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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 j?-R]^-5  
    Js{= i>D  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 QVtM.oi!Q  
    URw5U1  
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    E\$C/}T  
    建模任务 mQr0sI,o]  
    fu]N""~  
    N wtg%;  
    概观 Hg+ F^2<y  
    }l;Lxb2`  
    .Dw,"VHP  
    光线追迹仿真 .=<$S#x^Hb  
    ]db@RbaH  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 &=Y e6 f[  
    ^E,1V5  
    •点击Go！ 0m)&Y FZ[(  
    •获得3D光线追迹结果。 -^SA8y  
    4!%F\c46  
     op@i GC+  
    6+` tn  
    光线追迹仿真 +iA=y=;blH  
    z-,VnhLx  
    L`[z[p {?  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 1%`7.;!i  
    •单击Go！ GwLFL.Ke  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     =SBBvnPLI  
    GEe`ZhG,  
    VKW|kU7Cs$  
    >oJkJ$|wU  
    场追迹仿真 FxRXPt FK  
    ,t,wy37*D  
    FWY2s(5p  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 `78V%\  
    •单击Go！     bx}fj#J]En  
    \#,t O%D  
    'q{733o  
    `xz&Scil  
    场追迹结果（摄像机探测器） L*JPe"N -e  
     I%lE;'x  
    ,pt%) c  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 c`G&KCw)d  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 jH *)%n5,\  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 k6**u  
    XDz5b.,  
    nII^mg~  
     lE5v-z? &|  
    场追迹结果（电磁场探测器） }Je>;{&%  
    23ze/;6%A  
    H0*,8i5I  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ,k0r  
    ~?Omy8#  
    )qU7`0'8  
    文件信息 MI#mAg<  
    f CcD&<%  
     Y+-xvx :  
    E4[}lX}  
     csQfic  
    QQ：2987619807 LE=k  
     
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