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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 gm]q<~eMW  
    j*8Ze!^  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 mKM[[l&A  
    u@Gum|_=N  
    b7xOm"X,N  
    场景 gz'{l[  
    \l(}8;5}  
    T:Q+ Z }v+  
    Fc=F2Mo?  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 =WCE "X  
    LU*mR{B  
    系统构建块
    $m>( kd1  
    X%!?\3S  
    3 |e~YmZx  
    \Q`#E'?  
    组件求解器 BB,-HhYT0  
    l+(B~v  
    kdA]gpdw  
    .}R'(gN\6  
    S% ptG$Z  
    y54RD/`-  
    系统构建块 kVWrZ>McK  
    =*4^Dtp  
    Rp zuSh  
    /ORK9 g  
    总结 ][z!};  
    <6N3()A)%1  
    ctb , w  
    $ ga,$G  
    几何光学仿真 w0>5#j q#r  
    通过光线追迹 I`{=[.c  
    ciH TnC  
    结果:光线追迹 K/(Z\lL  
    MmfshnTN  
    qqYQ/4Ajw  
    u8~5e  
    快速物理光学仿真 Dxr4B<  
    通过场追迹 00W_XhJ  
     Mv%B#J  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _=5\$6  
    }q/[\3  
    sQzr+]+#9  
    $iy(+}  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 D1fUEHB}A8  
    78mJ3/?rC  
    S@L%X<Vm  
    . }tpEvAw}  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 wzI*QXV2s  
    9 Xh<vh8&  
    { 6*UtG  
    FZ% WD@=  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 l~`JFWur]  
    Bm^8"SSN  
    Gm\jboef]  
    No/D"S#  
    总结 6:TA8w|  
    4,6?sTuX  
    BI6`@}%7>  
    0c#|LF_  
    文件信息 du=[r  
    jAFJ?L(  
    M<)Vtn  
    ~qW"v^<  
    .V^h<d{  
    QQ:2987619807 kL}*,8s{  
     
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