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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 } %CbZ/7&  
    7C7(bg,7^  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 dQ`ZrWd_U  
    ss@}Dt^  
    A6y~_dt  
    )k] !u  
    建模任务 &\ lS  
    5@t uo`k  
    * r4/|.l  
    概观 9iddanQA  
    vJAAAS  
    gXLZ)>+A+  
    光线追迹仿真 $F`<&o  
    ~EWfEHf*BJ  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 <bXWkj  
    2G}7R5``9  
    •点击Go！ AH 87UkNL  
    •获得3D光线追迹结果。 Vt)\[Tl~  
    +IO1ipc4cE  
     2T(,H.O  
    +9 p`D  
    光线追迹仿真 ji)4WG/1  
    /xm#:+Sc  
    Z0 IxYEp  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 B 6'%J  
    •单击Go！ Q'Kik5I  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     . (*kgv@3x  
    s!;VUr\  
    %v+fN?%x,d  
    :n>ccZeMv  
    场追迹仿真 ,dj* p ,J  
    xAd>",=~  
    _QMHPRELk  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。  e(;`9T  
    •单击Go！     :_QAjU  
    +x9"#0|k;  
    $sL|'ZMbS  
    8K JQ(  
    场追迹结果（摄像机探测器） [' OCw {<  
     @U /3iDB\  
    Bpm5dT;  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 F`BgKH!  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ]D) 'I`  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Y9@dZw%2  
    X!#i@V  
    .xLF}{u  
     /@:up+$  
    场追迹结果（电磁场探测器） nvs}r%1'5  
    0n<(*bfW  
    u_6BHsU  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     !,6v=n[Nz  
    DNW2;i<hsz  
    +>!B(j\gx  
    文件信息 mj(&`HRs4  
    ]Ic?:lKN  
     u $% D9Z^  
    %7(kP}y*  
     :B*vkwT  
    QQ：2987619807 )p!*c,  
     
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