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摘要 bsWDjV~ y5V]uQSD 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 44h z, lgCOp%> &2Cu"O'.i 概述 m,]h7 xx Q0_|?]v K@=_&A! •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 `{@?O%UB •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 pc_$,RkN •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 m}-~VYDj CY8=prC
gl6 *bB= )Chx,pcx< 衍射级次的效率和偏振 P-lE,X
z9*7fT "(y| iS$^T •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 }qdGS<{ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 R$40cW3` •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 [hXU$Y>"0 •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 .SSj=q4? •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 0 Pa\:^/6
\5^GUT $zV[-d 光栅结构参数 DadlCEZv #%tN2cFDN (A8X|Y •此处探讨的是矩形光栅结构。 (/l9@0Y.t •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 uYwJ[1C •因此,选择以下光栅参数: 4qEeN-6h - 光栅周期:250 nm )0Lv-Gs - 填充系数:0.5 A
ptzBs/ - 光栅高度:200 nm IE9A _u* - 材料n1:熔融石英 Ke+#ww - 材料n2:TiO2(来自目录) CVBy&o"6A {oN7I'> 8U>f/dxLOO b]U%|bp 偏振状态分析
fg1["{\ lGr(GHn p}
}=li> •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ra k@oW] •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 gG.b=DvzY •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ff9D{ $V5 $n?@zd@53
H{CG/+x `!\`yI$!%w 产生的极化状态 NrdbXPHceN aE(j_`L78
J@c)SK%2h lf\]^yM #
( XoL,lJ 其他例子 ;u0MY z@3t>k|K %g4G&My@J •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 o4CgtqRs •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 lclSzC9 ^H1B62_ 14p <0BG Ojf.D6nY 光栅结构参数 d&QB?yLd Ul@yXtj EI*B( •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 N%\!eHxy •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ?HBNd&gZ1G •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 >>voL DDd •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 J
;=~QYn[
ch}t++`l] j ,'$i[F' 光栅#1 Ph'P<h:V Vs)Pg\B?
{re<S<j& Oozt&* F %(,Kj
~0 •仅考虑此光栅。 ;{79d8/= •假设侧壁表现出线性斜率。 #%xzy@` •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Gvk)H$ni •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 /[iqga= YzqUOMAt"V ]4m;NI d 假设光栅参数: Ccld;c&+ •光栅周期:250 nm ua%$r[ •光栅高度:660 nm LwV4p6A •填充系数:0.75(底部) B\,pbOE?# •侧壁角度:±6° qcSlY&6+ •n1:1.46 0yhC_mI •n2:2.08 o.ntzN g?.ls{H 光栅#1结果 \YE(E04w57 XrY\ot`,D KErQCBeJ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 WleE$ , •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 *UVo>; •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 r5kKNyJ a7+w)]r p0jQQg $[L~X
M 光栅#2 nm)H\i 18ApHp
rz%8Vigb B8){ 038|>l-9[ •同样,只考虑此光栅。 6ge,2[PU •假设光栅有一个矩形的形状。 +>b~nK>M •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 j\kT
H 假设光栅参数: ?/Bp8q( •光栅周期:250 nm =]k0*\PS •光栅高度:490 nm q#RUL!WF7U •填充因子:0.5 1 !N+hf •n1:1.46 %~eIx=s •n2:2.08 9K]Li\ s&UuB1 光栅#2结果 ;m<22@,E& k1l\Rywp y:t@X~ •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 6'YT3= •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 PE $sF]/ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 N`3q54_$ 1>I4=mj
5f;6BP 文件信息 h$p]M^Z7 B 2p/
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