切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 光学系统设计：理论、仿真与系统检测 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 光学设计与光学元件 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 1152阅读
    • 0回复

    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6511
    光币
    26700
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 Ffta](Z;  
    ':m,)G5&  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 [!]2 djc  
    mk+B9?;cF-  
    ?|B&M\}g  
    场景 ` 3K)GA  
     o.\F.C$  
     uw +M  
    bTs?!~q  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 k%QpegN  
    \<TXS)w]  
    系统构建块     R>mmoG}MQ[  
    h/hmlnOQl  
     _#8RSr8'y  
    6h,(wo3Y  
    组件求解器 ~d*(=G  
    !s?nJ(p  
    /9p wZ%:<  
    o;<Xo&  
    !AfHk|  
    Z+. '>  
    系统构建块 {vyv7L  
    3r."j2$Hs0  
     q}#6e]t  
    Jk=I^%~  
    总结 v+#}rUTF  
    OCaq3_#tZ  
    A='N=^Pm  
    \k!{uRy'  
    几何光学仿真 8~z~_TD6m@  
    通过光线追迹 D}8[bWF  
     /Uy"M:|V1  
    结果：光线追迹 QD*35Y!d  
    .NC:;@y  
     OO*zhGD;[  
    Jx7C'~,J  
    快速物理光学仿真 };jN\x?&q  
    通过场追迹 Jx](G>F4f1  
     9V@V6TvW>&  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 *>2W#D)b=  
    sAS:-wp  
     27O|).yKX  
    wL 4dTc  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 5aZ2j26  
    ^c4@(]v'G  
     WRy aKM  
    "wn zo,  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 VZymM<O  
    ^!ZC?h!rG  
     SVs_dG$  
    O  %!!w  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 X"e5 Y!:M-  
    2Mvrey)  
     vK\%%H  
    6qoyiT%P&  
    总结 Hmd] FC,_  
    *4+"Lh.KS  
    2ZMb<b4H  
    * @v)d[z_  
    文件信息 9- YwkK#z  
    'H&2HXw&2  
     b8"?VS5-"  
    TKY*`?ct  
     {/(D$"j(S  
    QQ：2987619807 Yu[ t\/  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表