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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 =Rl?. +uE  
    X|'EyZ  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 -c-#1_X5  
    {*VCR  
    `I(#.*  
    sd;J(<Ofh  
    建模任务 -@49Zh2'  
    RbUhLcG5  
    box(FjrZE  
    概观 5T?esF<  
    Y$0Y_fm%  
    Tu Q@b  
    光线追迹仿真 ]UG+<V ,:  
    |1GR:b24  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 \\80c65-  
    HZBU?{  
    •点击Go！ ! 6kLL  
    •获得3D光线追迹结果。 h_K(8{1  
    6fvzTd},  
     l MCoc'ae  
    W+ tI(JZ  
    光线追迹仿真 (?SK< 4!  
    x0^O?UR  
    | ,bCYK  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 3,~M`~B  
    •单击Go！ MWv_BXQ  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     6"^Yn.  
    S Rs~p  
    N&`VMEB)k  
    ,3_;JT"5  
    场追迹仿真 Kq}/`P  
    F|K=].  
    e0O2 >w  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Ekx3GM_]  
    •单击Go！     ]3@6o*R;  
    H"|xG;cf  
    YQ}xr^VA  
    }m Rus<Ax  
    场追迹结果（摄像机探测器） 3$Ew55  
     }q1@[ aE  
    Pl_4;q!$  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 +0U{CmH  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 %{\|/#>:  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 0HUSN_3F  
    %} WSw~X  
    O5HK2Xg,C  
     a hi lp$v  
    场追迹结果（电磁场探测器） ]M AB  
    _@CY_`a  
    Fy|tKMhnc  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     \|20E51B[  
    SVsLu2tVY  
    Fj\}&H*+  
    文件信息 6AeX$>k+  
    m,nZrap  
     $mvcqn;  
    +]|aACt]  
     '< ]:su+  
    QQ：2987619807 !'>(r K$  
     
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