切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 光学系统设计：理论、仿真与系统检测 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 光学设计与光学元件 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1636阅读
    • 0回复

    [技术]TRCX：掺杂过程分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6441
    光币
    26350
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。 D&" D[|@  
     ch8a  
    y%SxQA +\  
     \</!kY*3@t  
    XP:A"WK"  
     IWQ0I&tzdx  
    (a)FIB T&?g)  
    m$fEk,d  
     lPZ(c%P  
    (b) 掺杂前后对比
    Do/R.Mgy*  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表