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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 % H<@Y$r  
    73B[|J*  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 C}|.z  
    _#1EbvO*l  
    +_{cq@c  
    概述 gj iFpW4  
    ,zuS)?  
    lQiw8qD  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 (?g+.]Dt,  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ;B;@MD,B  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 kBLFK3i  
    P9'` 2c   
    Rr %x;-  
    <^Vj1s  
    衍射级次的效率和偏振
    f0 sGE5  
    cbyzZ#WRb  
    \H:T)EVy  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 7$lnCvm  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 I:iMRvp  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 8!Wh`n<  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 W6i{ yne W  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 }q@#M8b  
    _ C?Wk:Y@  
    ) yMrE T m  
    光栅结构参数 N$]er'`  
    aqI"4v]~b  
    `"&Nw,C  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 ft(o-f7,  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 `e =IXkt  
    •因此,选择以下光栅参数: `L`+`B  
    - 光栅周期:250 nm 8^ f:-5  
    - 填充系数:0.5 WV$CZgL  
    - 光栅高度:200 nm `9K5 ;]  
    - 材料n1:熔融石英 R*D<M3  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) ZAgXz{!H(  
    $!.>)n  
    G$i)ELs  
    E^F<"mL*  
    偏振状态分析 j %gd:-tA  
    (~^fx\-S  
    ]q%r2 (y,k  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 W[O]Aal{  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 6K pq~o   
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 >Dr(%z6CN  
    &su'znLV  
    edp I?  
    El<*)  
    产生的极化状态 *tF~CG$r  
    b/z-W`gw  
    Dd5 9xNKm  
    2P"9m  
    RtMI[  
    其他例子 @=VxW U  
    o?Hfxp0}  
    eTx9fx w  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 !lgL=Ys(  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 \tI%[g1M  
    K4!-%d$  
    INi$-Y+  
    2@zduL'do_  
    光栅结构参数 D9oNYF-V  
    :jl*Y-mM  
    |q77  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 .Ix3wR9  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 [b3!H{b#  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 :]-oo*xP  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 K.)!qkW-%S  
    2nB99L{6  
    | ;tH?E  
    光栅#1 r<+C,h;aww  
    (gBKC]zvz3  
    'c s(gc 0  
    LlQsc{ Ddf  
    YvU%OO-+,  
    •仅考虑此光栅。 ~wb1sn3  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 fc9;ZX7  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Y_'ERqQ  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 EU?qLj':  
    I@'[>t  
    uYUFxm  
    假设光栅参数: .{1$;K @  
    •光栅周期:250 nm @YI{E*?S  
    •光栅高度:660 nm p&<Ssc  
    •填充系数:0.75(底部) +vh|m5"7I7  
    •侧壁角度:±6° S>yiD`v  
    •n1:1.46 Xsq@E#@S  
    •n2:2.08 (0$~T}lH  
    JmI%7bH@  
    光栅#1结果 W>@ti9\t  
    &GP(yj]  
    d9f7 &  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 \H] |5fp*  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ) O0Cz n  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    )0"Q h  
    .a*?Pal@@  
    ')uYI;h9  
    TjW!-s?S  
    光栅#2 :;k?/KU7  
    \<LCp;- K  
    )(}[S:`  
    G]K1X"W?  
    nQF& ^1n  
    •同样,只考虑此光栅。 9z7_D_yN2  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 iGW|j>N  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 c+:ZmrP/  
    假设光栅参数: Ebnb-Lze,  
    •光栅周期:250 nm xVx s~p1  
    •光栅高度:490 nm yZleots1  
    •填充因子:0.5 hY"eGaoF"  
    •n1:1.46 e+[*4)Qfy  
    •n2:2.08
    ='7m$,{(Q[  
    7H7 Xbi@  
    光栅#2结果 uF7vba$  
    O=0p}{3l  
    b fxE}>  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 }LUvh  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 q)q 3p  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 }a]`"_i;[  
    ^{Y,`F  
    H,7='n7"  
    文件信息 `Y&`2WZ ~  
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    e={O&9Z  
    QQ:2987619807  {53FR  
     
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