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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 oI/_WY[t  
    Tp?IK_  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Ye&/O<G'V  
    'g)f5n a[  
    J<"K`|F  
    场景 .1RQ}Ro,<  
    q"<=^vi  
    CLzF84@W=  
    jmwN1Se>  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 SNOc1c<~  
    H\oxj,+N  
    系统构建块
    ,HTwEq>-G  
    }6\,kFc  
    s_/@`kd{  
    xOKJOl  
    组件求解器 iv_3R}IbX  
    `WOoC   
    lf>d{zd5  
    s(3u\#P  
    :JG5)H}j+  
    \O"H#gt  
    系统构建块 9;v3 (U+:  
    #X'-/q`.  
    pLCj"D).M  
    Y GOkqI  
    总结 xaVX@ 3r.3  
    g $Y]{VM.J  
    ]NTQF/   
    01-rBto$  
    几何光学仿真 g4=1['wW  
    通过光线追迹 fVgK6?<8^  
    #~-Xt! I  
    结果:光线追迹 pP":,8Q{  
    i /[{xRXiR  
    i*N2@Z[  
    'uL$j=vB  
    快速物理光学仿真 i4D]>  
    通过场追迹 {U_ ,y(V  
    gPB=Z!  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 e8 ]CB  
    GBb8 }lx  
    13/,^?  
    C('D]u$Hdk  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 eC"e v5v  
    {l$)X  
     ,c`6-  
    b}Gm{;s!  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 `PtB2,?  
    >oJab R  
    Fz(;Eo3  
    ]I,&Bme  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 mv:@D  
    VdM Ksx`r  
    ]l fufjj  
    Ry X11XU  
    总结 ==?wG!v2h  
    Q3l>xh  
    Zj]tiN f\"  
    u3 LoP_|  
    文件信息 <Rw2F?S~)n  
    6/wC StZ  
    z.hq2v  
    +0[H`5-^  
    B^TgEr  
    QQ:2987619807 d1g7:s9$0  
     
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