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摘要 k!&:(] iecWa:(' 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 <P-$RX 012Lwd YV-j/U{& 建模任务 Y,'%7u hqL+_|DW ~Po<(A}`f 结果 guU=NQZ M_Bu,<q^ )AI?x@ 结果 RB[/q: Apmw6cc ?IILt=)< 结果 J smB^ T<P0T< k=`$6(>Fz 文件信息 >VP5vkv= 6x/s|RWL1 L!,d"wuD
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