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摘要 $/$ 5{< &u9@FFBT8 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 T9-2"M=|< ]Jx_bs~g 3mLtnRX[m 概述 )~ghb"K ?m:,hI <g{d>j •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 CP6xyXOlPB •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 .%x%(olf •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 Yjh02wo
i5Dq'wp
Tu_4kUCR!f s=83a{#K 衍射级次的效率和偏振 xA]}/* k/2TvEV3= 2#`9OLu8X •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 n>?eTlO3 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 4-~S"T8<u •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 [^eQGv[S •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 V8"m_ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 Ql{:H5
,!oR"b! tQmuok4"d 光栅结构参数 @XN|R )^LiALh @$!rgLyL[ •此处探讨的是矩形光栅结构。 zL/rV< •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 $Lt'xW`8 •因此,选择以下光栅参数: Q>
J9M`a - 光栅周期:250 nm HAdDr!/` - 填充系数:0.5 s1%th"e
[ - 光栅高度:200 nm rqz`F\A;% - 材料n1:熔融石英 2su/I - 材料n2:TiO2(来自目录) ){$*<#&H gfly?)V nF r Zg(%6@ X}_Gk5q* 偏振状态分析 DW0N}>Gp*
-wQ@z6R {Xv0=P •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 5LJ0V •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 /xw}]Fa5 •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 u{%dm5 7)dCdO
/<T3^/ ' wL~-k
产生的极化状态 uXo? jkV9$W0
BKk+<#Ti g1&>.V}! 1Ms_2 其他例子 r&ux|o+ 6}>CPi# FqXE6^ •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 k]9+/$ •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 \/F*JPhy ^50\c$ Mew,g:m: yyM`J7]J 光栅结构参数 -
`{T ? UM:]QbaIn ^5rB/y, •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 EHk$,bM •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 tui5?\ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 UT_kw}1o •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 bkFO4OZd
K8RV=3MBLD i $lp8Y2ih 光栅#1 qFN`pe, 6 l7iX]
/z`.- D( KpC!C9 !p!^[/9"c •仅考虑此光栅。 [,sm]/Xlc •假设侧壁表现出线性斜率。 6o&ZS @ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 }h1y^fuGi •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 vOo-jUKs mv>-XJ+ .~X&BY>qP 假设光栅参数: 6k`O •光栅周期:250 nm ^j7>Ul, •光栅高度:660 nm
*R3^:Y& •填充系数:0.75(底部) PFjh]/= •侧壁角度:±6° ^J'O8G$ •n1:1.46 ca<OG;R^ •n2:2.08 Q[)3r
,D 7ygz52 光栅#1结果 &Gs/#2XQ ';xp+,'}\ lf#5X)V •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 Dg*'n •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 r-o+NV •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 p %hvDC ||Vx:(d7D& BAojP1}+, BvP++,a&Sa 光栅#2 T_[ : +f6:3
%LBf'iA Cd|rDa %xA-j]%?ep •同样,只考虑此光栅。 O Ke
9/._ •假设光栅有一个矩形的形状。 {t|Q9& •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 g%okYH? 假设光栅参数: b%7zu}F •光栅周期:250 nm )j!%`g •光栅高度:490 nm j\iNag( •填充因子:0.5 e!vWGnY •n1:1.46 XZrzG P( •n2:2.08 }=A+W2D W&HxMi 光栅#2结果 lib}dk wb ^>/ ZEs^b •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 +mN8uU~(kx •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 9<.8mW^68 •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 ~( :$c3\ @(IA:6GN
ZB]234`0 文件信息 Bf;<3k)5. J;ycAF ~
-@Z9h)G| k ~4o`eA !-t"}^) QQ:2987619807 f8-~&N/_R
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