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摘要 C+-sf Kxsj_^&|i 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 31mlnDif v3]~*\!5 ?WrL<?r)}U 建模任务 h6e,w$IL sV`XJ9e| D^w<V%]. 结果 !jN$U%/,%. 9<*<-x{A17 4$4n9`odE 结果 Q0TKM> dkOERVRe KI5099 _/ 结果 cqb]LC pEiq;2{~Yn N<|-b0#Z6 文件信息 w%f51Ex zfUkHL6 13I~
QQ:2987619807
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