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摘要 GJdL1ptc {>km]CG 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 :?UcD_F ViW2q"4= &Sg]P 建模任务 3^P;mQ$p1 P<>NV4 uG -+&MU? 结果 %<^^ Mw _p"u~j~%- qUfoEpW2=6 结果 p"P+8"` sSh." H yMdu
Zmkc 结果 RR=WD -l Y-8BL ]-t>F 文件信息 I:t?# )wl ZklO9Ox( RL&0?OT
QQ:2987619807
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