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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 "tZe>>I  
    =D(j)<9$A  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 IBGrt^$M  
    cK@wsA^4  
    hoP]9&<T  
    场景 ~Ei<Z`3}7"  
    ^OdP4m( >>  
    4| f*eO  
    ;a/E42eN;  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 #Z#-Ht  
    ZcsZ$qt^  
    系统构建块
    A,]h),b  
    hP h-+Hb  
    "Q<MS'a  
    PnTu  
    组件求解器 )BE1Q*= n  
    SM '|+ d  
    wkq 66?  
    965 jtn  
    |)&%A%m  
    4*L_)z&4;  
    系统构建块 D9df=lv mD  
    H\ %7%  
    J,hCvm  
    ' QG?nu  
    总结 u, ff>/1  
    _$'ashF  
    Z;i:](  
    ^~dWU>  
    几何光学仿真 dM5-;  
    通过光线追迹 \m,PA'nd/  
    XSDpRo  
    结果:光线追迹 _#niyW+?~  
    0@(&eH=  
    s1rCpzK0  
    9Na$W:P c  
    快速物理光学仿真 d$RIS+V  
    通过场追迹 NUZl`fu1Z4  
    p?!/+  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =(Mch~  
    3Ul*QN{6  
    = &]L00u.  
    @- xjfC\d  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 %4H%?4  
    !Ee:o"jG{  
    x4 yR8n(  
    \<' ?8ri#  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 |N2#ItBbW  
    +nL[MSw  
    uph(V  
    ]`K2 N  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 2 nCA<&  
    wz%-%39q%  
    rH-23S  
    \85i+q:LuA  
    总结 "[J^YKoF  
    WE?5ehEme  
    \~W'v3:W  
    +whDU2 "  
    文件信息 siI;"?  
    bw7@5=?;  
    $mILoy B,  
    QV!up^Zso  
    v+XJ*N[W  
    QQ:2987619807 3S{ />1Y  
     
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