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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 e{Vn{.i,5  
    W&D{0i`y  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 u^c/1H:6  
    }R5EuR m\  
    0aI@m  
    场景 G %\/[ B  
    B]}gfVO  
    E_[a|N"D  
    /-m)  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 9 BU#THDm  
    `k8jFB C  
    系统构建块
    "Ms{c=XPK  
    <exyd6iI  
    iC^91!<  
    [cZ/)tm  
    组件求解器 cXf/  
    c&wiTvRV  
    ?OoI6 3&  
    4}cxSl]jf!  
    _s5FYb#  
    a.JjbFL  
    系统构建块 CyHHV  
    ZG#:3d*)  
    ^;( dF<?'r  
    3fXrwmBT8  
    总结 k$8Zg*)  
    Uam %u  
    i^Jw`eAmT  
    +j+ v(-  
    几何光学仿真 xN}f?  
    通过光线追迹 Mw-L?j0o[k  
    .]zZwB  
    结果:光线追迹 7t}s5}Z 4  
    w L>*WLfR  
    B"#pvJN  
    ,)J>8eV  
    快速物理光学仿真 iyr8*L\  
    通过场追迹 )\2KDXc  
    1|ddG010  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 HrFbUK@@  
    z[R dM#L  
    Ex*{iJ;\  
    ;V?(j 3b[  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 COw!a\Jl  
    q+<,FdG  
    4MW oGV9  
    tQUKw@@Q  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Otq1CD9  
    KD+&5=Y  
    )1@%!fr  
    B1E:P`t  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 I!u=.[5zdC  
    WS.g` %  
    n <> ^cD  
    Fn4yx~0  
    总结 T3"'`Sd9;  
    45< gO1  
    C\ Yf]J  
    sMUpkU-  
    文件信息 r)Zk-!1  
    /?XI,#j3kM  
    52Dgul  
    <ME>#,  
    f2SJ4"X  
    QQ:2987619807 kX}sDvP3  
     
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