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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 f&S,l3H<  
    ~ 0x9`~  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 dB`YvKr#  
    "yI)F~A  
    m*BtD-{  
    场景 }>w;(R  
    <o_H]c->  
    b7/1 ]  
    B=/*8,u  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 #GYCU!  
    SZCF db  
    系统构建块
    A}b<Lg  
    V$wf;v0d(  
    mb*L'y2r  
    rBP!RSl1  
    组件求解器 ]OoqU-q  
    !m$OI:rr  
    ~h;c3#wuc  
    '(kySf[  
    LmLV2f  
    9 z,?DBMvc  
    系统构建块 zb}:wUR  
    *N$#cz  
    ?EeHeN_  
    )jp#|#h  
    总结 67Ai.3dR  
    V&DS+'P  
    }0T1* .Cz  
    aIk%$Mat  
    几何光学仿真 laqW {sX^5  
    通过光线追迹 -O_5OT4  
    ;""V s6  
    结果:光线追迹 /r|^Dc Nx  
    un[Z$moN"  
    :JSOj@s  
    _EOQ*K#=Ct  
    快速物理光学仿真 D:llGdU#2  
    通过场追迹 =%|S$J  
    " 7RQrz  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 U]fE(mpI9  
    O~B iqm  
    \{n]&IjA  
    )5Kzq6.  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 r}9qK%C G.  
    A%u-6"  
    X#(?V[F]  
    k oC2bX  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 k:<yy^g$X  
    5A /G?  
    ?G1-X~Z8  
    OGrVy=rd  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 :h N*  
    -.1x!~.jX  
    (M6B$:  
    0W9,uC2:N  
    总结 uU6+cDp  
    S(Xab_DT)H  
    *:3flJt  
    qr(SAIX"  
    文件信息 C2,,+* v  
    cI'&gT5  
    5FnWlFc  
    %? _pSH}$!  
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    QQ:2987619807 xe2Ap[Y'M  
     
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