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摘要 eX"%b(;s ->I.D?p 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 *<^C0:i( ~u*4k:2H 9y7hJib 建模任务 [x)T2sA $ #!oejLD |.9PwD8~VD 结果 7X(2SI3m mPA)G,^ )cH\i91 结果 Sd6O?&( [7><^?t
V (*A@V%H 结果 K["rr/ BQfnoF 8~T}BC 文件信息 4]1/{</B| ;y-JR$M )y]Dmm
QQ:2987619807
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