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摘要 +F;2FD$ E3uu vQ#| 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 lMFR_g?r A[Mke ${ {4L?7 建模任务 ,{_i{WV W0gS>L_ U]3!"+Y1P 结果 9-42A7g^C ,;g%/6X T2e-RR 结果 yfG;OnkZ uH[WlZ4 B.8B1MFm 结果 UQl?_[G 7V"?o A,~3oQV 文件信息 7Nq<
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