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摘要 "
t?44[ *$3p3- 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 w ~^{V4V ;,7m `R!2N4|; 建模任务 Cq3Au%7 Qz"//=hC|H ap,zC)[ 结果 @!|h!p; foB&H;A4oC gZ-:4G|J 结果 na
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