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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 tEWj}rX   
    C_^R_  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 eFXi )tl  
    c@o/Cv  
    A]SB c2   
    Dpp52UnT E  
    建模任务 c;|&>Fp  
    l~6SR  
     ]O9f"cj  
    概观 "$:y03V  
    G`9F.T_Z^)  
    $hE'b9qx  
    光线追迹仿真 >A'!T'"~  
    %C E@}  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Ko]h r  
    !{~7)iq  
    •点击Go！ = cI\OsV&?  
    •获得3D光线追迹结果。 -ZoOX"N}  
    ah6F^Kpl{  
     ={i&F  
    -WW!V(~p  
    光线追迹仿真 `SS~=~WY  
    E~g}DKs_5  
    rgZ rE;*;  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 W lLZtgq  
    •单击Go！ Zn 5m.=z  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     l;VGJMPi  
    B oj{+rE0  
    VU'l~%ql  
    h }%M  
    场追迹仿真 O7CYpn4<7  
    vLT12v:)`  
    &lfF!   
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 6exlb:  
    •单击Go！     a5~C:EU0  
    rnBeL _8C  
    !/(}meZj  
    n]{}C.C=  
    场追迹结果（摄像机探测器） zt?w n* _  
     [c!vsh]^  
    ZG[0rvW  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 fu "z%h]   
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 +p}Xmn  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 >E,L"&_j  
    4aGpKvW  
    Y(yJ|y&  
     K$vRk5U  
    场追迹结果（电磁场探测器） C`_D{r  
    Ay6rUN1ef  
    [3NV #  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     L8K3&[l%  
    !skWe~/  
    k'q !MZU  
    文件信息 GQ)cUrXQz  
    -Izg&u &  
     nMoF;AdKm  
    .MPOUo/e  
     <0qY8  
    QQ：2987619807 VQ;- dCV  
     
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