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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 i[33u p  
    5D^2 +`$/  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 =y?Aeqq\fl  
    -yIx:*KI  
    :=quCzG  
    DvI^3iG8  
    建模任务 M>BVnB_,-  
    [8DPZU@  
    }ew )QHd  
    概观 p4uObK,  
    ^'sy hI\  
    4 ;6,h6a  
    光线追迹仿真 lYm00v6y  
    ]REF1<)4z  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 u8x#XESR7  
    33"!K>wC  
    •点击Go！ Oeg^%Y   
    •获得3D光线追迹结果。 \H PB{ ;  
    qssK0!-  
     =':SOO7  
    |hvclEu,  
    光线追迹仿真 >n&+<06  
    Q`=d5Uvw  
    >IKIe  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 &]KA%Db2  
    •单击Go！ &6\E'bBt  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     0w2<2grQ  
    HErG%v]nw  
    *'@T+$3s  
    /dR:\ffz2  
    场追迹仿真 (x[z=_I%`  
    ``h* A  
    2tp95E`(O  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 eN  TKX  
    •单击Go！     >/-Bg:  
    c5eimA%`  
    DnB :~&Dw  
    dP/1E6*m  
    场追迹结果（摄像机探测器） .T~Oc'wGo  
     K>2Bz&)  
    SQG9m2  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 U]E~7C  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Fy^8]u*Fu  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Hq <!&  
    \-Q6z 8  
    Q"GZh.m  
     [-=y*lx %g  
    场追迹结果（电磁场探测器） EHq?yj;  
    2B=BRVtSs  
    #/>OW2Ny  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Ch&2{ ng  
    $)j f  
    Gd[: &h  
    文件信息 mw${3j~&  
    _s0;mvz'  
     Y c>.P  
    *b(nX,e  
     t "[2^2G  
    QQ：2987619807 @ql S #(  
     
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