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摘要 r+}5;fQJ CLb~6LD 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 '.sS"QdN jIq@@8 @o 'w?*4H 建模任务 zHI_U\"8D t8Sblgq 1keH 1[ 结果 IA\CBwiLj ,X[lC\1a QJL%J 结果 nhfHY-l}7 \GL!x 7s1A 03F%!Rm/j 结果 y<Hka'(% Xndgs}zz Hh_Yd) 文件信息 J YA IXm}WTgF! i'GBj,:
QQ:2987619807
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