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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark 'c<@SVF{Zz 译:讯技科技股份有限公司 =;3|?J0= 校:讯技科技股份有限公司 b+M[DwPw 1*x4T%RF$ 书籍概况: CW=-@W7 >gr6H1 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 j1>77C3 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ~5wCehSb 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 8[FC #1zWzt|DW 书籍目录 !+M H?A K (plzQ3 1 引言 I#Tl 2 光学薄膜基础 k-
sbZL 2.1 一般规则 `4&\ %9 2.2 正入射规则 {-S0m= 2.3 斜入射规则 pKMf#)qm 2.4 精确计算 DrltxI) 2.5 相干性 C({L4O#?o 3 Essential Macleod的快速预览 r\[HR ^` 4 Essential Macleod的特点 %'* |N[ 4.1 容量和局限性 $}k"wI[ 4.2 程序在哪? 3MjMN %{P 4.3 数据文件 3a{QkVeV7 4.4 设计规则 ~pj9_I 4.5 材料数据库和目录库 &/\0_CoTR\ 4.5.1 材料数据库及导入材料 _'AIXez7q 4.5.2 材料目录库 nwN<Q\]S 4.5.3 导出材料数据 &nn.h@zje 4.6 常用单位 igz:ek` 4.7 插值 D2!ww{t 4.8 材料数据的平滑 fD\h5`- 4.9 一般文档编辑规则 ^@)/VfVg 4.10 设计文档 =10t3nA1$ 4.10.1 公式 de1& 4.10.2 更多关于膜层厚度 XE$eHx3; 4.10.3 沉积密度 ]V@!kg(p8 4.10.4 性能计算 CsSB'+&{ 4.10.5 保存设计和性能 O:7y-r0i 4.10.6 默认设计 _n}!1(xYa` 4.11 图表 u>S&?X'a 4.11.1 合并曲线图 lGLZIp 4.11.2 自适应绘制 iMp)g%Ng 4.11.3 动态参数图 {b<8Z*4W 4.11.4 3D绘图 S|]~,l2]} 4.12导入和导出 ~82jL%-u 4.12.1 剪贴板 _-8,}F}W#s 4.12.2 不通过剪贴板导入 I;-{#OE, 4.12.3 不通过剪贴板导出 2|%30i,vV 4.13 背景(Context) )cqhbR 4.14 扩展公式 - 生成设计 &`TX4b^/! 4.15 生成Rugate ^m1Rw| 4.16 参考文献 W: ?-d{ 5 在Essential Macleod中建立一个Job uEi!P2zN
5.1 Jobs C}1(@$ 5.2 创建一个新的Job ,Fr{i1Ky 5.3 输入材料 4UL-j 5.4 设计数据文件夹
II<<-Y6 5.5 默认设计 5e2mEQU> 6 细化和合成 `z=MI66Nl 6.1 最优化导论 D9LwYftZ 6.2 细化 IeU.T@ $ 6.3 合成 p-7dJ 6.4 目标和评价函数 lHGv:TN 6.4.1 目标输入 95!xTf 6.4.2 目标关联 C3_*o>8 6.4.3 特殊的评价函数 5;^8wh( 6.5 膜层锁定和关联 8Peqm?{5Y5 6.6 优化技术 }dXL= ul 6.6.1 单纯形 )nJ>kbO~8 6.6.1.1单纯形参数 hsE!3[[ 6.6.2 Optimac S$H4xkKs 6.6.2.1 Optimac参数 sJ?kp^!g 6.6.3 模拟退火算法 1Xs!ew)> 6.6.3.1退火参数 lT:<ZQyjT 6.6.4 共轭梯度 'QV4=h` 6.6.4.1共轭梯度参数 <K0lS;@K 6.6.5 拟牛顿法 wM&G-~9ujk 6.6.5.1 拟牛顿法参数: isd[l-wAmf 6.6.6 针形合成 $o @?D^ 6.7 我应该使用哪种技术? Rp<Xu6r 6.7.1 细化 X!
