[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ /xn|d#4  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 {O+T`;=)L  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， FSuC)Xg  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 FB k7Cn!  

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ 7a[6@  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 BMq> Cj+  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， 7,)E1dx -V  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 A":=-$)  
 (2021-12-16 11:58)  cO:lpsKYQ  

rzdQLan  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… '*[7O2\%/  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 ,7$&gx>2&  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 d
kC_Sh{  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… e`B!)Sr  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 J*ofa>  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 m[l&&(+J,  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  gdAd7 T  

A?-t`J  
好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  :p1_ij]ND  

M(} T\R  
是的。