切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 光学系统设计：理论、仿真与系统检测 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 光学设计与光学元件 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1104阅读
    • 0回复

    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6350
    光币
    25895
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 |8E~C~d  
    Q>Ct]JW&  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 AyQ5jkIE^{  
    gZ&4b'XS,  
    Mx w-f4j  
    场景 r1F5'?NZ(0  
    iJdJP)!tz6  
      6 wd  
    E uO:}[  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ^5MM<73  
    `yq) y>_  
    系统构建块     w}6~t\9D  
    Zbl*U(KU?  
     E`LaO  
    +Y*4/w[   
    组件求解器 /Q W^v;^  
    CD`6R.  
    7V^j9TC  
    ~i?Jg/qcxN  
    2@T0QJ  
    }JOz,SQHP  
    系统构建块 "r;cH53  
    z1tD2jL_  
     sAO/yG  
    _ \+0e:Ae  
    总结 -mO<(wfV>  
    "=%YyH~WY  
    wmK;0 )|H  
    2N-p97"g  
    几何光学仿真 P5dD&  
    通过光线追迹 W|;`R{<I%  
     ?N+pWdi  
    结果：光线追迹 U4a8z<l$  
    _Q\rZ l  
     VAheus  
    1mh7fZgn  
    快速物理光学仿真 zB7 ^L^Y  
    通过场追迹 cWQ &zc  
     wko9tdC=U  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Ss{5'SF)$c  
    mWoN\Rwj  
     b!QRD'31'j  
    \(?d2$0m  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /a$Zzs&xs  
    *!NW!,R  
     cy8r}wD  
    Efd@\m:~>  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 n68qxD-X  
    RY,L'Gt O  
    ncsk(`lo  
    sBxCi~  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 w(M i?  
    "|WKK}  
     za.^vwkBk2  
    DfOig LG*  
    总结 A,#z_2~  
    1JGww]JZo  
    grd fR`3  
    ~ayU\4B  
    文件信息 C0>)WVCK  
    2Y}A9Veb  
     Pj^Ccd'>=  
    rG B*a8  
     1 x0)mt3  
    QQ：2987619807 'Te'wh=Y  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表