切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 1199阅读
    • 0回复

    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6794
    光币
    28119
    光券
    0
    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 " 8MF_Gu):  
    KpGhQdR#  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 vE?G7%,  
    9A=,E&  
    F41=b4/  
    +\9NDfYIA  
    建模任务 VONDc1%ga  
    T5h H  
    R 9\*#c  
    概观 /x$nje,.  
    H{wl% G  
    ?tbrbkx  
    光线追迹仿真 QWYJ *  
    R/YqyT\SM  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 }}~|!8  
    }7Q%6&IR  
    •点击Go！ e7 o.xR  
    •获得3D光线追迹结果。 L,!?Nt\  
    L8B! u9%  
     0(HU}I  
    {<KVx9  
    光线追迹仿真 K"MX!  
    mzgfFNm^G)  
    77Dn97l)&  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 %ET+iIhK  
    •单击Go！ 4WB0Pt{  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     zDG b7S{  
    ;V!D :5U  
    `c$V$/IT  
    2^7`mES  
    场追迹仿真 @yYkti;4-  
    !a\^Sk /  
    ? J0y|  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 {l@{FUv  
    •单击Go！     CU0YIL  
    L4W5EO$  
    hZb_P\1X  
    Le^ n +5x  
    场追迹结果（摄像机探测器） 1% `Rs  
     {JLtE{  
    K&-"d/QuLg  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 At;LO9T3z  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 : A;RH  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 :3 mh@[V  
    %cn<ych G  
    {qVZNXDn  
     -~w'Xo#  
    场追迹结果（电磁场探测器） KI.hy2?e  
    <P<z N~i9j  
    QJ;2ZN,  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     y~V(aih}D  
    [}m[)L\  
    u3 D)M%e  
    文件信息 "[N!m1i:{  
    EU#^7  
     (9)Q ' 'S  
    6S #Cl>v  
     p#tI;"\y  
    QQ：2987619807 i6Gu@( 8Q  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表