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摘要 D4{<~/oBv Gfepm$*% 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 a 4?c~bs eV9,G8 0\1g-kc!v 建模任务 DnCIfda2g j^/^PUR R$2\Xl@qQF 结果 y=}o|/5" ,9buI=' F_iZ|B 结果 0c&DSL}6 5',&8 T'5MO\ 结果 d263#R bc6|]kB: CSzu$Hnq 文件信息 }?6gj%$c H96|{q= A4)TJY
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