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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 ]Rz]"JZ\S  
    `j@2[XdHu  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 )fv0H&g  
    1H%LUA  
    Fj|C+;Q.  
    概述 W,}C*8{+  
    uT ngDk  
    ?PLf+S  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 LY/K ,6^a  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 vTN$SgzfCU  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 UZv^3_,qz  
    nCJ)=P.d  
    !\2Xr{f  
    V{ECDg P  
    衍射级次的效率和偏振
    B xq(+^T  
     GVe[)R  
    *RivZ c9;P  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 Q % )fuI  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 an=8['X  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 &")ON[|b  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 Bk*AO?3p  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 p8frSrcU  
    #1+1q{=Z<  
    *?+E?AGe  
    光栅结构参数 {+!m]-s  
    w>J|416  
    H9F\<5n]-l  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 5_9mA4gs@  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 +\2{{~_z  
    •因此,选择以下光栅参数: a)/!ifJ;  
    - 光栅周期:250 nm 0ERA(=w5  
    - 填充系数:0.5 5L'X3g  
    - 光栅高度:200 nm _f8Wa u# "  
    - 材料n1:熔融石英 p<: bP w  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) 7X*$Fu<  
    '1_CMr  
    \ym3YwP4/:  
    |9Q4VY'";  
    偏振状态分析 ,C1}gPQ6<  
    R<I)}<g(A3  
    %7 7v'Pz1  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 &A)AV<=>T  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 K!;Z#$iw[  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 h(l4\)  
    5ro^<P0f**  
    W_8N?coM  
    SvLI%>B=9  
    产生的极化状态 $F"'= +0  
    bz<f u  
    SfLZVB  
    T{<riJ`O  
    :c)N"EJlI2  
    其他例子 XEl-5-M"  
    7&;M"?m&  
    fP# !ywgr%  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 LX2rg\a+%  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 #q#C_"  
    Dukvi;\  
    P|*c7+q  
    W;!OxOWZJ  
    光栅结构参数 N@6+DHt  
    wyJ+~  
    G'<:O(Imu  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 @K .{o'  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 nI]8w6eCV  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 cuzU*QW"g  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 A{X:p3$eN  
    AtU%S9  
    xU<WUfS1  
    光栅#1 Sy()r 6n  
    wr>[Eo@%\  
    PgHe;^?j  
    m#w1?y)Z@X  
    NhJ]X cfP8  
    •仅考虑此光栅。 ~j3O0s<gK  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 ;GQCq@)-  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 o_ng{SL  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 cH>@ZFTF  
    @%iZT4`Ejf  
    lidVe]>  
    假设光栅参数: !r^fX=X>'  
    •光栅周期:250 nm TP3KT)  
    •光栅高度:660 nm -J &y]'  
    •填充系数:0.75(底部) iepolO=  
    •侧壁角度:±6° CZZwBt$P  
    •n1:1.46 KEfN!6  
    •n2:2.08 Z?JR6;@W  
    -So$ f-y  
    光栅#1结果 zD^*->`p  
    gug9cmA/Q7  
    "t0l)P*C}  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 OTe h8h  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 t?Ku6Z'  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    ~t+T5`K  
    ;*(i}'  
    s#cb wDT  
    'Nkd *  
    光栅#2 Dc@OrQu  
    f?JP=j  
    5nV IC3N+1  
    NJ^Bv`  
    CKE):kHu  
    •同样,只考虑此光栅。 7m$EZTw?  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 h;[<4zw  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 <>v=jH|L  
    假设光栅参数: =0t<:-?.-  
    •光栅周期:250 nm z!s1$5:"0  
    •光栅高度:490 nm 0ZM#..3sI  
    •填充因子:0.5 '2z1$zst,#  
    •n1:1.46 JIc(hRf9>  
    •n2:2.08
    k'8tqIUN]  
    P+L#p(K  
    光栅#2结果 gCV+amP  
    y g:&cIr,  
    8AVtUU  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 [CG3&J  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 Ev Ye1Y-  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 4^Ke? ;v  
    1,7  
    1K#%mV_  
    文件信息 ;,lFocGv  
    &j}:8Tst  
    0^3n#7m;K  
    ?zuKVi? I  
    !tzk7D  
    QQ:2987619807 5pU/X.lc  
     
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