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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 ZZJ"Ny.2  
    ^aM/BS\  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Us~wv"L=UX  
    m<LzB_ G\  
    gY^TBR0?m  
    场景 hfa_M[#Q-  
    jN{xpd  
    @y2Bq['  
    {ZI6!zh'  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 WjxBNk'f  
    F88SV6  
    系统构建块
    \ bmboNe  
    q$*_C kT  
    Kyiez]T6%q  
    {YLJKu!M  
    组件求解器 SL 5DWZ  
    m64\@ [  
    WSccR  
    X \ZUt >  
    nE$ V<Co}  
    ?O^:j!C6  
    系统构建块 I,Y^_(JW  
    `.Q3s?1F  
    RwHXn]1  
    BrmFwXLP"  
    总结 j'b4Sb s-f  
    j 0NPd^  
    A^7Zy79  
    ?Og ;W9i  
    几何光学仿真 e' ;c8WF3E  
    通过光线追迹 o6%f%:&  
    XYVeHP!  
    结果:光线追迹 *3oQS"8  
    wpMQ 7:j  
    8j +;Xlh  
    +/8?+1E ^  
    快速物理光学仿真 I=I%e3GEm  
    通过场追迹 "2j~3aWj  
    Z4sjH1W  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9jBr868  
    0 1w/,r  
    `G{t<7[[;  
    AMfu|%ZL  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 'v)+S;oB  
    v)pWx0l=  
    EU~'n-  
    WL]'lSHa  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 h"m7r4f  
    (jMp`4P  
    b=go"sJ@>(  
    6-}9m7#Y  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 7:<>#  
    y[eNM6p  
    qA[}\8}h  
    P1jkoJ  
    总结 >rGlj  
    pp_ddk  
    |9JYg7<  
    Xb;`WE gC  
    文件信息 9 f+7vCA  
    Yq.@7cJ  
    M](U"K?  
    P0<uF`87  
    yV`vu/3K  
    QQ:2987619807 *()#*0  
     
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