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摘要 T]%:+_,
Ux Yb[Nbc 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 u~9gR @e2{ >dW~o_u'QN $0MP*TFWa 建模任务 ? }2]G'7? 62 biOea pv2u.qg5z 结果 B>CG/] c?NXX& '}D$"2I* 结果 uZ-yu|1 Lit@ m2{\ >e7w!v] 结果 JPX5Jm() [CU]fU{$ wY`yP!xO 文件信息 tp,e:4\8Q xJ|3}o:, 'Zdjd]
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