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摘要 h3T9"w[ )lJao 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 ^(*n] #Rg|BfV- FQ>`{%> 建模任务 >J|]moSVA /r12h| $9S(_xdI& 结果 -l%J/ : S(\9T1DVe Cgz D$`~ 结果 ~+Z{Q25R 'ejvH;V3i _ Ro!"YVX 结果 ho>k$s? M-i_#EWP %lg=YGLQB 文件信息 O@?kT;B hDV20&hq _z[#}d;k
QQ:2987619807
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