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摘要 ;*(i}' d!57`bVOd 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 Ql#y7HW ~#MXhhqB <S ae:m4 概述 >;Ag7Ex iWGn4p' l"zwH •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 _.%U}U •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ]Z IreI •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 k'8tqIUN] *Z8qd{.$q gCV+amP NoOrQ m 衍射级次的效率和偏振 gWD46+A){ [CG3&J fK|P144 •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 v?Zo5uVoq •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 &K*Kr=9N •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ^>/~MCyM. •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 8|L;y[v •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 9ls*L!Jw W"Tj.oCUG 5[y+X|Am 光栅结构参数 sTS/]"l M ]Hf>7p dI+Y1Vq •此处探讨的是矩形光栅结构。 LzTdi%u$0| •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 i@`qam
•因此,选择以下光栅参数:
"F=ta - 光栅周期:250 nm }U'VVPh_ - 填充系数:0.5 S3UJ)@
E - 光栅高度:200 nm dsU'UG7L - 材料n1:熔融石英 ]f~!Qk!I7r - 材料n2:TiO2(来自目录) )DGJr/) L1#_ 1'!D
d@%PTSX 偏振状态分析 _WR/]1R B.C:06E5 bU \T •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 T65"?=<EB •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 2w}l!'ue •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Ft^X[5G4L 8VtRRtl R=<%! WMa`!Q 产生的极化状态 J4x|Af p T/FZn{I j}O qWX>/ `mH]QjAO BNgm+1?L 其他例子 \.'[!GE *c nYR#Q| BRa9j:_b •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 ^T#jBqe •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 OIK46D6?. "G^TA:O:= 0(>3L : CZE!@1"<{ 光栅结构参数 5 B t~tt @+0dgkJ (_]!}N •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 / ykc`E?f •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 P4zwTEk` •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 bU[_YuJbM •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 4JyA+OD4 { G3 |x%/Fbp `kE7PXqa 光栅#1 x]@z.Yj t3!OqM dVk(R9 8 W/3sJc9 Nw*F1*v` •仅考虑此光栅。 cU-A1W •假设侧壁表现出线性斜率。 fC3T\@(& •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 IMncl=1 •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 |Y8}*C\M.h ?pcbso *?*~<R 假设光栅参数: R(*t1R\ •光栅周期:250 nm 1Q!kk5jE •光栅高度:660 nm 4"H*hKp •填充系数:0.75(底部) g*(z.
•侧壁角度:±6° ZyDNtX% •n1:1.46 a]Pw:lT •n2:2.08 pF7N = mO yj@k0TWT$ 光栅#1结果 97UOH $2,tT;50g &AOGg\ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 7{(UiQbf •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 .k-6LR •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 `U b*rOMu I`*5z;Q!%@ &F/-%l! uI9*D) 光栅#2 U<Tv<7` Ov<c1y;f %)r:!R~R (# mvDz ;HH%OfQq •同样,只考虑此光栅。 39hep8+ •假设光栅有一个矩形的形状。 h]L.6G|hEN •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 8nu!5 3 假设光栅参数: %\(-<aT •光栅周期:250 nm [qW%H,_ •光栅高度:490 nm vBOY[>= •填充因子:0.5 J4"A6`O •n1:1.46 Y,GlAr s4 •n2:2.08
?ueL'4Mm tq~4W% p/ 光栅#2结果 z@,(^~C_ u:lBFVqk 1U#W=Fg' •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 Gp
\-AwE •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 W^h,O+vk •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 #*/nUbsg QNINn>2 P8}IDQ9 文件信息 7%EIn9P qqe"hruFJ ,*U-o}{8C? xT_"` @ \1gAWUt(' QQ:2987619807 =1,!EkG
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