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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 MrygEC 5  
    'kONb  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ? wiq 3f6  
    !*QA;*e  
    98%a)s)(a  
    场景 AXv3jH,HF  
    l9Cy30O6  
    cF>;f(X  
    p`V9+CA  
    在VirtualLab Fusion中构建系统  9%hB   
    ]KII?{ <k  
    系统构建块
    :$@zX]?M  
    kO\&mL& qD  
     x+j/v5  
    |D_n4#X7u  
    组件求解器 7!d<>_oH  
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    C3`.-/{D"  
    Lm2cW$s  
    N pIlQaMo4  
    R=f5:8D<-  
    系统构建块 (TK cSVR  
    6/[h24d  
    p<.!::*%(  
    ^|axtVhMO  
    总结 ZkG##Jp\>  
    tbt9V2U:"n  
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    YH6 K-}  
    几何光学仿真 JSP8Lu"n  
    通过光线追迹 @!tmUme1c  
    &5CeRx7%  
    结果:光线追迹 w@D@,q'x  
    :=KGQ3V~eK  
    FP cvkXQD  
    2yg'?tpj  
    快速物理光学仿真 ]7ZC>.t  
    通过场追迹 .oOt(K +  
    R(#;yn  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 /IR5[67  
    mTu9'/$(  
    m=b+V#4i(  
    206jeH9  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Xrs~ove1V  
    O? <_,-.  
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    Tl{r D(D  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 81 Not  
    ^,r;/c9A8  
    z^a?t<+  
    tg4&j$  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 E<_6O Cz  
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    总结  o=5uM  
    U-:Z ^+Y  
    ^E,Uc K;  
    zm.sX~j  
    文件信息 {:+^[rer j  
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