-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-09-29
- 在线时间1866小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark ."m6zq 译:讯技科技股份有限公司 #\+TKK 校:讯技科技股份有限公司 dVDQ^O& CfMq?.4%E} 书籍概况: ZCQ7xQD 7'[C+/: Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 #5?Q{ORN o 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 jafq(t 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 wz*QB6QtU 8gap _qTo 书籍目录 S7Xr~5>X r<;bArs-u 1 引言 IJ^KYho 2 光学薄膜基础 U~8.uldnF 2.1 一般规则 eSynw$F2N 2.2 正入射规则 U.oxLbJ` 2.3 斜入射规则 8#%p[TLj 2.4 精确计算 ,L+tm>I 2.5 相干性 #@,39!;,:O 3 Essential Macleod的快速预览 v>3)^l:=Y* 4 Essential Macleod的特点 Sti)YCXH 4.1 容量和局限性 ;Ef:mr"Nu 4.2 程序在哪? :&=TE 2 4.3 数据文件 V1KWi^ 4.4 设计规则 A>6b
6 4.5 材料数据库和目录库 ZdEeY|j 4.5.1 材料数据库及导入材料 0s = h*"[ 4.5.2 材料目录库 XD`QU m 4.5.3 导出材料数据 0lNVQxG 4.6 常用单位 U,C
L*qTF 4.7 插值 c=l
3Sz? 4.8 材料数据的平滑 L!E/ )#{ 4.9 一般文档编辑规则 (NUk{MTX 4.10 设计文档 pmyHto" 4.10.1 公式 Q5e ,[1 4.10.2 更多关于膜层厚度 wTFM:N 4.10.3 沉积密度 e-4XNL[F 4.10.4 性能计算 .~V0>r~my 4.10.5 保存设计和性能 :Ia3yi# 4.10.6 默认设计 A~Eu_m 4.11 图表 (Q !4\Gy 4.11.1 合并曲线图 ;YxQo
o> 4.11.2 自适应绘制 ]RmQ*F- 4.11.3 动态参数图 ^RG6h 4.11.4 3D绘图 sk!v!^\_r 4.12导入和导出 @EzSosmF 4.12.1 剪贴板 4NL TtK 4.12.2 不通过剪贴板导入 SMaC{RPQ 4.12.3 不通过剪贴板导出 \)VV6'zih 4.13 背景(Context) CG IcuHp 4.14 扩展公式 - 生成设计 `rC9i5: 4.15 生成Rugate %4U;Rdq&Ud 4.16 参考文献
ykSn=0 5 在Essential Macleod中建立一个Job _`WbR&d2Id 5.1 Jobs Q44Pg$jp 5.2 创建一个新的Job q{ov62t` 5.3 输入材料 < vU<:S 5.4 设计数据文件夹 ^ Sx0t 5.5 默认设计 4EzmH)4G 6 细化和合成 D;)Tm|XizW 6.1 最优化导论 zF%CFqQ 6.2 细化 goi.'8M|/b 6.3 合成 ,#&lNQ'I 6.4 目标和评价函数 ,v:m 6.4.1 目标输入 AwB ]0H 6.4.2 目标关联 } ab@Nd$ 6.4.3 特殊的评价函数 xBd# 6.5 膜层锁定和关联 <OF7:f 6.6 优化技术 ys:1%D,,_ 6.6.1 单纯形 Mn $TWhg' 6.6.1.1单纯形参数 u&`7 C 6.6.2 Optimac b9[;qqq@' 6.6.2.1 Optimac参数 _*6nTSL 6.6.3 模拟退火算法 8Cz_LyL 6.6.3.1退火参数 }pj>BK> 6.6.4 共轭梯度 Z}.N4 / 6.6.4.1共轭梯度参数 *. l,_68 6.6.5 拟牛顿法 DDn@M|*$ 6.6.5.1 拟牛顿法参数: KDgJ~T 6.6.6 针形合成 /j./ 6.7 我应该使用哪种技术? Gvv~P3Dm 6.7.1 细化 aM?Xi6
U5 6.7.2 合成
bLGgu# 6.8 参考文献 ?8. $A2(Xw 7 导纳图和其他工具 n>jb<uz 7.1 介绍 JPS22i)P 7.2 导纳变换 XodA(73`i 7.2.1 四分之一波长规则 314PcSc 7.2.2 导纳轨迹图 d7qY(!& 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 5Fm.] / 7.4 全介质抗反射膜的应用 =2pGbD;* 7.5 对称周期结构 G>&=rmK" 7.6 参考文献 szMh}q"u 8.典型的镀膜实例 EP& |