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摘要 FYl3c wOg,SMiq 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 :<utq|#s "DpKrVuG e=>%^F 概述 @i1q]0 ]w[ThHRJ ]sL45k2W •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 -J?~U2 •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 M-Sv1ZLh •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 P
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mx}E$b$<CY +)gB9DoK 衍射级次的效率和偏振 E474l Zi4d] 0p3vE,pF •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ,Rz}=j •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 tlGWl0V?7Q •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 _]o5R7[MQ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 j-32S! •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 Z*eoA
qd(hQsfqYU sFElD
]| 光栅结构参数 dtTlIhh1V F$yeF^\g c[5@\j\ •此处探讨的是矩形光栅结构。 V(..8}LlD •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 !nzGH*td •因此,选择以下光栅参数: sTOFw;v% - 光栅周期:250 nm O<X
)p`,` - 填充系数:0.5 H,|YLKg-| - 光栅高度:200 nm s0!kwrBsp - 材料n1:熔融石英 SRWg[H - 材料n2:TiO2(来自目录) z2~87fv+ r*Z_+a8 cL7C2wB` LyP`{_"CM 偏振状态分析 K PggDKS a_%>CD${t b1)\Zi •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ZIW7_Y>_ •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 kfK[u/<i •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 L*^
V5^- T#r=<YH[C
vHc#m@4o 5rN7':(H!% 产生的极化状态 A]xCF{*)& JMePI%#8
5M.Red.L +f]u5p[ KBj@V6Q 其他例子 }VZM,.w D!me%; &Ea"hd •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 oX{@'B •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 -;ER`Jqs, |?yE^$a D}Au6 ydyG}XI7V 光栅结构参数 4v>o% xyvND ,z oB0([ •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ,3k@L\$.x •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 Z,SY
N?@ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ~f .y:Sbb •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ",QYDFFeF
M6&~LI.We= /Bh> 光栅#1 J ZA*{n2 TqXge{r
dK`(BA{`3 ^K"ZJ6?+1 gU+ss •仅考虑此光栅。 WX ,p`>n •假设侧壁表现出线性斜率。 CX]RtV! •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 eVrnVPkM •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ?THa5%8f k{_1r; ^u3*hl}YKy 假设光栅参数: k&yQ98H$K" •光栅周期:250 nm >B`Cch/'U •光栅高度:660 nm QjI#Cs}w •填充系数:0.75(底部) 1>hb-OMX •侧壁角度:±6° z/)$D •n1:1.46 9U&~(; •n2:2.08 ?n2C vf6`s\6 光栅#1结果 E2h(w_l Sw yaYK _cR6ik zW( •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 P`7ojXy •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 :wFb5" •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 >y]?MGk 4tbw*H5!5 D% oueW f+{c1fb>s 光栅#2 SRP5P,- y 43+EX.c
Jw2B&)k/ q
sv+.aW H~~7~1"x •同样,只考虑此光栅。 eVJ= .?r •假设光栅有一个矩形的形状。 SL6mNn9c •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 eLCdAr 假设光栅参数: $5ZR[\$ •光栅周期:250 nm ]\[m=0K •光栅高度:490 nm 7h(HG?2Y •填充因子:0.5 ,lrYl!, •n1:1.46 ,h3269$J •n2:2.08 7xX;MB& 3?!G- 光栅#2结果 6XQ*:N/4al sjkWz2]S kqj;l\N •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 ~%olCxfO •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 9zXu6<|qrL •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 lt@ vpZu.#5c
v[0DE*p 文件信息 nAQyxP% yw;ghP;
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