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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 F!8=FTb  
    XT||M)#  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 fA8ozL T  
    ^,7=X8Su  
    k90B!kg  
    6[==BbZ  
    建模任务 n,KA&)/s  
    C+l?k2  
    A4_>LO_qL  
    概观 #@_ 1fE  
    |< N frz  
    eoJ]4-WFq  
    光线追迹仿真 x N`T  
    &`@M8-m#F  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 .s};F/(diD  
    F";FG 0  
    •点击Go！ R [9w  
    •获得3D光线追迹结果。 u7muaSy  
     `$-lL"  
     H`D f  
    _pSIJ3O  
    光线追迹仿真 R{<Y4C2~  
    K/Jk[29"\  
    u33zceE8  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ~ hD{coVTI  
    •单击Go！ @+dHF0aXd  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     N5\{yV21",  
    lO&cCV;  
    'rx?hL3VW  
    ]<X2AO1  
    场追迹仿真 46dc.Yi  
    l;5`0N?QO  
    |#cAsf_{  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 AM?Ec1S #a  
    •单击Go！     6z]`7`G   
    >a9l>9fyY  
    A`C-sD >  
    X2P``YFV{  
    场追迹结果（摄像机探测器） kJeu40oN  
     ;KS`,<^-  
    Bbs5f@E  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 YZ*{^'  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 cUC17z2D  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 =kO@Gk?  
    X X&K=<,Ja  
    l4Y1(  
     Y^5"qd|`  
    场追迹结果（电磁场探测器） }s6G!v^2""  
    H%~Q?4  
    &oc_ a1 R  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Mz}i[|U\  
    1t%<5O;R  
    gA"<MI'y  
    文件信息 \6LcVik  
    CLktNR(45  
     {]@Qu"M  
    qSR? ,G  
     wXcMt>3  
    QQ：2987619807 neIy~H_#!  
     
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