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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 RpwDOG  
    jx#9  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 DEW;0ic  
    F<4>g+Ag  
    Jb6)U]  
    Z]XjN@j"  
    建模任务 nyL$z-I)  
    2 b80b50  
    c"diNbm[  
    概观 +xS<^;   
    =wMq!mBd  
    '?Xf(6o1  
    光线追迹仿真 fRjp(m  
    vty:@?3\  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Vy6~O|68=  
    >c$3@$  
    •点击Go! @D$ogU,#  
    •获得3D光线追迹结果。 (QS 0  
    i3cMRcS;  
    E BSjU8  
    7ufTmz#j<  
    光线追迹仿真 8~sC$sIlE  
    2^qJ'<2]M  
    n-{.7  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 +k V$ @qH  
    •单击Go! JfRLqA/  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    _ BoA&Ism  
    9&zQ 5L>  
     i (`Q{l  
    p }e| E!  
    场追迹仿真 ,n`S ,  
    n5y0$S/ D  
    M5 P3;  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 %{jL+4veoL  
    •单击Go!
    Js(MzL  
    4KR$sKq$q  
    Z= =c3~  
    "5v^6R9e  
    场追迹结果(摄像机探测器) r::0\{{r"p  
    iI3,q-LA  
    ,ZVhL* "  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 8gG;A8  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 = toU?:.  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 xyHv7u%*  
    _p?s[r*  
    B%5"B} nG  
    U?ZWDr"*`w  
    场追迹结果(电磁场探测器) yH9&HFDp  
    j8%Y[:~D  
    5lyHg{iqD  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    FH{p1_kZ=  
    & x$ps  
    Wiyiq )^  
    文件信息 Z*IW*f&0>1  
    1k`gr&S  
    e'p"gX  
    DPCQqV|7  
    LYiIJAZ.  
    QQ:2987619807 x`I"%pG  
     
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