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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 -&c@c@dC  
    8]O|$8'"  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Th8xh=F[  
    zVIzrz0  
    ?F-,4Ox{/  
    ]C!u~A\jq  
    建模任务 L2 I/h`n"  
    '&"7(8E} *  
    ^C(AMT  
    概观 DT*/2TH*l  
    BjA|H  
    !54%}x)3  
    光线追迹仿真 E(TY%wO  
    eA!aUu  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 {S|uQgs6j  
    3}"VUS0wh  
    •点击Go！ rTi.k  
    •获得3D光线追迹结果。 8'zwy d3  
    @FQ@* XD  
     F*a+&% Q  
    *@O;IiSE  
    光线追迹仿真 4F'@yi^Gt  
    u", [ulP  
    "$WZd  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 |_O1V{Q=  
    •单击Go！ }>grGr%oR  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     5vS'Qhc  
    !XK p_v  
    UPbG_ #"wZ  
    'HOt?lpu!  
    场追迹仿真 Jap v<lV%  
    QII>XJ9  
    P| G:h&  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Sna7r~ j  
    •单击Go！     d~.#KS  
    poM VB{U  
    nF7Ozxm#  
    5^%FEZ&Sp  
    场追迹结果（摄像机探测器） ^D!UF(H  
     \wTW hr0  
    ~V(WD;Mk  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 r=s7be  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 zhFGMF1  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ll6~8PN  
    Lw3Z^G  
    &Uzg&eB  
     :g][99  
    场追迹结果（电磁场探测器） q'PA2a:  
    'GAjx{gM  
    SV-pS>#  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     RFqbwPX  
    9HWtdJ+^C=  
    %h3CQk  
    文件信息 N'TL &]  
    d6wsT\S  
     K4y4!zz  
    uZi]$/ic  
     FLi)EgZXt  
    QQ：2987619807 B1 'Ds  
     
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