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摘要 RpwDOG jx#9
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 DEW;0ic F<4>g+Ag Jb6)U] Z]XjN@j" 建模任务 nyL$z-I) 2 b80b50 c"diNbm[ 概观 +xS<^;
=wMq!mBd '?Xf(6o1 光线追迹仿真 fRjp(m v ty:@?3\ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Vy6~O|68= >c$3@$ •点击Go! @D$ogU,# •获得3D光线追迹结果。 (QS 0 i3cMRcS;
E
BSjU8 7ufTmz#j< 光线追迹仿真 8~sC$sIlE 2^qJ'<2]M n-{.7 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 +k V$ @qH •单击Go! JfRLqA/ •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 _BoA&Ism 9&zQ5L>
i (`Q{l p}e| E! 场追迹仿真 ,n`S
, n5y0$S/D M5P3; •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 %{jL+4veoL •单击Go! Js(MzL 4KR$s Kq$q Z=
=c3~ "5v^6R9e 场追迹结果(摄像机探测器) r::0\{{r"p iI3,q-LA ,ZVhL* " •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 8gG;A8 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 =
toU?:. Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 xyHv7u%* _p?s[r*
B%5"B} nG U?ZWDr"*`w 场追迹结果(电磁场探测器) yH9&HFDp j8%Y[:~D 5lyHg{iqD •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 FH{p1_kZ= &x$ps
Wiyiq )^ 文件信息 Z*IW*f&0>1 1k`gr&S
e'p"gX DPCQqV |7 LYiIJAZ. QQ:2987619807 x`I"%pG
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