Zemax光学设计从入门到精通	《杂散光抑制与评估技术》	Zemax光学设计实践基础(陈家璧)	光学设计与光学元件
讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商	先进光刻机曝光系统光学设计	CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape	计算光学带来的成像革命(第2季)

发帖回复

3552阅读
0回复

[产品]TRCX软件 [复制链接]

上一主题下一主题

离线infotek

科学家

发帖: 7377

光币: 31026

光券: 0

只看楼主正序阅读楼主发表于: 2021-07-20

1. 软件简介

TRCX非常适合大尺寸的触控屏、LCD、OLED面板的高级的RC分析，可用于任何形状的3D结构，可以快速地进行RC提取。

1.1 应用领域

TRCX提供精确的RC提取，能提升产品开发效率：
 TFT和显示器结构创建；
 有损电介质求解；
 重复结构模拟；
 大面积的精准快速模拟；
 触摸屏模拟；
 指纹传感；
 面板内RC提取；
 电极的电流密度分析；

1.2 主要功能

 内置布局编辑器，并且可以通过Skill语言界面直接从其他商业布局运行；
 使用TechWiz 布局进行掩膜版设计时，可导入TDB和GDS文件；
 完整的3D生成器，多样的生成条件，提供多种刻蚀过程条件；
 Layout模块使用简易的设定模式提供用户快速的设定与检视所生成的3D结构；
 加载GDS时，用户可以设置虚拟多边形的去除条件，以加快并稳定网格生成；
 提供三种3D网状形状：锥形、锥形保形和曼哈顿；
 掺杂金属化：用户可以通过自我调整的掩膜板定义掺杂的区域；
 提供自适应和非结构化网格算法，可以控制边缘，表面和体积条件；
 具有强大的解决方案，可自动定义电极名称，只需选择电极即可获得RC提取结果；
 通过使用变量功能可以非常轻松快捷地生成各种3D网格结构，可设置的变量参数：厚度，水平度（平面化），锥角和宽度，CD余量，圆角倒圆和移位距离；
 支持分布式和并行计算方法
 也适用于LSF平台；

1.3 应用举例

 可以将结构参数设置为变量，执行高级工艺余量分析，如图显示了根据栅极掩膜的覆盖率的电容结果，通过使用split选项，工程师可以通过门极掩膜的未对准来预测错误率。

 为有损介电材料提供复数求解器，左边的图片描述了具有低和高电导率的有损耗电介质的电势分布。右边的这是一个电容的计算结果。

 进行大面积的电阻计算，利用分区模拟提高计算速度。

 手指在TSP中的位置的电位分布模拟，根据计算数据显示电容计算的结果。

QQ：2987619807

分享到

发帖回复

返回列表


	http://www.opticsky.cn 访问内容超出本站范围，不能确定是否安全


	关闭您还没有登录，快捷通道只有在登录后才能使用。立即登录还没有帐号？赶紧注册一个


	关闭选中1篇全选

帖子

[产品]TRCX软件 [复制链接]