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1. 软件简介 :^l*_v{ <U1uuOt TRCX非常适合大尺寸的触控屏、LCD、OLED面板的高级的RC分析,可用于任何形状的3D结构,可以快速地进行RC提取。 ?KS9Dh &<tji8Dj 1.1 应用领域 >D-$M_ ~x4Y57 TRCX提供精确的RC提取,能提升产品开发效率: 2{U4wTu TFT和显示器结构创建; ry7(V:ic 有损电介质求解; 3`, m=1[) 重复结构模拟; ?I7H ): 大面积的精准快速模拟; i>!f|< 触摸屏模拟; i"_f46rP 指纹传感; ZO}V}3 面板内RC提取; 9wtl|s%A% 电极的电流密度分析; vo0[Z,aH5 v- {kPc=:# 1.2 主要功能 `-w;=_Bm (8H^{2K~ 内置布局编辑器,并且可以通过Skill语言界面直接从其他商业布局运行; '}!dRpx 使用TechWiz 布局进行掩膜版设计时,可导入TDB和GDS文件; 8,['q~z 完整的3D生成器,多样的生成条件,提供多种刻蚀过程条件; #m8Oy|Y9` Layout模块使用简易的设定模式提供用户快速的设定与检视所生成的3D结构; \!w7N
:m 加载GDS时,用户可以设置虚拟多边形的去除条件,以加快并稳定网格生成; WX?|iw
I~ 提供三种3D网状形状:锥形、锥形保形和曼哈顿; K0+J!-a]7 掺杂金属化:用户可以通过自我调整的掩膜板定义掺杂的区域; d6M
d~$R 提供自适应和非结构化网格算法,可以控制边缘,表面和体积条件; $}HSU>,% 具有强大的解决方案,可自动定义电极名称,只需选择电极即可获得RC提取结果; .6/[X`* 通过使用变量功能可以非常轻松快捷地生成各种3D网格结构,可设置的变量参数:厚度,水平度(平面化),锥角和宽度,CD余量,圆角倒圆和移位距离; pl7!O9bo 支持分布式和并行计算方法 ryPz?Aw(4 也适用于LSF平台; <Ft.{aNq$c JH?[hb 1.3 应用举例 L[O+9Yh aEL6-['( 可以将结构参数设置为变量,执行高级工艺余量分析,如图显示了根据栅极掩膜的覆盖率的电容结果,通过使用split选项,工程师可以通过门极掩膜的未对准来预测错误率。 .@[+05Yw +, PBhB
){ wE)NN v$,9l+p/ 为有损介电材料提供复数求解器,左边的图片描述了具有低和高电导率的有损耗电介质的电势分布。右边的这是一个电容的计算结果。 ^l iyWl u}ab[$Q5
Y<kvJb&1* wk-ziw 进行大面积的电阻计算,利用分区模拟提高计算速度。 8E$KR:/:4 g4-HUc zk
1;H( Hi|Oeu 手指在TSP中的位置的电位分布模拟,根据计算数据显示电容计算的结果。 .e]!i(5I dc:|)bK
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C T4Zp5m") _A%z^&k(i QQ:2987619807 KU$.m3A>
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