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摘要 #S)+eH W0J d2 *] 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 "MQy>mD6 ER<LP@3k / CEn yE/ 建模任务 9`VgD<?v ~VYZu=p $OB 2ZS" 结果 X Uc(7>k ;NQ9A &$) w=H 结果 jcD_<WSe ?XN=Er^ W{:^P0l 结果 o|O730"2F y:u7*%" >uT,Z,7O 文件信息 kKL'rT6z W6J%x[>Z E7X6Shng
QQ:2987619807
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