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摘要 ;fJ.8C ! z**y}<T 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 @VBcJ{e, Zh,71Umz P%6~&woF 建模任务 ]A"h&`Cvt TO_e^A# yLGRi^d# 结果 q@&6#B H. c7Nle u"8yK5! 结果 1,~D4lD| OPi0~s `gJ(0#ac 结果 S:Hl/:iV \8
":]EU nEfK53i_ 文件信息 GmG5[?) U(Zq= M ]yu:i-SfP
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