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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 6v scu2  
    `2+TN  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 JP"#9f  
    /YPG_,lRA  
    I _Lm[  
    X)j%v\#`U  
    建模任务 *^{j!U37s  
    )Z4iM;4]  
    h5l_/v d  
    概观 $tW E9_  
    5G'2 Wby'#  
    3TjyKB *!  
    光线追迹仿真 '6\w4J(  
    46 0/eW\  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 +|GHbwvp  
    v h)CB8  
    •点击Go！ R86i2',  
    •获得3D光线追迹结果。 6*$A/D  
    EGv]K|  
     Y cL((6A  
    D` cy.},L  
    光线追迹仿真 :rufnmsP<U  
    n87Uf$  
    U74L:&y LI  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 +6+1N)L  
    •单击Go！ [-W~o.`  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     J<"Z6 '0v  
    Y/m-EL  
    c"CR_  
    gL| 9hvHr[  
    场追迹仿真 B&KIM{j\  
    )Mflt0fp  
    d5 ]-{+V+  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 n]w%bKc-9  
    •单击Go！     32j#kJW  
    Oel%l Y}m3  
    "\~>[on  
    fCs{%-6cP  
    场追迹结果（摄像机探测器） ia.+<, $`S  
     =*-a c  
    XF3lS#pt  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 7r(c@4yPI  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 b/T k$&  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 h;(mb2[R  
    &432/=QSm0  
    ) .V,zmI  
     SFP?ND+7  
    场追迹结果（电磁场探测器） QDK }e:4q  
    if1)AE-  
    (Cti,g~  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     y^X]q[-?  
    VyIJ)F.c  
    g[ @Q iy  
    文件信息 E 6Uj8]P`  
    C^]UK  
     wB[ JFy"E  
    1v|0&{lB  
     R5},E  
    QQ：2987619807 K`|V1L.m  
     
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