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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark c3GBY@m 译:讯技科技股份有限公司 CKHmJ]= 校:讯技科技股份有限公司 j_d}?jh T%oJmp?0 书籍概况: +%j27~R>D AmC9qk8Q Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 `Kg!aN 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 XY{N"S8 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 842v^ 2 4
. c1 书籍目录 Pk;/4jt4 k={1zl ; 1 引言 %0 {_b68x 2 光学薄膜基础 Z$INmo6 2.1 一般规则 #w%-IhP 2.2 正入射规则 KDb j
C'3 2.3 斜入射规则 hBRi5&% 2.4 精确计算 E`.hM}h 2.5 相干性 tl /i 3 Essential Macleod的快速预览 OvQzMXU^I 4 Essential Macleod的特点 lx4pTw1 4.1 容量和局限性 e YP^.U) 4.2 程序在哪? @;Jv/N6@ 4.3 数据文件 )NhC+=N 4.4 设计规则 im9w|P 5 4.5 材料数据库和目录库 ,\iXZ5"R 4.5.1 材料数据库及导入材料 &k,DAx`rN; 4.5.2 材料目录库 C{$iuus0 4.5.3 导出材料数据 K"VcPDK 4.6 常用单位 uvJHkAi 4.7 插值 7omHorU+ 4.8 材料数据的平滑 n%29WF6Zf 4.9 一般文档编辑规则 ?7V~>i8[ 4.10 设计文档 ;<m*ASM.3 4.10.1 公式 x#3*C|A 4.10.2 更多关于膜层厚度 z/"*-+j 4.10.3 沉积密度 -5 4.10.4 性能计算 UFT JobU 4.10.5 保存设计和性能 FS=yc.Q_ 4.10.6 默认设计 T5|kO:CbHq 4.11 图表 /d}"s.3p 4.11.1 合并曲线图 RHBQgD$ 4.11.2 自适应绘制 $365VTh" 4.11.3 动态参数图 q=->) &D% 4.11.4 3D绘图 pl3ap(/ 4.12导入和导出 vE^tdzAG 4.12.1 剪贴板 JDR_k 4.12.2 不通过剪贴板导入 q\?p' i 4.12.3 不通过剪贴板导出 wH!$TAZ:Yw 4.13 背景(Context) OFtf)cGE 4.14 扩展公式 - 生成设计 XX/s@C 4.15 生成Rugate nS3Aadm 4.16 参考文献 .Ja].hP 5 在Essential Macleod中建立一个Job =q]!"yU[d 5.1 Jobs 9MfU{4:;I 5.2 创建一个新的Job o/7u7BQl2 5.3 输入材料 kd !?N 5.4 设计数据文件夹 q 0F6MAXj 5.5 默认设计 FfM^2`xP 6 细化和合成 6Jq[]l"v 6.1 最优化导论 h_#=f(.'j 6.2 细化 WtZI1`\qe 6.3 合成 p&RC#wYu 6.4 目标和评价函数 B%uY/Mwz$ 6.4.1 目标输入 /a^
R$RHl' 6.4.2 目标关联 HdxP:s.T 6.4.3 特殊的评价函数 F<b'{qf" 6.5 膜层锁定和关联 z
mip 6.6 优化技术 v
=y
2 6.6.1 单纯形 M\4`S& 6.6.1.1单纯形参数 cg3}33Z;6 6.6.2 Optimac gep#o$P 6.6.2.1 Optimac参数 Sp X;nH-D 6.6.3 模拟退火算法 -ymDRoi 6.6.3.1退火参数 pAatv;Ex 6.6.4 共轭梯度 tjFX(;^[ 6.6.4.1共轭梯度参数 Dj96t5R 6.6.5 拟牛顿法 y8s!sO 6.6.5.1 拟牛顿法参数: q 7%p3 6.6.6 针形合成 L>~Tc 6.7 我应该使用哪种技术? :K^J bQ 6.7.1 细化 ?Q-Tyf$3 6.7.2 合成 u|t l@_ 6.8 参考文献 KL=<s#
7 导纳图和其他工具 4{F1GW 7.1 介绍 *p
$0(bz 7.2 导纳变换 7C7.}U 7.2.1 四分之一波长规则 )
FR7t 7.2.2 导纳轨迹图 P!|Z%H 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 ??p%_{QY~b 7.4 全介质抗反射膜的应用 4l
ZK@3 7.5 对称周期结构 oV:oc, 7.6 参考文献 b`-|7<s 8.典型的镀膜实例 ia'z9 8.1 单层抗反射膜 eo9/ 8.2 1/4-1/4抗反射膜 %nY\" 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 vO1; ; 8.4 W-膜层 O<cP1TF 8.5 V-膜层
.fl r 8.6 高折射基底V-膜层 @M"gEeI9 8.7 高折射率基底b V-膜层 7v%c. 8.8 1/4-1/4高折射率基底 -n05Z@7 8.9 四层抗反射膜 -Ty~lZ)TDT 8.10 Reichert抗反射膜 v,ssv{gU 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 "9s_[e 8.12 宽波段6层抗反射膜 'vBZh1`p 8.13 宽波段8层抗反射膜 2HFn\kjj.s 8.14 宽波段25层抗反射膜 =Hd yra 8.15 四层2-1 增透膜 PoF3fy%. 8.16 1/4波长堆栈 C")genMH 8.17 陷波滤光器 #; ?3kuq( 8.18 Rugate TsTc3 8.19 消偏振分光片1 o]oiJvOr 8.20 消偏振分光片2 GkJcd; 8.21 消偏振立体分光片 [Iks8ZWr_ 8.22 消偏振截止滤光片 !e|\1v'0 8.23 偏振立体分光片1 >-A@6Qe_ 8.24 偏振立体分光片2 < |