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摘要 hZ')<@hNP J<&?Hb*| 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 Dv4 H^
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:j'd 建模任务 i8#:y`ai SPauno <M  3ik~PgGoKQ 概述
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&egP3 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Fu[GQ6{f •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ^,J>=>,1\ u]]mbER*t#
 =6=l.qyYK %H3 iX^}* 光线追迹仿真 G)gb5VW k o ?aF •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 IiY %y:!g •单击go！ >;}(? +|f •获得了3D光线追迹结果。 *r|1 3|k \)2'+ R
 "kKIv|` }s8xr> 光线追迹仿真 5H(
]"C J@J` ) •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 i6O'UzD@T •单击go！ _6L'}X$)N •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 nd5.Py$ fS%B/h=
 Mv:\T%] !.O;SG 场追迹仿真 Q*8 x Bi1 ?}C8_I|4~ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 dx.J v/Mb •单击go！ Ki /j\ WJ\,Y} J  hz h3p[
U?EXPi6 1Z 场追迹仿真（相机探测器） }x_:v!G xg;F};}5$
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 8C I\NR{x8 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 dSS Ai
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 _ ?XR;2 ] C~M,N|m+^ 场追迹仿真（电磁场探测器） ? O9| •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 5K =>x< `U>]*D6 8  }RQ HsS
zGP@!R`_ 场追迹仿真（电磁场探测器） R-Y 7I
"}0)~,{x B •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 j% '~l#nw c7R6.T
 P+rD ln { 8(H!iKHe 文件信息 BD M"";u O#)YbaE
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T~d_?UAw$ QQ：2987619807 5zF$Q {3
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