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摘要 5C w(
4. .Xg.,kW 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 OqGp|` ~Ps *i]n( B5\l&4X 建模任务 :4AQhn^;" w+$$uz = XZU9df 结果 ,%i
Scr,z YV>a 3 UBo0c?,4 结果 7KtU\u tX*@r FlO?E3d 结果 SX3'|'- (6,:X 8)B{x[?| 文件信息 O{ :{P5 j
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