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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 PBEi"`i  
    y0?HZ Xq  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ^5?|Dj  
    kz("LI]  
    *wd=&Z^19  
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    建模任务 *:un+k  
    o /1+ }f  
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    概观 `)KGajB  
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    (]&B' 1b  
    光线追迹仿真 &%)F5PT  
    #D?w,<_8,  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 QuI!`/N)z  
    7Lj:m.0O^  
    •点击Go！ p0l.f`B  
    •获得3D光线追迹结果。 >\J<`  
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     ` l'QAIo  
    O7.eq524  
    光线追迹仿真 ~ oq.yn/1  
    >zw@!1{1  
    l g ,%  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 N:#$S$  
    •单击Go！ aCIz(3^  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     U#w0E G  
    `C-8zA  
    -'WR9M?fq  
    k 7@:e$7  
    场追迹仿真 OR' e!{  
    I3sfOU  
    MU `!s b*  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 "A~D(1K  
    •单击Go！     z^4+U n  
    t.O~RE  
    _F4=+dT|  
    yzL9Ic  
    场追迹结果（摄像机探测器）  z.2UZ%:  
     4 CiRh  
    CO@ kLI  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 nG?Z* n  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。  Yy`A0v  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 CQ Ei(ty  
    u$ o 19n  
    --c)!Vxzx  
     Z?9G2<i  
    场追迹结果（电磁场探测器） 2lN0Sf@  
    *J': U>p  
    /S^>06{-+  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     OH]45bd &7  
    ZdPqU \G^q  
    =1)9>=}  
    文件信息 H ]](xYy.  
    i/!KUbt  
     pV 8U`T  
    +R{~%ZTK  
     [{& OcEf  
    QQ：2987619807 Wap\J7NY  
     
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