-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-07-15
- 在线时间1977小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
1. 软件简介 P;_}nbB Z<L|WRe TRCX非常适合大尺寸的触控屏、LCD、OLED面板的高级的RC分析,可用于任何形状的3D结构,可以快速地进行RC提取。 hTZ& }71a3EUK 1.1 应用领域 UnSi= uj Ws%@SK TRCX提供精确的RC提取,能提升产品开发效率: DX>Yf} TFT和显示器结构创建; lrqu%:q 有损电介质求解; 72uARF 重复结构模拟; 8S*3W3HY 大面积的精准快速模拟; 'sb&xj`d 触摸屏模拟; m'{gO9V 指纹传感; i\~@2 面板内RC提取; {m%]`0 电极的电流密度分析; 6Ih8~Hu /4Ud6gscf 1.2 主要功能 mX8k4$z I'6wh+ 内置布局编辑器,并且可以通过Skill语言界面直接从其他商业布局运行; jSi\/(E 使用TechWiz 布局进行掩膜版设计时,可导入TDB和GDS文件; sz;B-1^6 完整的3D生成器,多样的生成条件,提供多种刻蚀过程条件; yW3!V-iA Layout模块使用简易的设定模式提供用户快速的设定与检视所生成的3D结构; ?|4Y(0N 加载GDS时,用户可以设置虚拟多边形的去除条件,以加快并稳定网格生成; -rg >y!L 提供三种3D网状形状:锥形、锥形保形和曼哈顿; +H"[WZ5 掺杂金属化:用户可以通过自我调整的掩膜板定义掺杂的区域; C_CUk d[ 提供自适应和非结构化网格算法,可以控制边缘,表面和体积条件; @8\7H'K"\ 具有强大的解决方案,可自动定义电极名称,只需选择电极即可获得RC提取结果; 1jHugss9| 通过使用变量功能可以非常轻松快捷地生成各种3D网格结构,可设置的变量参数:厚度,水平度(平面化),锥角和宽度,CD余量,圆角倒圆和移位距离; vndD#/lXq 支持分布式和并行计算方法 py\KY R 也适用于LSF平台;
h{ xq $2!|e,x 1.3 应用举例 CuT~
Bj K=Q<G:+&V 可以将结构参数设置为变量,执行高级工艺余量分析,如图显示了根据栅极掩膜的覆盖率的电容结果,通过使用split选项,工程师可以通过门极掩膜的未对准来预测错误率。 )gNS%tc*K m2sf]-?Y
0eJqDCmH LVHIQ9 为有损介电材料提供复数求解器,左边的图片描述了具有低和高电导率的有损耗电介质的电势分布。右边的这是一个电容的计算结果。 YCBp]xuE \S5YS2,P
;@5N 9Rf})$o+ 进行大面积的电阻计算,利用分区模拟提高计算速度。 <GdQ""X )By#({O
e-&0f);i ][D/=-
手指在TSP中的位置的电位分布模拟,根据计算数据显示电容计算的结果。 G~.bi<(v y)//u:l
D MzDV _ s?j || "pA24Ze QQ:2987619807 g$?kL
|