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    [技术]TRCX：掺杂过程分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。 gbc^Lb  
    Y^dVNC3vd  
    (xU+Y1*g"%  
     D\Y)E#%,  
    &`7~vA&c  
     _/[n/"gn  
    (a)FIB =goZI67  
    `92 D]^g  
     B0c}5V  
    (b) 掺杂前后对比
    V07x+ovq  
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