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摘要 4TRG.$2[ -5>NE35Cto 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 2t1I3yA'{z or_+2aG w1|Hy2D`0 建模任务 P $>` &ak6zM WZFH@I28 结果 / 8gL.i$ 6)*xU|fU >a>fb|r 结果 3071:W X
K>&$<5{ $v27]"] 结果 +,flE=5]s ;+Yi.Q/\ 8 i0 文件信息 (f1M'w/OD U/w. M_S ]=&L |