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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 C[ <OF/  
    \ B 0xL,o<  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 u?[P@_i<  
    Nx4_Oc^hY  
    xM85^B'  
    场景 7NG^X"N{Ul  
    ^T\JFzV  
    :w_J/k5Zd  
    m Nw|S*C  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 e#`wshtN:  
    oD_'8G}  
    系统构建块
    "El$Sat`  
    `+]9+:tS  
    yI\  
    k^I4z^O=-;  
    组件求解器 +s&+G![  
    (1\!6  
    cw#p!mOi~  
    Mj5=t:MI  
    X~abn7_  
    *%5#\ I  
    系统构建块 Gad! }dz  
    ?b, eZ+t  
    :pQZ)bF  
    NwM=  
    总结 M`HXUA4  
    Nb\4Mv`  
    Q%~b(4E^7P  
    0}$",M!p  
    几何光学仿真 WQ4:='(  
    通过光线追迹 04NI.Jv  
    Fc>W]1  
    结果:光线追迹 y|V/xm+Fp  
    4VLrl8$K  
    R^P~iAO  
    <jU[&~p  
    快速物理光学仿真 m *8[I  
    通过场追迹 ,eD@)K_:  
    7~TE=t  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 l epR}  
    f5zxy!dhKS  
    LKY4rY!|@d  
    q{Hk27kt  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 "XMTj <D  
    ?,NZ /n  
    C/%umazP9  
    8m1 @l$  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 A:[La#h|p  
    a_'W1ek-@  
    [~?LOH  
    ,6PV"E)_  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /Q5pA n-u  
    ORlz1 &hW  
    3toY#!1Ch  
    g;w4:k)U  
    总结 |//cA2@.  
    KbVV[ *  
    XLp tJ4~v  
    YnuC<y &p  
    文件信息 ?qYw9XQYL  
    #wbaRx@rc  
    vG#|CO9  
    wlBdA  
    2fTkHBhn&  
    QQ:2987619807 ~ C6< 75  
     
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