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摘要 U=sh[W *=Z26 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 B~'MBBD" .ut{,(5 iA_8(Yo 建模任务 N?dvuB e7u^mJ a'\By?V]
结果 nxQ?bk}*d t]1ubt2W
yz+, gLY 结果 mmw^{MK! <b+[<@wS zT~B6 结果 C9S@v D+ Vv$HR 3>z[PPw 文件信息 {+zJI-XN/ mxwdugr` 6`\]derSon
QQ:2987619807
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