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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark y%O^Zm1 译:讯技科技股份有限公司 3%)@c P:? 校:讯技科技股份有限公司 {@hJPK8 YP>J'{?b*" 书籍概况: 934@Z(aUH w@pJ49 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 |G_, 1$ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 2}15FXgN 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Z"$iB-] h
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@6 书籍目录 <!F".9c@A n;wViw 1 引言 bjAI7B8As 2 光学薄膜基础 j8c5_& 2.1 一般规则 6Ta+f3V 2.2 正入射规则 w)&?9?~ 2.3 斜入射规则 #4<=Ira5 2.4 精确计算 \&47u1B 2.5 相干性 RAWzQE} 3 Essential Macleod的快速预览 ~O|~M_Z 4 Essential Macleod的特点 NxnaH!wS 4.1 容量和局限性 kU,g=+2J 4.2 程序在哪? ]-_ ma 4.3 数据文件 *HB 32 =qD 4.4 设计规则 rdCs 4.5 材料数据库和目录库 Xk\IO0GF 4.5.1 材料数据库及导入材料 5)A[NTNJx 4.5.2 材料目录库 }B_?7+ 4.5.3 导出材料数据 &2S-scP 4.6 常用单位 (4?^X 4.7 插值 X,bhX/h 4.8 材料数据的平滑 ;hF}"shJN 4.9 一般文档编辑规则 hV:++g 4.10 设计文档 e4|a^lS; 4.10.1 公式 z?pi/`y8> 4.10.2 更多关于膜层厚度 {Qc,Nl
[? 4.10.3 沉积密度 5h |aX 4.10.4 性能计算 s\<UDW 4.10.5 保存设计和性能 UA4c4~$S 4.10.6 默认设计 W =;,ls 4.11 图表 "U+c`V=w 4.11.1 合并曲线图 8!YQ9T [ 4.11.2 自适应绘制 4>OS2b`.; 4.11.3 动态参数图 fefy`J 4.11.4 3D绘图 B!&y>Z^$ 4.12导入和导出 kR3wbA 4.12.1 剪贴板 KDP"z 4.12.2 不通过剪贴板导入 !&:Cp_ 4.12.3 不通过剪贴板导出 EIfqRRTA 4.13 背景(Context) 2vU-9p { 4.14 扩展公式 - 生成设计 h(R7y@mp\0 4.15 生成Rugate
;u[:J 4.16 参考文献 v(GnG 5 在Essential Macleod中建立一个Job x)Zb:" 5.1 Jobs RN|Bk 5.2 创建一个新的Job ^M%P43 5.3 输入材料 K\xnQeS<W 5.4 设计数据文件夹 IaQm)"Z 5.5 默认设计 @3$ I 6 细化和合成 Z=Cw7E 6.1 最优化导论 L>mM6$l 6.2 细化 4_ypFuS ^ 6.3 合成 m5&Ht (I%n 6.4 目标和评价函数 P{9wJ< 6.4.1 目标输入 P3-O)m]jv 6.4.2 目标关联 a6cU<(WDeh 6.4.3 特殊的评价函数 :5$ErI 6.5 膜层锁定和关联 m mZP; 6.6 优化技术 {&XTa`C 6.6.1 单纯形 {to(?`Y 6.6.1.1单纯形参数 MgJ5FRQ 6.6.2 Optimac 60]VOQku 6.6.2.1 Optimac参数 ah
f,- ?S 6.6.3 模拟退火算法 o5 ~VT!'[ 6.6.3.1退火参数 Ph%ylS/T{ 6.6.4 共轭梯度 H C,5j)1 6.6.4.1共轭梯度参数 (n8?+GCa 6.6.5 拟牛顿法 I\1"E y 6.6.5.1 拟牛顿法参数: )P? F ni} 6.6.6 针形合成 n1GX`K 6.7 我应该使用哪种技术? ']fyD3N 6.7.1 细化 A,t g268 6.7.2 合成 5z9hcQAS 6.8 参考文献 -:pVDxO 7 导纳图和其他工具 D
"5|\ 7.1 介绍
04&S.#+( 7.2 导纳变换 (T$cw(! 7.2.1 四分之一波长规则 ;dMr2y`6 7.2.2 导纳轨迹图 H! 5Ka#B 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 y9]7LETv\M 7.4 全介质抗反射膜的应用 aMGh$\Pg 7.5 对称周期结构 GM9[ 0+u; 7.6 参考文献 rp
dv{CUp7 8.典型的镀膜实例 b;d7mh4 8.1 单层抗反射膜 u{&=$[; 8.2 1/4-1/4抗反射膜 DJ7ak>"R
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 re/u3\S 8.4 W-膜层 A'7Y{oPHX 8.5 V-膜层 p>\[[Md 8.6 高折射基底V-膜层 <*z'sUh+} 8.7 高折射率基底b V-膜层 QxaMe8( 8.8 1/4-1/4高折射率基底 l3BN,HNv+ 8.9 四层抗反射膜 88X]Uw(+ 8.10 Reichert抗反射膜 VyNF)$'T 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 &&52ji<3 8.12 宽波段6层抗反射膜 9S17Lr*c 8.13 宽波段8层抗反射膜 UMBeY[? 8.14 宽波段25层抗反射膜 x1`(Z|RJ 8.15 四层2-1 增透膜 9<y{:{i 8.16 1/4波长堆栈 K$D+TI) 8.17 陷波滤光器 Lg,ObVt! 8.18 Rugate eN|zD?ba& 8.19 消偏振分光片1 fKFD>u0% 8.20 消偏振分光片2 LgX2KU" 8.21 消偏振立体分光片 %%n&z6w |