切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1447阅读
    • 0回复

    [技术]TRCX:掺杂过程分析 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    5797
    光币
    23137
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理工程可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。 h)"'YzCt  
    Dy98[cL  
    K~P76jAe$  
    4 3}qaf[  
    u|(aS^H=q  
    >>/nuWdpO  
    (a)FIB n (9F:N  
    {c.}fyN  
    !d/`[9jY  
    (b) 掺杂前后对比
    KwY`<t1lA;  
     
    分享到