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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark h[0,/`qb{ 译:讯技科技股份有限公司 Z'~yUo= 校:讯技科技股份有限公司 dM1)wkbET /U#{6zeM[, 书籍概况: d8? }69:h 6n.W5
1g(s Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 `2@t) : 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 t%n3~i4X: 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 |NcfR"[c m1k+u)7kD 书籍目录 9j[%Y? N +9`'n^x 1 引言 5Q.bwl : 2 光学薄膜基础 4u
zyU_ 2.1 一般规则 iG1vy'J#o 2.2 正入射规则 E:N~c'k 2.3 斜入射规则 $:%?-xy( 2.4 精确计算 I T)rhi: 2.5 相干性 >y&4gm 3 Essential Macleod的快速预览 i`^`^Ka 4 Essential Macleod的特点 !S[8w9q 4.1 容量和局限性 %/:{x()G
4.2 程序在哪? fL8+J]6A6 4.3 数据文件 -O2ZrJ!q 4.4 设计规则 8}0W_C U, 4.5 材料数据库和目录库 vmW4 3K; 4.5.1 材料数据库及导入材料 ;2vHdN 4.5.2 材料目录库 aZYa<28?L% 4.5.3 导出材料数据 fmvX;0O 4.6 常用单位 r[zxb0YA 4.7 插值 \d0R&vFHQ 4.8 材料数据的平滑
`?Yh`P0 4.9 一般文档编辑规则 h$p]#]uMb 4.10 设计文档 1.0S>+^JE 4.10.1 公式 {|%N 4.10.2 更多关于膜层厚度 Y?2I
/ 4.10.3 沉积密度 t)LD-%F 4.10.4 性能计算 j(!M 4.10.5 保存设计和性能 J'O</o@e 4.10.6 默认设计 m9UI3fBX 4.11 图表 *]fBd<(8 4.11.1 合并曲线图 o[Yxh%T 4.11.2 自适应绘制 adh=Kp e!w 4.11.3 动态参数图 8?4j- 4.11.4 3D绘图 #N%xr'H 4.12导入和导出 5tg 4.12.1 剪贴板 4!<8Dd 4.12.2 不通过剪贴板导入 5B!l6ST 4.12.3 不通过剪贴板导出 jRS0(8 4.13 背景(Context) ^zHBDRsb2F 4.14 扩展公式 - 生成设计 _PrK6M@"L 4.15 生成Rugate >C~-*M9 4.16 参考文献 K*Zf^g
m 5 在Essential Macleod中建立一个Job 1@C0c% 5.1 Jobs g]R }w@nJ 5.2 创建一个新的Job a3
<D1" 5.3 输入材料 "P=OpFV 5.4 设计数据文件夹 5C/W_H+9iK 5.5 默认设计 Uu{I4ls6B 6 细化和合成 'D8WNZ8Q 6.1 最优化导论 T9\wkb. 6.2 细化 OS6 l*S(' 6.3 合成 !@!,7te 6.4 目标和评价函数 ~k?7XF I 6.4.1 目标输入 ^!-*xH.dK 6.4.2 目标关联 n4+l,~ 6.4.3 特殊的评价函数 jEsP: H(0^ 6.5 膜层锁定和关联 Y@N}XH<4R 6.6 优化技术 z iR} 6.6.1 单纯形 \5 IB/* 6.6.1.1单纯形参数 ./LD 6.6.2 Optimac 40N8?kQ}? 6.6.2.1 Optimac参数 EAU6z(X$ 6.6.3 模拟退火算法 D)XF@z; 6.6.3.1退火参数 Iodk1Y; 6.6.4 共轭梯度 "qUUH4mR` 6.6.4.1共轭梯度参数 |GtTz& 6.6.5 拟牛顿法 ~isrE;N1| 6.6.5.1 拟牛顿法参数: twU^ewO& 6.6.6 针形合成 -`gqA%#+ 6.7 我应该使用哪种技术?
yTwv2l;U 6.7.1 细化 b[Sd$ACd 6.7.2 合成 $-m@cObw!. 6.8 参考文献 C1^=se 7 导纳图和其他工具 .w\AyXp 7.1 介绍 .}S9C]d:a 7.2 导纳变换 Bs(\e^} 7.2.1 四分之一波长规则 a}ogNx 7.2.2 导纳轨迹图 vO!p8r
F 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 ZIQy}b' 7.4 全介质抗反射膜的应用 DcA{E8Y 7.5 对称周期结构 Y&KI/]ly,L 7.6 参考文献 `P<}MeJ\l 8.典型的镀膜实例 (:Rj:8{ 8.1 单层抗反射膜 B)g7MG 8.2 1/4-1/4抗反射膜 yjlX@YXnw 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 S/)P&V% 8.4 W-膜层 P:vAU8d> 8.5 V-膜层 yEyx.Mh.Af 8.6 高折射基底V-膜层 [ZU6z?Pf 8.7 高折射率基底b V-膜层 _0ki19rs 8.8 1/4-1/4高折射率基底
&2[OH}4 8.9 四层抗反射膜 hp+=UnW 8.10 Reichert抗反射膜 .6aC2A]es 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 FIhq>L.q4 8.12 宽波段6层抗反射膜 =B@+[b0Z 8.13 宽波段8层抗反射膜 @S\!wjl]C 8.14 宽波段25层抗反射膜 68JYA? 8.15 四层2-1 增透膜 ste0:.*qb 8.16 1/4波长堆栈 /MYl:>e> 8.17 陷波滤光器 [E<NEl* 8.18 Rugate UIgs/ 8.19 消偏振分光片1 }M-^A{C\% 8.20 消偏振分光片2 PNY"Lqj 8.21 消偏振立体分光片 ekC
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l 8.22 消偏振截止滤光片 &7_xr.c7 8.23 偏振立体分光片1 K8M[xaI@ 8.24 偏振立体分光片2 dPZrX{ c 8.25 缓冲层 r:0F("},
8.26 红外截止滤光片 < |