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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 +"PME1  
    cEEnR1  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 /B5rWJ2AS  
    r,wC5%&Za  
    5[H1nC @C  
    概述 py9`q7F  
    HVNX"`]"  
    gflO0$i  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 h BzZJ/jn  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 QMwV6cA  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 {N@tJ,Fh{  
    -9$.&D|  
    Bx0=D:j  
    #x(3>}  
    衍射级次的效率和偏振
    ^1X 6DH`  
    hu:x,;`9H  
    oC(.u?  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 C40W@*6S2  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 m<|fdS'@  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 {$v>3FG  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 Y2(,E e2  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 i[PksT#p  
    |/!RN[<   
    v|2+7N:[;  
    光栅结构参数 EK zYL#(i  
    /(Ryh6M  
    `5Em: 8 M  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 5>rjL ;  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 S|T*-?|  
    •因此,选择以下光栅参数: BU=Ta$#BZ  
    - 光栅周期:250 nm -m Sf`1l0  
    - 填充系数:0.5 6KKQ)DNu_  
    - 光栅高度:200 nm +}NQ |y V  
    - 材料n1:熔融石英 DK(8Ml:k  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) BV]$= e'  
    42wZy|oqp  
    y_{v&AGmgm  
    .$ 5*v  
    偏振状态分析 `+GiSj8'G  
    A7TV-eWG  
    p.!p6ve){  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 zc!q a"4yM  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 rqhRrG{L|&  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ' y_2"  
    }K9Ji]tOK:  
    Q=#!wWVP  
    Lq{/r+tt/  
    产生的极化状态 dt(Lp_&v  
    wyv%c/WlS  
    q8 Rep  
    _kQOax{c/  
    YG>6;g)Zm  
    其他例子 2G }@s.iE  
    . "`f~s\G  
    G3de<?K.[V  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 >TS=tK  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ex)U'.^  
    $TavvO%#  
    );fPir?+  
    j4Y] 8  
    光栅结构参数 .KF(_ 92  
    qim|=  
    )|<g\>/  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ]H=P(Z -  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 SW=%>XKkh  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 'jBtBFzP-  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 _H$Z }2g<z  
    ph@2[rUp  
    UymhBh  
    光栅#1 {fu[&@XV  
    09Y:(2Qri  
    eEg> EI_U  
    r8[Ywn <u  
    >I9|N}I  
    •仅考虑此光栅。 jQ5FvuNOy  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 *AA78G|  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 +(vL ~  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 zM<yd#`yt8  
    &A~(9IV  
    &Ef6'  
    假设光栅参数: 8:}$L)[V  
    •光栅周期:250 nm 0coRar?+b  
    •光栅高度:660 nm +g8uV hC  
    •填充系数:0.75(底部) H9rZWc"*  
    •侧壁角度:±6° u %&4[zb  
    •n1:1.46 j'&a)-Wx_  
    •n2:2.08 RX\@fmK&  
    ;%xG bg!lg  
    光栅#1结果 /n#t.XJY*  
    kF7`R4Sz  
    {;?bC'  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 StM)lVeF  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 T( sEk  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    ]=m0@JTbG  
    'K3%@,O  
    <zF/at  
    }o9(Q8  
    光栅#2 KPs @v@5M  
    gBXJ/BW$y  
    +/2:  
    u^&,~n@n7  
    /BfCh(B  
    •同样,只考虑此光栅。 R=s^bYdoy  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 R,[+9U|4V  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 R86:1  
    假设光栅参数: CiC@Z,ud`  
    •光栅周期:250 nm }J\KnaKo  
    •光栅高度:490 nm  B<?fD  
    •填充因子:0.5 D_Cd^;b  
    •n1:1.46 C$fQ[@  
    •n2:2.08
    m4kUA"n5  
    sK`pV8&xq  
    光栅#2结果 [[d@P%X&  
    E 9n7P'8  
    &1,qC,:!  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 3W}xYYs] ^  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 Wy,Tf*[  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 vCtag]H2@  
    Sh RkL<  
    h5R5FzY0&  
    文件信息 ppo\cy;  
    B=J/HiwV)  
    IDr$Vu4LCW  
    |&a[@(N:zf  
    k84JDPu#  
    QQ:2987619807 ZVmgQ7m  
     
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