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    • 光学手册（上、下册，李景镇） 光学元件微纳制造与精密检测技术 京东6.18购物红包，每天领三次！ 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 7uorQfR?  
    D_mL,w  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 j$UV/tp5T  
    DZ7 gcC  
    ,#FLM`  
    场景 B vo5-P6XY  
    ~\)qi=  
     1OLqL  
    RO;Bl:x4  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 =*qD4qYA  
    8P7"&VYc8  
    系统构建块     ?"#%SKm  
    9SlNq05G7  
     j*"3t^|-  
    ]M/9#mD9~  
    组件求解器 pLa[}=  
    Z=B_Ty  
    f<=Fsl  
    ]5~s "fnG  
    _=ua6}Xp  
    sDr/k`>  
    系统构建块 >Rvx[`|O!m  
    [ EFMu;q  
     fO'Wj`&a  
    Zwcy4>8  
    总结 ] Z8Vj7~  
    H>9CW<8  
    `l2O?U-@  
    t }IkK=f  
    几何光学仿真 Uv YF[@  
    通过光线追迹 g (VNy@  
     ;.xoN|Per  
    结果：光线追迹 >hBxY]< \  
    /bj <Ft\  
     lis/`B\x  
    H&r,FmI@  
    快速物理光学仿真 P%)gO  
    通过场追迹  +`7KSwa  
     yC 77c=  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 K{n{KB&_&  
    -a*K$rnB  
     @ '@:sM_  
    ]yjl~3  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 eh1Q7 ~  
    m}>F<;hQ  
     go+Q~NV   
    cvwhSdZu8  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 LIg{J%  
    #%J5\+ua  
     h:lt<y  
    $/6;9d^  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 zlR?,h-[3  
    VG/3xR&y  
     Ai D[SR  
    ~|wbP6</:-  
    总结 LZMYr  
    !`!| Zw  
    \om%Q[F7a  
    6} FO[  
    文件信息 x0 d~i!d  
    8M@BG8  
     As+t##gN  
    JdZ+Hp3.  
     AeAp0cbet  
    QQ：2987619807 0]HYP;E"U  
     
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