]~]%K$y 6.7.2 合成 bR6bS7$ 6.8 参考文献 9]YmP8 7 导纳图和其他工具 m:41zoV 7.1 介绍 {Y@[hoHtF 7.2 导纳变换 16+@#d%#p 7.2.1 四分之一波长规则 Z~nl{P# 7.2.2 导纳轨迹图 ;4_n:XUgo; 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 DuE>KX{<!R 7.4 全介质抗反射膜的应用 5Ci}w|c/> 7.5 对称周期结构 WIGb7}egR 7.6 参考文献 .U3p~M+ 8.典型的镀膜实例 )5t_tPv 8.1 单层抗反射膜 "_l[4o[D 8.2 1/4-1/4抗反射膜 *=Fcu@ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 }"8_$VDcz 8.4 W-膜层 |s^ar8)=) 8.5 V-膜层 Yx%%+c?. 8.6 高折射基底V-膜层 wTW"1M 8.7 高折射率基底b V-膜层 7/1S5yUr| 8.8 1/4-1/4高折射率基底 m88~+o<G% 8.9 四层抗反射膜 f65Sr"qB3 8.10 Reichert抗反射膜 'I~dJEW7 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 H xlw1(zS 8.12 宽波段6层抗反射膜 9C.cz\E 8.13 宽波段8层抗反射膜 _SaK]7}m! 8.14 宽波段25层抗反射膜 S&Sf}uK 8.15 四层2-1 增透膜 9j"\Lr*o" 8.16 1/4波长堆栈 !eq]V9 8.17 陷波滤光器 fkG8,= 8.18 Rugate 8j$q%g 8.19 消偏振分光片1 eXd(R>Mx 8.20 消偏振分光片2 cm3Y!p{p" 8.21 消偏振立体分光片 +{I\r| 8.22 消偏振截止滤光片 L$xRn/\ 8.23 偏振立体分光片1 op*+fJHD 8.24 偏振立体分光片2 [GuDMl3hC 8.25 缓冲层 ?MYD}`Cv 8.26 红外截止滤光片 >guQY I@4, 8.27 21层长波通过光片 qWFg~s#+ 8.28 49层长波通滤光片 o7+/v70D 8.29 55层长波通滤光片 -0`hJ_( 8.30 宽带通滤光片 GCKl[<9* 8.31 诱导透射滤光片 %)D7Dr 8.32 诱导透射滤光片2 54{"ni2a 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 twtDyo(\ 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 {5udol5? 8.35 增益平坦滤光片 6bGD8; 8.36 啁啾反射镜1 h[]N=X 8.37 啁啾反射镜2 {dwV-qz 8.38 啁啾反射镜3 yjq
)}y,tF 8.39 铝保护膜 nf4P2<L! 8.40 铝反射增强膜 s]iOC6v 8.41 参考文献 XbC8t &Q], 9 多层膜 M9K).P= 9.1 多层膜基本原理—堆栈 DX";v
J 9.2 内透过率 IT(c'} 9.3 简单例子 h 3&:"*A2 9.4 简单例子2
n@Ag`} 9.5 圆锥和带宽计算 Pb,^UFa= 9.6 在Design中加入堆栈进行计算 "{_"NjH 10 光学镀膜色彩 1Tq$ E[ 10.1 介绍 c)8wO=! 10.2 色彩 1,T9HpM 10.3 主色调和纯度 IJ8DN@w9 10.4 色度和浓度 7gwZ9Fob 10.5 薄膜的颜色和最优化颜色刺激 |^Es6 .~ 10.6 Essential Macleod中的色彩计算 S nHAY< 10.7 参考文献 zq.&Mw? 11 薄膜中的短脉冲现象 hYn'uL^~[ 11.1 短脉冲
x]oQl^F 11.2 群速度 E/ZJ\@gzD 11.3 群速度色散 <k](s 11.4 啁啾 3ms/v:\ 11.5 光学薄膜—相变 LrMFzd}_O 11.6 群延时和群延迟色散 $:[BB,$ 11.7 色散 4E>(Y98 11.8 色散补偿 >U<nEnB$? 11.9 空间光线移位 noA\5&hqW 11.10 参考文献 Nr9[Vz?$P 12 公差与误差 /8}+#h)[ 12.1 蒙特卡罗模型 S I7B6c 12.2 Essential Macleod中的误差分析工具
