[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ zi }(^~Fe  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 U-eI\Lu  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， 9qr UM`z$g  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 Fom>'g*  

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ 0x~`5h  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 :gf;}  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， 2h q>T&8  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 b\giJ1NJB  
 (2021-12-16 11:58)  [l*;E f,  

YeyGN  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… BJ5}GX!  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 eW50s`bKY  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 re`t ]gzb  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… %*
W<vu>H  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 Cifd21v4  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 mT.e>/pa  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  $nPAm6mH  

R_kQPP  
好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  3f76kl(&  

O8u3y  
是的。