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摘要 bDl:,7; 45yP {+/-Q 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 b**vUt\ opa/+V3E4 C*Q7@+& 建模任务 kz=ho~ @ pBqf+}g4 =4_}. 结果 D6ZHvY8R ZKi&f,:
4%0s p 结果 1<!P:@( i c{I P'~`2W0sz 结果 /?81Ypt k0Vri$x ,hzRqFg2 文件信息 4?pb!@l ai 4 k? BK!Yl\I<
QQ:2987619807
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