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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 V"|j Dnn5  
    Z]^O=kX7k  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 6am<V]Hw0F  
    q_0,KOGW  
    P".rm0@R  
    概述 O4,? C)  
    ?/Z5%?6  
    'k9 1;T[  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 (EOYJHZB!  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 q]m$%>  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 +K"d\<  
    {OW.^UIq^  
    S{qsq\X  
    9 H~OC8R:  
    衍射级次的效率和偏振
    fb|lWEw5h.  
    s C?-L  
    f_tC:T4a  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 /QVhT  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 )dI  `yf  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 i  M!=/  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 F2mW<REg{  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 ^9oJuT!tu  
    Z<$ y)bf  
    Np R&`]  
    光栅结构参数 k!sk\~>YO  
    -l q,~`v  
    x=VLRh%Gvl  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 Y kcN-  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 wnbKUlb  
    •因此,选择以下光栅参数: X h"8uJD  
    - 光栅周期:250 nm z4*`K4W  
    - 填充系数:0.5 47 9yG/+\  
    - 光栅高度:200 nm bJ9K!6s??`  
    - 材料n1:熔融石英 !"N-To-c  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) /}RW~ax  
    #Ue_  
    kV+O|9  
    f#zm}+,`  
    偏振状态分析 vrvOPLiQ  
    0]`%i G|  
    mEDi'!YE"  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Y'2 |GJc2  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 CqbPUcK  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 $qh?$a  
    SHP_  
    tD\%SiTg=b  
    2$gOe^ &  
    产生的极化状态 c*`= o( S  
    Kv-4VWh  
    o"@GYc["  
    {/SLDyf%Z  
    w&^_2<a2  
    其他例子 ".T&nS[z  
    cAc>p-y%  
    G,JNUok  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 Y+UM>  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 k\wI^D  
     oN7JNMT  
    P|4qbm4%O,  
    gN/6%,H}  
    光栅结构参数 5t~p99#?  
    O %?d0K  
    <hSrx7o  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 QIZbAnn_  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 W: vw.  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 .3yxg}E>{  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 Ud[Zv?tA:  
    o$+"{3svw?  
    E8s&.:;+  
    光栅#1 6+Wkcr h  
    %>Y86>mVz  
    eW^_YG%(  
    /K<.$B8  
    l d4#jV ei  
    •仅考虑此光栅。 j=~c( B  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 +Pm yFJH  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 r^|AiYI)  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 dwAFJhgh  
    *Af:^>mh  
    {(MC]]'?  
    假设光栅参数: 8rx"D`{|  
    •光栅周期:250 nm W4~:3 Sk  
    •光栅高度:660 nm c3$h-M(jVJ  
    •填充系数:0.75(底部) (( D*kd"  
    •侧壁角度:±6° :RE.md  
    •n1:1.46 4PzCm k  
    •n2:2.08 l3C%`[MB  
    }^ np  
    光栅#1结果 kLw07&H  
    T2^0Q9E?  
    N-4k 9l1  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 LCMCpEtY*K  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ,AO]4Ec  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    $<(FZb=  
    {Bb:S"7NX  
    ~@wM[}ThP$  
    <p74U( V  
    光栅#2 "\9!9U#!  
    `pzXh0}|  
    `Z:5E  
    L| uoFG{  
    NY`$D}Bi  
    •同样,只考虑此光栅。 :"4Pr/}rT  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 5}uH;E)4  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 wtY*{m2  
    假设光栅参数: 8- U1Y  
    •光栅周期:250 nm "X }@VT=  
    •光栅高度:490 nm 4G4[IA u_  
    •填充因子:0.5 feH|sz`e  
    •n1:1.46 bo  J  
    •n2:2.08
    )d\u_m W^  
    DFKumw>!  
    光栅#2结果 g5 J[ut  
    ,r-l^I3<  
    ymxYE#q  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 [8o!X)  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 5D32d1A  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 Rt[zZv  
    eXqS9`zKr  
    cCoa3U/  
    文件信息 nK" XyZ&  
    Gs% cod  
    EN =oA P  
    5ZRO{rf  
    &GC`4!H  
    QQ:2987619807 J4-64t nZ  
     
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