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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 nEM>*;iE   
    \ oIVE+L/P  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 kEE8cW3  
    Oj*3'?<7=  
    r='"X#CmV/  
    场景 V4OhdcW{  
    dSb|hA}@  
     ZAPT5  
    v&B*InR?+  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 1v4(  
    cFoDR  
    系统构建块     PQRh5km  
    8v M}moper  
     !#nlWX :~  
    :sBg+MS  
    组件求解器 *Ki ],>_~  
    r c7"sIkV  
    gC#PqK~  
    {7)D/WY5  
    u5 EHzoq  
    d\dt}&S 5  
    系统构建块 |wZ8O}O{E  
    0f 1Lu) 2  
     gaC^<\J  
    J8$G-~MeJ  
    总结 x(z[S$6Y\  
    m[C-/f^u|  
    M? oK@i  
    Ak$gh b  
    几何光学仿真 [BHf>  
    通过光线追迹 fi%u]  
     Wr7^  
    结果：光线追迹 F+_4Q  
    s!09Pxc  
     PY.c$)az>  
    Pt?]JJxl-  
    快速物理光学仿真 . oUaq|O  
    通过场追迹 #{GUu ',?&  
     @xW)&d\'  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 a8-2:8Su  
    rO/mK$  
     <$n%h/2%  
    |$":7)e H!  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Mu18s}  
    UcDJ%vI  
     I;L $Nf{v  
    5,'?NEyw  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 :*e0Z2=  
    2"NRnCx *  
    /!UuGm   
    ]YZ+/:#U7  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 #H(|+WEu  
    ( =->rP  
     ,*r"cmz  
    C8y 3T/G  
    总结 ~ -Rr[O=E  
    VY@uQ#&A  
    j_\sdH*r  
    f 5_n2  
    文件信息 8UoMOeI3  
    4-=>># P  
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    dh%C@n:B  
     Vf*!m~]Vqi  
    QQ：2987619807 qJFBdJU(1  
     
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