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摘要 H$UcF1k< ye5&)d"fa( 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 >tW#/\x{ &gx%b*;`L0 gc$l^`+M 建模任务 U&p${IcEm JT_ `.( `3&v6 结果 =Jb>x#Y H"WprHe P\k# >}} 结果 zIAD9mQex E hMNap}5" $*fMR,~t& 结果 s!$7(Q86R mc\"yC^s 7zG_(83)K 文件信息 p0vVkdd YNi.SXH {R6ZKB
QQ:2987619807
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