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    [技术]TRCX：掺杂过程分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。 L2`a| T=  
    *di}rQHm  
    2Wp)CI<\D  
     b1Fd]4H3P  
    \+VQoB/  
     v|@1W Uc,g  
    (a)FIB Kp?j\67S  
    }&Kl)2:O  
     NhF<2[mt  
    (b) 掺杂前后对比
    iZn<j'u  
     
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