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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 Tigw+2  
    @K;b7@4y  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 W"\~O"a  
    y-<.l=6A  
    /wD f,Hduz  
    场景 ;i@S}LwL  
    mK:gj&N7X|  
     I0XJ& P%  
    PD#,KqL:  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 b]u$!W  
    2z>-H595az  
    系统构建块     Dka,v  
    RZ6y5  
     0E.N3iU  
    uq5?t  
    组件求解器 _CD~5EA:  
    M}] *j  
    WNR]GI  
    Hf4_zd  
    u(vZOf]jL  
    FJ_JaIby  
    系统构建块 HZ3;2k  
    #]h X ."b2  
     ]B>76?2W  
    rK gl:s j+  
    总结 aM5]cc%  
    fcq8aW/z_  
    UL[,A+X8D  
    L{/% "2>  
    几何光学仿真 vyZ&%?{*R  
    通过光线追迹 uV:R3#^  
     E#!N8fQ  
    结果：光线追迹 Y`~B> J  
    Kq[4I[+R  
     W&5/1``u\  
    [}szM^  
    快速物理光学仿真 Avw=*ZW  
    通过场追迹 3(e_2v  
     A}ZZQ  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 z~Q=OPCnY  
    W>#yXg9  
     &tH?m;V  
    =~ Uhr6Q  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ?/YABY}L  
    [wQ48\^  
     lpG%rN!  
    (;#c[eKy  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 W6<oy  
    }JFTe g  
    l 5-[a  
    3en 9TB  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 BwT[SI<Sg  
    n^nE&'[?0g  
     oz&`3`  
    BpIyw  
    总结 ~ *&\5rPb  
    }xsO^K  
    Et3]n$  
    [NSslVr  
    文件信息 x)C}  
    2iNLm6"  
     vh\i ^  
    yV.p=8:  
     P}4&J ^  
    QQ：2987619807 ZxvH1qx8  
     
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