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摘要 dh-?_|" +k{l]-)1 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 U9Gg#M4tY 9l<}`/@}W %%+@s 建模任务 l[Ko> <El!,UBq< oEJxey]B7 结果 6ee1^> UXPF"}S2 t3<HE_B| 结果 ^~kfo| U]PsL3: `1i\8s&O6@ 结果 ;-quK%VO! ZfU &X{ wJg&OQc9 文件信息 /}Ct2w&<k Z jn![ zEk/#&
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