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摘要 VevG 64o cu
foP& 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 - _8-i1? |;xEKnF s>I]_W)Pt 建模任务 mRRZ/m?A( F-rhxJd u"(NN9s 结果 hnB`+! !-^oU" *]NfT}} 结果 W_E^+Wl@ Khi;2{` h U-FSdR 结果 T9&{s-3* q4w]9b/ MD;Z UAX< 文件信息 l+>Y ^h2+"" VgIk '.
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