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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 LI<Emez  
    l| y.6v  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。  FL b  
    L`(\ud  
    0`Uw[Er&  
    场景 *P|~v Cnr  
    Zu 4au<  
     @$nh6l>i  
    Wiw~oXo  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 LW#U+bv]Dq  
    uN1VkmtDO  
    系统构建块     |T]&8Q)S  
    }2S)CL=  
     U;0:@.q  
    pH(X;OC 9S  
    组件求解器 14A(ZWwq9  
    WJ^]mpH9  
    E!uQ>'iq.  
    =RZ PDu  
    +hX =  
    8 |Ob7+  
    系统构建块 Wf-XH|j[  
    KT+{-"4-  
     iP@ FXJJ  
    [XubzZ9  
    总结 I8c:U2D  
    !yr4B "kz  
    Fnay{F8z  
    %m [l/,2x  
    几何光学仿真 cc>b#&s  
    通过光线追迹 "zkQu  
     eI-SWwmv/u  
    结果：光线追迹 (F9e.QyWb  
    4* I XBi7%  
     sbhzER  
    4S4gK   
    快速物理光学仿真 /t! 5||G  
    通过场追迹 9XKqsvdS  
     7GS 4gSd3  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 U| ?68B3  
    !%$,S=_F  
     %nG>3.%  
    < Wp)Y  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 FBvh7D.hV  
    f~/hsp~Hp  
     8@LUL)"  
    2 |JEGyDS-  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 dQ _4aO  
    gsUF\4A(J  
    :RxMZwa=  
    ]mz'(t  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 [zXC\)&!  
    lw99{y3<<  
     o|q5eUh=EY  
    sjb.Ezoq3  
    总结 X6_ RlV]Sk  
    w w[|| =  
    %d *0"<v  
    WRwx[[e6z  
    文件信息 v*FbvrY  
    D~Ef%!&  
     Vh2uzG  
    1P'A*`!K  
     uB3VCO.;_  
    QQ：2987619807 *wY+yoj  
     
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