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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 yP[GU| >(  
    nw\p3  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 m<OxO\Mpf  
    5%G++oLXf  
    =XoNk1  
    场景 t7-sCC0  
    U7:~@eYy  
    j*+r`CX  
    ydlH6>  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 b6Ntt Y!3  
    )rj.WK.  
    系统构建块
    L@G)K  
    Jr1^qY`0+  
    R[#5E|` `9  
    ?g<*1N?:  
    组件求解器 Y&gfe8%5N  
    P,wFib^1  
    Ke,-8e#Q  
    "~FXmKcX  
    oWJ}]ip  
    Ppx*  
    系统构建块 Y!Z@1V`  
    8vUP{f6{  
    L8Z?B\  
    dQizM^j  
    总结 _&BnET  
    ([$F5 q1TR  
    )bcMKZ   
    h` n>6I  
    几何光学仿真 2TAy'BB;)  
    通过光线追迹 9jvg[ H  
    V7^?jy&&  
    结果:光线追迹 7 s[ ATu  
    Sb{S^w\m0  
    t+?\4+!<  
    WUqAPN  
    快速物理光学仿真 G\P*zz Sq  
    通过场追迹 xds"n5  
    =%RDT9T.  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 1pz6e8p:m  
    O050Q5zy  
    fSun{?{  
    |d:URuG~:I  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 IA+>dr  
    *w%;$\^  
    Je?V']lm  
    _IY)<'d  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 t zV"|s=o  
    ,fYO>l';`f  
    {8"W  
    esLY1c%"/  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 B3yn:=80  
    :F<a~_k  
    C{>?~@z&5  
    Lnj5EY er  
    总结 ME |"pJ  
    JP@UvDE|  
    rre;HJGEL  
    Fx.uPY.a  
    文件信息 1r.q]^Pq~  
    +SP5+"y@  
    .y'OoDe  
    K:9.fTCs*  
    cu""vtK   
    QQ:2987619807 (d!vm\-PH  
     
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