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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 yp]vDm  
    zBI2cB8;P  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 kN<;*jHV  
    :O,,fJ<x.O  
    b-`P-  
    概述 a]V#mF |{  
    H^B,b !5i  
    (u8OTq@  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 &2y9J2aA  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ,{"K^  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 k|]l2zlT  
    YuoErP=P  
    Bd>ATc+580  
    6>)KiigZ\  
    衍射级次的效率和偏振
    S._h->5f  
    \ X6y".|-  
    .Xxxz Wyk  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 C]zgVbu  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 Pa; *%7  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 _{B2z[G}  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 9)b{U2&  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 h_Er$ZT64  
    ](ztb)  
    =AHV{V~  
    光栅结构参数 Ra~:O\Z  
    'r^'wv]  
    ``Um$i~e%  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 Z +<Y.*6  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 03 v\v9<T  
    •因此,选择以下光栅参数: (d <pxx  
    - 光栅周期:250 nm z;0]T=g  
    - 填充系数:0.5 &t@ $]m(  
    - 光栅高度:200 nm hL;??h,!_  
    - 材料n1:熔融石英 A}"uEk(R  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) ri9n.-xs  
    uxq#q1  
    t!ZFpMv]n  
    ,b+Hy`t  
    偏振状态分析 `AdHyE  
    ,*p(q/kJh~  
    zzKU s"u  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 }u5J<*:bZ  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 YWq{?'AaR  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 +hT9V1'-D  
    (ubK i[)  
    ."q8 YaW  
    0wETv  
    产生的极化状态 O#U_mgfzJ  
    mvtuV`  
    LGCeYXic  
    twTRw:.!f  
    jm |zn  
    其他例子 7nPm{=B G  
    Lhgs|*M  
    ;Y &2G'  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 C4C!-12  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 qkyYt#4E  
    eR8>5:V_  
    c$3ZEe  
    ]<O -  
    光栅结构参数 l}Vg;"1'J  
    #+3I$ k  
    SR\$fmo  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 U09@pne8  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 `udZ =S"/L  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 w?p8)Q6m  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 3j$,x(ua9  
    v\COl*  
    1]jUiX=T  
    光栅#1 z;i4F.p  
    '8Lc}-M4  
    M$LzV}k  
    ;W#/;C _h  
    i0&] Ig|;  
    •仅考虑此光栅。 'P)[=+O?t  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 > qIZ  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 P~*v}A  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 u]Y NF[]  
    qT_E=)1  
    C}mWX7<Z.  
    假设光栅参数: x1*@PiO,.  
    •光栅周期:250 nm 04<T2)QgK  
    •光栅高度:660 nm "LH*T  
    •填充系数:0.75(底部) u&Dd9kMz  
    •侧壁角度:±6° GUK3`}!%  
    •n1:1.46 vR\[IV?  
    •n2:2.08 s((_^yf  
    A,#hYi=-,  
    光栅#1结果 i0~L[v9l<  
    QJ-?6 7_i  
    ('px X+  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 gbRdng7(}  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 t]%! vXo  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    Aonq;} V e  
    V.274e  
    q&wXs/$a  
    RJI*ZNb A  
    光栅#2 OL"So u4  
    @AdJu-u  
    ,s1n! @9  
    %4E7 Tu,1  
    tlFc+3  
    •同样,只考虑此光栅。 MRHkQE+K@8  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 M+TF0c  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 P X<,/6gz  
    假设光栅参数: eL!G, W  
    •光栅周期:250 nm W(tXq  
    •光栅高度:490 nm Iq[,)$  
    •填充因子:0.5 #8d$%F))  
    •n1:1.46 .el_pg  
    •n2:2.08
    KhV; />(  
    oYN# T=Xi  
    光栅#2结果 {N,w5!cP  
    T {lJ[M  
    Fw5r\J87c  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 MPd#C*c  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 d|sI>6jD  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 CQ3{'"b  
    @]h#T4z'  
    #B)`dA0a  
    文件信息 G:rM_q9\u  
    ~dwl7Qc  
    $mOK|=tI_  
    yx}Z:t  
    Ic/<jFZXM  
    QQ:2987619807 K~WwV8c9;  
     
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