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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 D)RdOldr  
    EsNk<Ra  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 JiUT\y  
    {K6Kx36  
    sF, uIr/  
    场景 ?RqTbT@~  
    T=O l`?5  
    =NI.d>kvC  
    jm~mhAE#  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 )SC`6(GW  
    TosPk(o(  
    系统构建块
    P|yGx)'^P  
    7n$AkzO0  
    fa/P%9db  
    W=(MsuirO  
    组件求解器 CrT2#h 1#  
    Ig='a"%  
    }b<87#Nb9R  
    y`T--v3mI  
    x*k65WO\  
    z;``g"dSw  
    系统构建块 /"g[Ay  
    |A2W8b {]  
    =t ~+63)  
    S]Sp Z8  
    总结 7v.#o4nPK  
    -(|7`U  
    A;b=E[i v  
    (0Zrfu^  
    几何光学仿真 H ,01o5J  
    通过光线追迹 /[p?_EX@  
    gizmJ:<  
    结果:光线追迹 wCTcGsw W  
    -%7Jj;yA  
    Mt]=v}z  
    wi![0IE )  
    快速物理光学仿真 iDyMWlV  
    通过场追迹 )ylv(qgV  
    ;Hz`0V  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 L5i#Kh_  
    \pT^Zhp)  
    _3-RoA'UZr  
    p3>Q<  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 FCUVP,"T  
    B Lsdx }  
    S&gKgQD"Q  
    ;HD 4~3   
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 *B)Jv9  
    >e5q2U   
    .I f"'hMY  
    V NJDl  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 L<{OBuR  
    c %6 @ z  
    `[g# Mxw  
    [MSDk"o&  
    总结 KqG/a  
    tk] _QX %  
    BXKlO(7  
    <s59OdzP  
    文件信息 UpE1PLZlB  
    v#T?YK  
    cP$wI;P  
    Q0[CH~  
    p4<M|1Z&  
    QQ:2987619807 6_ 33*/>=c  
     
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