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摘要 -S(_ZbeN jt/
|u= 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 s3LR6Z7;i {lhdropd "[LSDE"( 建模任务 8/|~E g}hR q% 8'kA",P 结果 @e/40l|X L,F )l2 R{"7q:- 结果 {=NHidi~ 5_mb+A n, GAlAFsB 结果 Yjr6/&ML vkXdKL(q Z`l97$\ 文件信息 AwKxt'()^ I 2!0,1Q Q(}TN,N
QQ:2987619807
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