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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 <kK>C8+  
    =X4Fn^w"4O  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 9(N  
    exb} y  
    r<UVO$N  
    场景 k&dXK  
    UX)GA[WI  
    =Zq6iMD  
    VsQ|t/|#  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ~rb0G*R>  
    /t0L%jJZ  
    系统构建块
    aOzIo-  
    QH/py  
    -+*h'zZ[<w  
    Rd#R}yA  
    组件求解器 {@InOo!4w]  
    ]@&X*~c^Z  
    +F; 2FD$  
    "\b>JV5  
    %Rk|B`ST  
    BsQ;`2  
    系统构建块 GE/!$3  
    Pd91<L  
    g3tE.!a5-  
    24jf`1XFW  
    总结 jrib"Bh3,  
    _?c.m*)A  
    Q|(}rIWOQA  
    &6x(%o|  
    几何光学仿真 ;I>nA6A  
    通过光线追迹 @nktD.  
    o :d7IL  
    结果:光线追迹 Rt8[P6e"q  
    ?:;;0kSk  
    V\L;EHtc$  
    rqamBm 5  
    快速物理光学仿真 j 6qtR$l|  
    通过场追迹 C]ss'  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 7Nq< o5  
    UleT9 [M  
    qOo4T@ t3  
    ;+hh|NiQ  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 b'z $S+  
    -<g9 ) CV5  
    cIU2qFn[  
    8+'}`  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 'Ea3(OsuXn  
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    m%|\AZBA#  
    gT)(RS`_)  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 |J&\/8Q  
    R$:-~<O  
    9)!Ks g(h  
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    总结 6r~9$IM  
    iJTG +gx  
    K?l|1jez(#  
    tV++QC7@L  
    文件信息 7U [C=NL  
    $[T ~<I  
    ~>:JwTy  
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    QQ:2987619807 ioi/`iQR  
     
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