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摘要 c@nh>G:y{& 6p3cMJ'8y 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 ]F;1 l3I- Z0XQ|gkH ,C_MB1u 建模任务 YV>&v.x0; 9q[[
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,[dvs&-* 结果 ~,8#\]xR k$DRX)e 7*WO9R/ 结果 tuY=)? ip*^eS^ @$%.iQ7A; 结果 ;'[?H0Jw' %@q2 h\~!!F 文件信息 'L{pS-+6 wM-H5\9n &arJe!K
QQ:2987619807
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