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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 B0dv_'L}L  
    L6n<h  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 mz?1J4rt  
    M~LYq  
    X3l? YA  
    a`_w9r+v  
    建模任务 wLOS , =  
    IZ 3e:  
    M TOZ:b  
    概观 x A"V!8C  
    WeE1 \  
    !7y:|k,ac  
    光线追迹仿真 GjeRp|_Qd<  
    P2=u-{?~  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 [&K"OQ^\2h  
    (ioJ G-2u  
    •点击Go！ <nbc RO.  
    •获得3D光线追迹结果。 `~+[pY 1r  
    f3"sKL4|  
     A`ScAzx5{  
    sQgJ`+Y8_  
    光线追迹仿真 o6c>sh  
    0p[-M`D  
    IfzZ\x .  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 =At)?A9[  
    •单击Go！ Rn5{s3?F~2  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     dZ%rmTE(H  
    v%!'vhf_K  
    6 6Bx,]"6  
    $@@@</VbP  
    场追迹仿真 7]lUPLsl  
    Tv /?-`Y  
    <) VNEy'  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 :<i<\TH'  
    •单击Go！     se`^g ,]P  
    j V~+=(w)  
    >@?`n}r|  
    u]jvXPE6  
    场追迹结果（摄像机探测器） eg(1kDMpn  
     /{ FSG!  
    <z R CT  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 3R6=C~  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 MVOWJaT(Aq  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 mWX{I2  
    $ nHf0.V1  
    WI\jm&H r  
     7Kn}KO!Y8  
    场追迹结果（电磁场探测器） *TC#|5  
    F@rx/3 [  
    dj5@9X  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     5"2pU{xmK  
    !1[ZfTX^a  
    +~za6  
    文件信息 )bl^:C  
    *r].EBJ\  
     pz,iQUs _o  
    c%5Suu( J6  
     ).8NZ Aj  
    QQ：2987619807 )kvrQ6  
     
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