切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 先进光刻机曝光系统光学设计 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 2074阅读
    • 0回复

    [技术]TRCX：掺杂过程分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7377
    光币
    31026
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。 87YyDWTn  
    Er{>p|n =  
    S;- LIv  
     0vw4?>Jf@  
    yNbjoFM.i  
     UNBH  
    (a)FIB  \*<d{gZ~  
    [)TRTxFb  
     [D4Es  
    (b) 掺杂前后对比
    Ll4g[8  
    本主题包含附件，请 登录 后查看, 或者 注册 成为会员
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表