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摘要 D; xRgHn MDkcG"O 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 G Y? ?q8 .W4P/Pw' M\4pTcz{ 建模任务 AAbI+L0m{ Cu*+E%P9` G i1Jl" 结果 |C;8GSw>|F LIzdP,^pc )F_0('=t 结果 ^d2#J FDfLPCQm 2% ],0,o 结果 p5RnFe l fC6zDTis8A 6T*MKu 文件信息 X/< zxM pxf(C<y6_ DxuT23.
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