切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 1376阅读
    • 0回复

    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    7056
    光币
    29425
    光券
    0
    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 7(/yyZQnZ  
    L|[i<s;  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 U&"L9o`2  
    5c5!\g~'  
    J{/hc} $  
    场景 3[#^$_96b  
    yz [pF  
     -w+.'  
    1F.._5_"]  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 :h@V,m Z  
     W2` 3 p  
    系统构建块     gLMb,buqC  
    .*NPoW4Kv  
     j*>]HNo&  
    6$#,$aO  
    组件求解器 A8ViJ  
    P)VQAM  
    Ee5YW/9]  
    pg5W`4-F  
    M8lw; (  
    Dp ['U  
    系统构建块 7 \xCNOKh  
    Q'U!  
     [( xPX  
    sssw(F  
    总结 }^I36$\  
    -s HX   
    (tO4UI5!  
    6[t(FcS  
    几何光学仿真 P}'B~ ~9W  
    通过光线追迹 RAa1^Qb  
     7OLHYt9  
    结果：光线追迹 L%[>z'Zp  
     U :x;4  
     ~F@p}u8TV  
    L0VZ>!*o  
    快速物理光学仿真 S/Ic=  
    通过场追迹 KrP?*yk  
     !,$K;L  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 7 cV G?Wr  
    %,$xmoj9O]  
     uPho|hDp  
    o w(9dB&E  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Z|KDi `S  
    XFTqt]  
     7r:&%?2:g  
    RKzO$T  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _{):w~zi  
    xA^E+f:W_  
    8@ f!,!Wn  
    iWWtL  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 , XscO7  
    ?(zCv9Pg  
     U6|T<bsOl  
    m{$+  
    总结 )cL(()N  
    S~r75] "  
    .dYv.[?hL  
    {a\! 1~  
    文件信息 *]/iL#  
    l(x0d  
     @gqZiFM)  
    k|>yFc  
     wIAH,3!  
    QQ：2987619807 rYV]<[?~7  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表