切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 1356阅读
    • 0回复

    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    7040
    光币
    29345
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 4x=sJ%E  
    D5xTuv9T  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 KG96;l@'(  
    .:B0(4Mj  
    Sht3\cJ8  
    场景 bP|-GCKM8  
    zW hzU|=8  
     (y\.uPu!  
    a^X% (@Sg  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 y 1Wb/ d  
    '!4\H"t  
    系统构建块     nJ1<8 p  
    mZ3Z8q}%P  
     9\E];~"iP  
    M0)ZJti  
    组件求解器 up~p_{x)Q  
    m1tc="j  
    #"H<k(-Cz  
    ,wHlU-%  
    j.V7`x  
    qjf4G[]!  
    系统构建块 X)c0 y3hk  
    :Fh_Ya0  
     /R( .7N  
    62[_u]<Yub  
    总结 EU Oa8Z  
    A9Pq}3U  
    3cNr~`7  
    Np.<&`p!  
    几何光学仿真 Z%SDN"+'g  
    通过光线追迹 Cs,t:ajP  
     3#F"UG2,_  
    结果：光线追迹 [W dxMU  
    wNh\pWA  
     $UdFm8&  
    <4;L& 3  
    快速物理光学仿真 ^~bAixH^k  
    通过场追迹 Ro2!$[P  
     3Ea/)EB]  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ytfr'sr/  
    xp\6,Jyh  
     =feVT2*  
    <bywi2]z  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 WxtB:7J  
    C3K")BO!  
     """eU,"  
    o'YK\L!p  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 >[P`$XkXd4  
    1{h,LR  
    sHSg _/|  
    -8t&&fIA  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 XIp>PcU^  
    b X/%Q^Y  
     o& ?:pE  
    ,mt=)Ac  
    总结 f!cYLU1e@  
    :8lqo%5  
    @ | (Tg  
    n55s7wzM  
    文件信息 H4ancmy  
    l9{.~]V  
     @dvb%A&Pur  
    6>Is-/hsy  
     mGc i >)2  
    QQ：2987619807 {6;S= 9E\  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表