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    [技术]TRCX：掺杂过程分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。 x/0loW?q^  
    B+z>$6  
    #, h0K  
     9.BgsV .  
    CU:HTz=  
     S$ k=70H  
    (a)FIB og&-P=4O  
    u82(`+B  
     x@3cZd0j#  
    (b) 掺杂前后对比
    Q CO,f  
     
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