-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-11-17
- 在线时间1888小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
1. 软件简介 /njN*rhx&Z ` bg{\ .q TRCX非常适合大尺寸的触控屏、LCD、OLED面板的高级的RC分析,可用于任何形状的3D结构,可以快速地进行RC提取。 gE%- Pf~ 8S)k]$ wf% 1.1 应用领域 d_OHQpfK Qn6&M TRCX提供精确的RC提取,能提升产品开发效率: ni3^J5X W TFT和显示器结构创建; WJhI6lu 有损电介质求解; Z*leEwgz 重复结构模拟; qf'uXH 大面积的精准快速模拟; O! ;!amvz 触摸屏模拟; l3.HL> o 指纹传感; \.}* s]6 面板内RC提取; :r!nz\%WW 电极的电流密度分析; m 'a3}vRV( <oO^w&G 1.2 主要功能 fRq2sK;+ F9Mv$g79 内置布局编辑器,并且可以通过Skill语言界面直接从其他商业布局运行; SB]|y-su 使用TechWiz 布局进行掩膜版设计时,可导入TDB和GDS文件; t\'URpa+5% 完整的3D生成器,多样的生成条件,提供多种刻蚀过程条件; Pxl7zz&pl= Layout模块使用简易的设定模式提供用户快速的设定与检视所生成的3D结构; ^[5yff 4 加载GDS时,用户可以设置虚拟多边形的去除条件,以加快并稳定网格生成; ,%D \ 提供三种3D网状形状:锥形、锥形保形和曼哈顿; 8Kv=Zp,?` 掺杂金属化:用户可以通过自我调整的掩膜板定义掺杂的区域; O.!|;)HQ 提供自适应和非结构化网格算法,可以控制边缘,表面和体积条件; a2sN$k 具有强大的解决方案,可自动定义电极名称,只需选择电极即可获得RC提取结果; ]G&d`DNV 通过使用变量功能可以非常轻松快捷地生成各种3D网格结构,可设置的变量参数:厚度,水平度(平面化),锥角和宽度,CD余量,圆角倒圆和移位距离; S _1R]n1/ 支持分布式和并行计算方法 ^e)KEkh 也适用于LSF平台; m~%IHWO' ++5SofG@ 1.3 应用举例 0f1*#8-6 U
Tw\_s 可以将结构参数设置为变量,执行高级工艺余量分析,如图显示了根据栅极掩膜的覆盖率的电容结果,通过使用split选项,工程师可以通过门极掩膜的未对准来预测错误率。 \V}?K0#bt U%"v7G-
L`3 g5)V YJF!_kg. 为有损介电材料提供复数求解器,左边的图片描述了具有低和高电导率的有损耗电介质的电势分布。右边的这是一个电容的计算结果。 : 3*(kb1)& ^ WidA-
0o c5ahp F"~uu9u 进行大面积的电阻计算,利用分区模拟提高计算速度。 Bv@NE2 3/oVl
6
/+iU1m'( A]QgX5\sa 手指在TSP中的位置的电位分布模拟,根据计算数据显示电容计算的结果。 FG'F]fc% A6pPx1-&
6-j><' "0pu_ ):kDWc QQ:2987619807 ms`R^6Ra
|