[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ (OwAhjHE  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 m2F2  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， = NHuj.  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 j]U sb
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ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ (-S<9u-r  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 O2i7w1t  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺，  N>ncv  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 r-^FM~
Jp  
 (2021-12-16 11:58)  { 0\Ez}  

KLb"_1z  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… #jrtsv]  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 s!k7Wwj  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 YnR8mVo5Q  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… O~Jm<  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 &4O2uEW0  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 1[yy/v'q  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  iQJa6QF&:  

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好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  m-6&-G#  

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是的。