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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 HkQ2G}<  
    QZDGk4GG  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 &AoWT:Ea  
    c*3ilMP\4  
    tmm\V7sJ  
    'dx4L }d  
    建模任务 r"0nUf*og:  
    au GN~"n^  
    p HWol!  
    概观 C5eol &  
    4ba1c  
    `E}2|9  
    光线追迹仿真 Sm-nb*ZyC  
    |o+vpy  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 A?_2@6Y^  
    /A_ IS`  
    •点击Go！ GM@TWwG-B  
    •获得3D光线追迹结果。 7C&`i}/t  
    ,x_g|J _Y  
     bi,%QZZ  
    & ??)gMM[  
    光线追迹仿真 I{M2nQi  
    F9d][ P@@  
    $i =-A  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 9%)'QDVGLf  
    •单击Go！ M>0~Ek%3  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     +|o -lb  
    X.JB&~/rO  
    bf}r8$,  
    /0(4wZe~?  
    场追迹仿真 BL]^+KnP  
    RzyEA3L'  
    EkJo.'0@  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。  *A_  
    •单击Go！     s  n?  
    8^M5u>=t;  
    8o~\L= l  
    X_=oJi|:  
    场追迹结果（摄像机探测器） Va9vDb6  
     GifD>c |z  
    \Z)'':},C  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 4}8Xoywi1  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 I]T-}pG  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 C8(sH@  
    X5)>yM^N`  
    qHv W{0E  
     L!{^^7  
    场追迹结果（电磁场探测器） 5ptbz<Xv  
    654PW9{(  
    m 81\cg  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     CIV6 Qe"<  
    O1/!)E!  
    &\1Dy}:  
    文件信息 A~h8 >zz*  
    HLk/C[`u,  
     !(+?\+U lE  
    {x-g?HB  
     Q}I. UG_  
    QQ：2987619807 4 9#I  
     
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