5A 5.1 Jobs eyG[1EEU 5.2 创建一个新的Job ^-s`$lTp 5.3 输入材料 B'D~Q 5.4 设计数据文件夹 [B%:!Q)@ 5.5 默认设计 u\=yY. 6 细化和合成 l/56;f\IA 6.1 最优化导论 jgT *=/GH2 6.2 细化 2z9N/SyN 6.3 合成 *r iWrG 6.4 目标和评价函数 >S:+&VN`M 6.4.1 目标输入 'HvJ]}p 6.4.2 目标关联 >;~ ia3 6.4.3 特殊的评价函数 #6nuiSF 6.5 膜层锁定和关联 TGI`}# 6.6 优化技术 ,ydn]0SS 6.6.1 单纯形 /^, /o 6.6.1.1单纯形参数 ;i&t|5y~ 6.6.2 Optimac I6[=tB 6.6.2.1 Optimac参数 *NQsD C.J^ 6.6.3 模拟退火算法 &a";jO
GB 6.6.3.1退火参数 ^\3z$ntF 6.6.4 共轭梯度 O
@{<?[ 6.6.4.1共轭梯度参数 T@Th? 6.6.5 拟牛顿法 Z%7X" w 6.6.5.1 拟牛顿法参数: me@EKspX 6.6.6 针形合成 ?wMS[Kj 6.7 我应该使用哪种技术? iLf*m~Q 6.7.1 细化 [ejl #'*5 6.7.2 合成 G_6!w// 6.8 参考文献 (2r808^2 7 导纳图和其他工具 ;>jOB>b{h 7.1 介绍 kl#)0yqN0 7.2 导纳变换 saR9_
ux 7.2.1 四分之一波长规则 y(jd$GM| 7.2.2 导纳轨迹图 %(g!,!l) 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 MMf_ 7.4 全介质抗反射膜的应用 BXLw 7.5 对称周期结构 >; k~B 7.6 参考文献 =p#:v 8.典型的镀膜实例 ybpU?n 8.1 单层抗反射膜 HkyN$1s 8.2 1/4-1/4抗反射膜 _"- ,ia[D 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 {0Ej*% 8.4 W-膜层 $ZnVs@:S 8.5 V-膜层 9a{9|p>L 8.6 高折射基底V-膜层 [P%'p-Hg_ 8.7 高折射率基底b V-膜层 XI;F=r}' 8.8 1/4-1/4高折射率基底 ^Rmrre`uU 8.9 四层抗反射膜 [};?;YN 8.10 Reichert抗反射膜 yeN(_t2. 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 +<f!#4T 8.12 宽波段6层抗反射膜 <"!'>ZUt 8.13 宽波段8层抗反射膜 42 0cbD3a 8.14 宽波段25层抗反射膜 TXfG@4~kC 8.15 四层2-1 增透膜 5z"[{#/ 8.16 1/4波长堆栈 ]VK9d;0D 8.17 陷波滤光器 61`tQFx, 8.18 Rugate lsB.>N lU 8.19 消偏振分光片1 wbh^ZMQ 8.20 消偏振分光片2 IYB;X 8.21 消偏振立体分光片 <u2iXH5w 8.22 消偏振截止滤光片 j9 &0/
~/ 8.23 偏振立体分光片1 ,pVq/1 8.24 偏振立体分光片2 l6HT}x7OiH 8.25 缓冲层 aN~x3G 8.26 红外截止滤光片 n16TQe"8 8.27 21层长波通过光片 i|G /x 8.28 49层长波通滤光片 jx8hh}C 8.29 55层长波通滤光片 \`WAG>'l5 8.30 宽带通滤光片 1DM$FG_Z- 8.31 诱导透射滤光片 [,q^\T 8.32 诱导透射滤光片2 u&$1XZ!es 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 FSS~E [(DL 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 /V!gF+L 8.35 增益平坦滤光片 scR+F'M 8.36 啁啾反射镜1 .;NoKO7) 8.37 啁啾反射镜2 X*rB`M7, 8.38 啁啾反射镜3 x DX_s:A 8.39 铝保护膜 )LE#SGJP 8.40 铝反射增强膜 T1fX[R ^\ 8.41 参考文献 R|dSjE s 9 多层膜 ;%xG bg!lg 9.1 多层膜基本原理—堆栈 Aq{7WA 9.2 内透过率 kF7`R4Sz 9.3 简单例子 {;?bC' 9.4 简单例子2 StM)lVeF 9.5 圆锥和带宽计算 T( sEk 9.6 在Design中加入堆栈进行计算 ]=m0@JTbG 10 光学镀膜色彩 'K3%@,O 10.1 介绍
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