上海光机所在宽带隙氧化物薄膜非线性吸收系数测量研究方面取得进展
近期,中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室在宽带隙氧化物薄膜非线性吸收系数测量研究方面取得进展。研究团队通过抑制薄膜基底的非线性响应,提高测量信噪比,获得了HfO2、Al2O3和SiO2等常用薄膜材料的非线性吸收系数。相关成果发表在Optical Materials Express(《光学材料快讯》)上。 HfO2、Al2O3和SiO2等薄膜材料是高功率激光系统中的常用材料,由于其光学带隙很宽,在现今运行的超强超短激光中可以忽略其非线性光学响应。随着国内100 PW激光装置的建设,以及峰值功率向EW量级发展,薄膜材料极其微弱的非线性光学响应也将影响激光输出性能。准确测量薄膜材料的非线性光学常数,是有针对性设计超高峰值功率光学薄膜元件的基础。 |