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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 i;GF/pi  
    5 ?{ytNCY  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 [G=+f6 a  
    )^^Eh=Kbj  
    ys#V_ysb  
    场景 :w+2L4lGs  
    4U1!SR]s  
     )A 6 eD  
    K~I%"r|l  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 2[; 4D/`*  
    zx7g5;J  
    系统构建块     9jC>OZ0s  
    ee+*&CT)  
     ER ^#J**  
    A3Lfh6O  
    组件求解器 i7UE9Nyl*  
    `7))[._  
    9:\YEs"  
    cp&- 6 w+  
    ZI0C%c.~  
    {ejJI/o0  
    系统构建块 5jb/[i^V  
    <.HDv:  
     Zc<fopih  
    @2>j4Sc  
    总结 qyx  '  
    wACx}'+M  
    ~$PQ8[=  
    l\NVnXv:>  
    几何光学仿真 "kHQ}#6r  
    通过光线追迹 TO|&}sDh  
     0bt"U=x4  
    结果：光线追迹 b;;C><  
    1lJY=`8qa  
     !&ly :v!  
    A{3?G -]*  
    快速物理光学仿真 "0&+ `7  
    通过场追迹 bc{ {a  
     ;Az9p h  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 fF\s5f#:  
    kp4(_T7R  
     Pl>S1  
    xD#r5  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 *s"dCc  
    \"X<\3z2  
     w[A$bqz   
    J'%  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 j> ?0Y  
    ];vEj*jCX  
    '4L0=G:A<q  
    v`Iw:?)%  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 {}#W~1`  
    6^Q Bol  
     Wd R~  
    _I&];WM\  
    总结 rTgCmr'&  
    [KT'aGK$  
    ZP]l%6\.  
    JIGoF  
    文件信息 RkrZncBgV<  
    |@rPd=G^(/  
     RwG@C|sG  
    AaVj^iy/X  
     EEU)eltI  
    QQ：2987619807 ?3x7_=4t@  
     
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