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摘要 o;\c$|TNU cV+x.)a. 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 B6hd*f YnLwBJ 2i f:6%DT~a&C 建模任务 wEp*j+Mmce '<v_YxEn ;;cPt44s 结果 hD I}V1) M!nwcxB! "2FI3M= 结果 `x'vF# pS
C5$a( ,*}5xpX 结果 _8;)J g3"eEg5 NY hr)CxsPoRQ 文件信息 j^&{5s |Vq&IfP <Z6tRf;B
QQ:2987619807
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