:XSc#H4 12.2.1 误差分析工具 Y:%)cUxA 12.2.2 灵敏度工具 +^?-}v 12.2.2.1 Independent Sensitivity N[bN"'U/1 12.2.2.2 灵敏度分布 $ud>Z;X=P 12.2.3 Simulator—一个更高级模型 41o!2(e$ 12.3 参考文献 >iH).:j 13 Runsheet 与Simulator GB?#1|, 13.1 基本原理 1fW4=pF-K 13.2 边带滤光片设计 x{>Y$t] 14 光学常数提取 q7&yb.<KD. 14.1 介绍 id+m[']+ 14.2 介电薄膜 S7ehk*` 14.3 n和k提取工具 U;{,lS2l 14.4 基底 eCIRt/ uA 14.5 金属的光学常数 kA%OF*%|6 14.6 不正确的模型 B"m:<@ " 14.7 参考文献 ~f10ZB_k>' 15 反演工程 : .o=F`W 15.1 随机和系统误差 _MbVF>JOx 15.2 系统常见的问题 `qDz=,)WP 15.3 单层膜 R}w wC[{ 15.4 多层模 v*~%x 15.5 建议 $&=;9=" 15.6 反演工程 {O kik}Oh 16 应力、张力、温度和均匀性工具 NB5L{Gf6- 16.1 温度引起光学性能的改变 C.eV|rc@T 16.2 应力工具 fsJTwSI[" 16.3 平均误差 62)lf2$1 16.3.1 Taper工具 {0vbC/?] 16.3.2 波像差问题 RO$@>vL 16.4 参考文献 Da8$Is;n 17 如何在Function中编写操作数 p
(xD/E 17.1 引言 y'!p>/%v 17.2 操作数 KPjqw{gR_R 18 如何在Function中编写脚本 ]2\2/~l 18.1 简介 >9tkx/J 18.2 什么是脚本? nUud?F^_ 18.3 Function中脚本和操作数的对比 K;y\[2;}e, 18.4 基本概念 !|<f%UO 18.4.1 Classes Wqs.oh 18.4.2 Objects :qCm71* 18.4.3 Messages I0l.KiBm 18.4.4 Properties L2>?m`wp 18.4.5 Methods Iz?Wtm } 18.4.6 显式声明 jO&f*rxN 18.5创建对象 h`EH~ W0:z 18.5.1 创建对象函数 9(^X2L&Z 18.5.2 使用ThisSession和其他对象 eW"x%|/Q7 18.5.3 概要 R!/,E 18.6 脚本中的表格 &Qq/Xi,bZ 18.6.1 方法1 SEQO2`]e: 18.6.2 方法2 [Yx-l;78 18.7 注释 =>:% n 18.8 Scripts脚本管理器 @%G' U&R{ 18.9 更高级的脚本命令 @8M'<tr<z 18.10 <Esc>键 `z$uw
18.11 优化用脚本 Xw*%3' 18.12 脚本对话框 E%k ]cZ 18.12.1 介绍 uF]D 18.12.2 消息框-MsgBox .}$`+h8WT 18.12.3 输入框函数 L^5&GcHP0 18.12.4 自定义对话框 b#Fk>j 18.12.5 对话框编辑器 igRDt{} 18.12.6 对话框的控制 ^b"x|8 18.12.7 更高级的对话框 do=x9k@Q 18.13 进一步研究 {m+S{dWp 19 vStack lrmt)BLoh 19.1 vStack基本原理 []=FZ`4 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 6zp@#vYI 19.3 五棱镜 ;Z!~A"~$> 19.4 二向分色棱镜 F;?TR[4!k 19.5 偏振泄漏 1&8j3" 19.6 波前差—相位 m0BG9~p| 19.7 其他参数 ,<;l"v( 20 报告生成器 %;=IMMK 20.1 介绍 9{9#AI.G 20.2 指令 uGP[l`f|FQ 20.3 页面布局指令 %)<oX9E 20.4 常见的Plots图和三维图 kH>vD =q> 20.5 常见参数表 c6?c>*z 20.6 重复指令 XDP6T"h 20.7 报告模版 VGTeuu5i 20.8 预备设计一个报告模版 7zJrT5 21 一个新项目 EaM"=g 21.1 创建一个新Job k Z+ q 21.2 默认设计 6:|!1Pg5 21.3 薄膜设计 FhY{;-W(T 21.4 误差的灵敏度 @sB}q 6> 21.5 显色性 Yn IM- 21.6 电场分布 Q
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