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摘要 ^pw7o6} F@^N|;_2 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 NcM3P G =1Sy@M bH3 M,G8*HI" 建模任务 Iaa|qJ4 9:\A7 = 1^sb T[%R 结果 E{oB2;P I}%mfojC sD2Qm 结果 .f%vDBJS .b~OMTHuvM JD-Becz 结果 !PI0oh [oJ& J>U' !Sfe{/$w 文件信息 3Tw%W0q "c EvFY *vD/(&pQ1:
QQ:2987619807
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