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1. 软件简介 )NK2uD ;DTNw= TRCX非常适合大尺寸的触控屏、LCD、OLED面板的高级的RC分析,可用于任何形状的3D结构,可以快速地进行RC提取。 N>_7Ltw/ {T9g\F* 1.1 应用领域 TH-^tw \?ZdUY TRCX提供精确的RC提取,能提升产品开发效率: 6-~ TFT和显示器结构创建; =|V3cM4' 有损电介质求解; ='FEC-f95 重复结构模拟; /zWWUl`: 大面积的精准快速模拟; f
W ) 触摸屏模拟; h;6@-\6 指纹传感; pP#?| 面板内RC提取; t65!2G"< 电极的电流密度分析; gM8 eO-d m:t$& 1.2 主要功能 $lQi0*s <KpQu%2( 内置布局编辑器,并且可以通过Skill语言界面直接从其他商业布局运行; DuWP)#kg 使用TechWiz 布局进行掩膜版设计时,可导入TDB和GDS文件; {D@y-K5 完整的3D生成器,多样的生成条件,提供多种刻蚀过程条件; 7]Egu D4 Layout模块使用简易的设定模式提供用户快速的设定与检视所生成的3D结构; ) E\pQ5& 加载GDS时,用户可以设置虚拟多边形的去除条件,以加快并稳定网格生成; TsD
>m 提供三种3D网状形状:锥形、锥形保形和曼哈顿; ^$(|(N[; 掺杂金属化:用户可以通过自我调整的掩膜板定义掺杂的区域; km^AX:r1 提供自适应和非结构化网格算法,可以控制边缘,表面和体积条件; wcOAyo5(n 具有强大的解决方案,可自动定义电极名称,只需选择电极即可获得RC提取结果; jy?^an}#h 通过使用变量功能可以非常轻松快捷地生成各种3D网格结构,可设置的变量参数:厚度,水平度(平面化),锥角和宽度,CD余量,圆角倒圆和移位距离; "~ /3 支持分布式和并行计算方法 Qmrcng}P 也适用于LSF平台; _C4^J 1;h>^NOq 1.3 应用举例 }MX`WW0\]Z ~^eAS; 可以将结构参数设置为变量,执行高级工艺余量分析,如图显示了根据栅极掩膜的覆盖率的电容结果,通过使用split选项,工程师可以通过门极掩膜的未对准来预测错误率。 Pzqgg43Xf h\5
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{x_>M kBTuM" 为有损介电材料提供复数求解器,左边的图片描述了具有低和高电导率的有损耗电介质的电势分布。右边的这是一个电容的计算结果。 )D^P~2 }LRAe3N%8
ns3k{l# ;ry{cq 进行大面积的电阻计算,利用分区模拟提高计算速度。 v6GWD}HH, ,iyIF~1~#>
#yqcUbJY0R m} V,+E 手指在TSP中的位置的电位分布模拟,根据计算数据显示电容计算的结果。 B}Qo8i7
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