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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 I6S>*V  
    A!$sO p  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 *$mb~k^R  
    -}8r1jQH;  
    X-j<fX_  
    场景 7&V3f=aj6  
    @Qqf4 h  
     Lr`Gyl62  
    C"k]U[%{  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 S@4bpnhK  
    bF +d_t  
    系统构建块     W)Yo-%  
    }j\8|UG  
     wMM1Q/-#  
    a3He-76  
    组件求解器 sq8O+AWl  
    Kf6D$}  
    Lk-h AN{[  
    P1`YbLER5  
    t*c_70|@k  
    QxBH{TG  
    系统构建块 :a( Oc'T  
    aZ ta%3`)  
     h?GE-F  
    W:2]d  
    总结 .e5rKkkT  
    G/KTF2wl7  
    SMQC/t]HT  
    ^4{{ +G)j  
    几何光学仿真 H\|H]:CE  
    通过光线追迹 g_"B:DR  
     ~y ?v  
    结果：光线追迹 op_ 1J;RF  
    3tmS/ tQp  
     o;pJjC]  
    #}UI  
    快速物理光学仿真 `3dGn .M  
    通过场追迹 os+ ]ct  
     Mo4igP  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 *uF Iw}C/  
    c{i\F D  
     9}d^ll&  
    qp/nWGj  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 36 ]?4, .  
    1Msc:7:L  
     >5Sm.7}R  
    \Oe8h#%  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 d ?,wEfwp  
    =%;TVJk*a  
    Q+E)_5_sA  
    Acb %)Y  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 4uv*F:eo  
    ;O({|mpS\  
     H*&!$s.  
    W!a'KI'  
    总结 iUf?MDE  
    #| m*k  
    sTi3x)#xB  
    Qmj%otSg  
    文件信息 er>@- F7w  
    u9ue>I /  
     ^=w){]G  
    }DkdF  
     ^<Sy{KY  
    QQ：2987619807 a &hj|  
     
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