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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 +JD^5J,-NJ  
    %Gu=Dkz  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 GpO@1 C/  
    wV$V X  
    23p.g5hJi  
    概述 b+ZaZ\-y |  
    3)&rj 7  
    rc%*g3ryLG  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 T}XJFV  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ^dxy%*Z/  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 Sqmjf@o$>  
    +U<Ae^V  
    DX3jE p2  
    MfLus40;n  
    衍射级次的效率和偏振
    ko!aX;K  
    ao2o!-?!t  
    aOoWB^;6  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 )F'hn+(B|G  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 P:X X8&#  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 r[j@@[)"  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 T%}x%9VO7  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 ,<OS: ]  
    G Wj !n  
    ^MT20pL  
    光栅结构参数 .:;q8FL/  
    &\/}.rF  
    hE2{m{^A  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 K~5(j{Kb8  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 MI8c>5?  
    •因此,选择以下光栅参数: i~HS"n  
    - 光栅周期:250 nm o+<hI  
    - 填充系数:0.5 V-i:t,*lk(  
    - 光栅高度:200 nm g@>y`AFnr  
    - 材料n1:熔融石英 9x8Ai  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) F20%r 0  
    @ eP[*Q  
    )GC[xo4bg  
    6X VJ/qZ  
    偏振状态分析 "rQ?2?  
    :J5CmU $  
    *;.:UR[i  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 hM(Hq4ed,  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 O} lqY?0*  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 DB] ]6  
    VN@ZYSs  
    Y:'c<k  
    :Sk<0VVd7  
    产生的极化状态 %o0.8qVJi  
    3e^'mT  
    mO\=# Q>  
    jRjQDK_"ka  
    dFpP_U  
    其他例子 {y:+rh&  
    (]<G)+*  
    ?[O Sy.6  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 kca  Y  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 pQ+4++7ID  
     YwB\kN  
    FkoN+\d  
    vnz}Pr! c  
    光栅结构参数 v[?eL0Z  
    B;L^!sLP  
    3+%L[fW`/  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Bk1gE((  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 C? b_E  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Tq >?.bq9  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 m=I A/HOR^  
    %G~%:uJ5  
    gB#$"mq,  
    光栅#1 ch}(v'xv(  
    .aR$ou,7  
    D#&N?< }  
    s^AZ)k~J(  
    gMZ?MG  
    •仅考虑此光栅。 q|ZQsFZ  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 DcLx [C  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 b;sjw5cm_  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 b*qC  
    o//PlG~  
    (z<& PP  
    假设光栅参数: ^ )/oDyO  
    •光栅周期:250 nm 9Fxz9_ i  
    •光栅高度:660 nm ;;- I<TL  
    •填充系数:0.75(底部) L~(`zO3f  
    •侧壁角度:±6° $f<Rj/`&  
    •n1:1.46 F%QVn .  
    •n2:2.08 $X;fz)u  
    Ib8xvzR6I&  
    光栅#1结果 PfVjfrI[  
    zc-.W2"Hu  
    <:BhV82l  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 [&FWR  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Kth^WHL  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    }mw31=2bD  
    r@(hRl1k'  
    u_U51C\rb  
    e[8p/hId  
    光栅#2 6*2z^P9FRj  
    ve / Q6j{  
    'rdg  
    `ja**re  
    kST  
    •同样,只考虑此光栅。 GVp2| \-L  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 dKyX70Zy9  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Si]8*>}-B  
    假设光栅参数: X/nb7_M  
    •光栅周期:250 nm hU `H\LE  
    •光栅高度:490 nm RyxIJJui  
    •填充因子:0.5 KdOy3O_5N  
    •n1:1.46 ]E)gMf   
    •n2:2.08
    ,*V{g pC7  
     g=:C/>g  
    光栅#2结果 IXf@YV  
    <H~  (iQ  
    ?H3xE=<X  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 o^},L?  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 #s Ebu^  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 t <#Yr%a  
    NPEs0|  
    7Q.?] k&  
    文件信息 mOyBSOad4  
    "Gxf[6B  
    Ydu=J g5u7  
    O.*,e  
    nMXSpX>!|  
    QQ:2987619807 @&d/}Mx"t  
     
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