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摘要 wC(vr.,F $hjP}- oUX 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 "U%n0r2 +mfe*'AU 9;0V
/y 建模任务 3Q'[Ee2-3 eVw\v#gd N5 SLF4R1 结果 -?< Ww{ w4e%-Ln Q_&}^ 结果 bQ-Gp;] CM%|pB/z 9wO/? 结果 -{X<*P4p kmm 4S,. R 文件信息 @+'c+ ~ X-)_zH tcBC!_vF
QQ:2987619807
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