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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 W)LtnD2 w  
    @Jh;YDr`A  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ! <O,xI'  
    |V dr/'  
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    h.t2;O,b  
    建模任务 ^630%YO  
    B[IqLD'6  
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    概观 >|W\8dTQ  
    cedH#;V!j  
    9zKbzT]  
    光线追迹仿真 [j;#w,Wb  
    _GtG8ebr  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 5^0K5R6GQf  
    A5q%yt I  
    •点击Go! `21$e  
    •获得3D光线追迹结果。 _/pdZM,V  
    6Gj69Lr  
    +cf.In,{  
    *Q`y'6S  
    光线追迹仿真 .>^iU}  
    z$]HZ#aRE  
    }'c@E0"  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 {)y8Y9G  
    •单击Go! \0bZ1"  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    iosL&*'8  
    sqjv3=}  
    OE8H |?%  
    Hphfqdh0`  
    场追迹仿真 )K>2  
    r$/.x6g//  
    S!{Kn ;@  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 -MTO=#5z  
    •单击Go!
    1 GB  
    Zt{\<5j  
    $?Yw{%W  
    noSBwP| v*  
    场追迹结果(摄像机探测器) ^hIKDc!.m  
    yq,% ey8  
    F qH@i Z  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 $@}\T  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ,].S~6IM  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 RxrUnMF  
    0Ik}\lcn  
    uJ_"gPO  
    mj^]e/s%  
    场追迹结果(电磁场探测器) P;~P:qKd  
    z<Y >phc  
    P6([[mmG  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    +ug[TV   
    qcdENIy0b  
    {WYmO1  
    文件信息 Z`97=:W  
    oHj64fE9  
    _>)=c<HL  
    eK_Yt~dj  
    [-*8 S1  
    QQ:2987619807 oEuo@\U05v  
     
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