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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 @)8C  
    Web8"8eD  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 1')/BM2  
    XC{(O:EG  
    Ljxn}):[  
    场景 dUJNr_  
    `P4qEsZE>`  
    4B}w;d@R  
    =U".L  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 Lp*T=]C]  
    ?0Ca-T Rz  
    系统构建块
    Jq`fD~(7  
    i&FC-{|Z  
    9Au+mIN  
    73(T+6`  
    组件求解器 ?-'Q-\j  
    |qNrj~n@  
    U^0vLyqW^5  
    A1f]HT  
    0+:.9*g=k  
    {UZli[W1  
    系统构建块 hOMFDfhU  
    ?\F,}e  
    k*c:%vC!  
    1,`x1dcO!A  
    总结 @#H{nj Z  
    L{fP_DIa  
    |2 wff?  
    <CmsnX  
    几何光学仿真 $'FPst8Q<  
    通过光线追迹 =3SL& :8  
    0XYO2 k  
    结果:光线追迹 L kq>>?T=  
    c8"I]Qc7  
    j*:pW;)^  
    |f?C*t',  
    快速物理光学仿真 *E)Y?9u"  
    通过场追迹 e<^4F%jSK  
    T*T.\b  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 x(7K3(#|  
    G[>-@9_b  
    hy)RV=X  
    #=.h:_9  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ^:)&KV8D|  
    Xp?Z;$r$  
    c\b>4 &n  
    }t-r:R$,  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 rzBWk  
    :A{-^qd(  
    6HqK%(  
    d<3"$%C  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 G\NCEE'A  
    w9PY^U.Y3e  
    x+TNF>%' D  
    hW+Dko(s  
    总结 j5)qF1W,  
    r#}Sy \  
    z*[Z:  
    Cp* n2  
    文件信息 <C{5(=X{  
    y d$37G|n  
    r4lG 5dV  
    5~X%*_[],  
    E>1USKxn  
    QQ:2987619807 vPs X!m[#  
     
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