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内容简介： H;TOPtt2
.fLiX x 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； M]6w^\4j9
R<y Nv 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 M73VeV3DL
%S
>xSqX 结构设计 _:ZFCDO 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 p jX%LsX\
mc0s db,c$ z^ aCQ3E 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 B%%.@[o,
Zzw}sZ?8 q7O,I`KaJ 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 ; d, JN
27Kc -rcB 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 Xmf U,%s; 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 2cs?("8e%
S 0R8'Y g^s+C Z 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 9_ J!s RJtix uvh@  T8,k7 7
t/v@vJ`vSH \ &eY)^vw !XgQJ7y_Z 导出加工数据 U=haX x4N
DHh+%|e 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) K?h[.`}
i;[h
9=\/ ]yyU)V0Iu 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 *fxep08B
&q ," !:L] g6rv`I $l 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 p&k 0Rx0Q3 q
Axf5  E p^B,;~
B* 9 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 9|J8]m?x K&j' c 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 ,$HHaoo g 5T! &r 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 mcvDxjk,h NY~ dM\ !Bag}|#
导出加工数据列表 zSEr4^Dk4
kFS0i%Sr o:Ln._bj G
i$ 导入加工数据 4 8lzOG
{&u Rd?( 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI 0w^jls
=Ov9Kf -Bl/ 4p 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) , yTN$K%M
+nU' , E cL6 6gOEL 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) #o"tMh!f ]a8 e Dy 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 %rFP#L
D[V`^CTu ymHKcQ  0rV/qMo;K wyp{KIV  Xe)Pg)J1 6) 导入完成，观察3D视图 pH^ z
{>S4 #^@}  #U\$@4D $$42pb.
QQ：2987619807
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