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摘要 @[v8}D t!t=|JNf{ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 !^L-T?y.2 oCuV9dA. 8^vArS; 建模任务 k!owl+a
DEtf(lW_ gt@SuX!@{^ 结果 y
1nU{Sc@ _Ex|f5+ M BVOfEMj 结果 l"5y?jT a:}E& ,&M j3 P$@< 结果 v|&s4x?D ,C:o`fQ\ ve-8*Xa 文件信息 /[?Jylj }N]!0Ka 50Ad,mn<
QQ:2987619807
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