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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 *FmTy|  
    =L C:SFzF  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 P0$e~=Q^4  
    PI*82,f3dE  
    [p2H=  
    场景 }=|!:kiE  
    STglw-TC\  
    J@OB`2?Zv  
    ** +e7k   
    在VirtualLab Fusion中构建系统 KL ?@@7  
    8o/}}=m$  
    系统构建块
    lt_']QqU  
    ~u.T-0F  
    Z( 9 u<  
    ,:%"-`a%  
    组件求解器 rY p3(k3  
    t w(JZDc  
    qVdwfT{1J  
    0v]?6wX  
    /'hCi]b@v  
    Q//,4>JKf  
    系统构建块 _$p$")  
    gN>2xnh'm  
    7Su#Je]  
    Ed:eGm }  
    总结 R@wjccu  
    2QNNp:`6  
    ncSFj.}w]  
    *#TYqCc+g  
    几何光学仿真 w ~ dk#=  
    通过光线追迹 1&/FG(*/  
    |TE}`?y[g  
    结果:光线追迹 4:7V./" 9  
    jA(>sz  
    .c#y%S  
    \V>?Do7  
    快速物理光学仿真 :0/q5_t  
    通过场追迹 .^bft P\  
    a,o_`s<  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 @w>zF/  
    yi^b)2G  
    #eN{!Niy&U  
    nkv(~ej(  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 jAh2N3)  
    2..,Sk  
    4G@nZn  
    ?DH"V7bs  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 O}[PJfvBHo  
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    HK)cKzG[s!  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 SSBg?H'T  
    Fxc)}i`   
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    f/kI| Z  
    总结 t |W)   
    ^VT1vu %03  
    SI_iI71  
    i-U4RZE  
    文件信息 < pTTo  
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    QQ:2987619807 B$KwkhMe  
     
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