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摘要 ;58l_ue ?I`']|I 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 5Y"lr Y38 mKPyM<Q @P4fR7 建模任务 F>)u<f,C d5%A64? FlRbGg^ 结果 W j/.rG&tE 4\Y2{Z>P?
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