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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ,,G"EF0A  
    @:RoYvk$  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ;_SSR8uHv  
    m5 sW68  
    1OExa<Zq  
    N@tKgx  
    建模任务 7omHorU+  
    M.,DXEZT  
    a9;KS>~bq  
    概观 5- GS@fY  
    @Ol(:{<  
    #<==7X#  
    光线追迹仿真 {H(l"KuL  
    7'e sJ)2  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 OnE%D|Tq=  
    , d $"`W2  
    •点击Go！ >U`G3(#7S  
    •获得3D光线追迹结果。 sM MtU@<x  
    Cp/f18zO  
     \~A qA!)6  
    xE;O =mI  
    光线追迹仿真 ;PC!  
    ssLswb  
    dq.U#Rhrx  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 17?YN<  
    •单击Go！ 7^#f)Vp  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Z5(9=8hB/  
    _b%)  
    Jn=;gtD- *  
    1|4,jm$  
    场追迹仿真 #0T/^ #  
    @ :Zk,   
    P #! N  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 5C1EdQ4S0  
    •单击Go！     1UJrPM%  
    XEA5A.uc  
    8u~  
    +={K -g7U  
    场追迹结果（摄像机探测器） YhV<.2^k  
     qJ`:$U  
    131(0nl)=I  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 C^L xuUW  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 '42$O  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ko[w#j  
    0c`zg7|  
    }ww/e\|Nt=  
     (&eF E;c  
    场追迹结果（电磁场探测器） S j~SG  
    "."(<c/3  
    rWL;pM<  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     !5lV#w!vb  
    8lpAe0p(Z  
    )L:e0u  
    文件信息 V2}\]x'1  
    la+Cra&xL  
     8-x-?7  
    U&WEe`XM  
     Kb(11$U  
    QQ：2987619807 b*?u+tWP_  
     
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