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摘要 v}v 5 SgE/!+{ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 ~ekh1^evu u.|~$yP.! wn11\j& 建模任务 gK3Mms]}m "MiD8wX- XL}<1-} 结果 fH8!YQG8$ Gr(|Ra. 6bZ[Kt 结果 ^Dx#7bsDZR H%z@h~s> 4o9$bv 结果 &4$oudn \`xkp[C UlQQP^Na 文件信息 wX'}4Z=C~ 1:= `Y@.S $X+u={]
QQ:2987619807
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