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摘要 W)LtnD2 w @Jh;YDr`A 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 !
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dr/' Bk
yW h.t2 ;O, b 建模任务 ^630%YO B[IqLD'6 ?S2!'L 概观 >|W\8dTQ cedH#;V!j 9zKbzT] 光线追迹仿真
[j;#w,Wb _GtG8ebr •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 5^0K5R6GQf A5q%ytI •点击Go! `21$e •获得3D光线追迹结果。 _/pdZM,V 6Gj69Lr
+cf. In,{ *Q`y'6S 光线追迹仿真 .>^iU} z$]HZ#aRE }'c@E0" •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 {)y8Y9G •单击Go! \0bZ1" •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 iosL&*'8 sqjv3=} OE8H |?% Hphfqdh0` 场追迹仿真 )K>2 r$/.x6g// S!{Kn ;@ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 -MTO=#5z •单击Go! 1 GB Zt{\<5j $?Yw{%W noSBwP|v* 场追迹结果(摄像机探测器) ^hIKDc!.m yq,%ey8 F qH@iZ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 $@}\T •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ,].S~6IM Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 RxrUnMF 0Ik}\lcn
uJ_"gPO mj^]e/s% 场追迹结果(电磁场探测器) P;~P:qKd z<Y
>phc P6([[mmG •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 +ug[TV qcdENIy0b
{WYmO1 文件信息 Z`97=:W oHj64fE9
_>)=c<HL eK_Yt~dj [-*8S1 QQ:2987619807 oEuo@\U05v
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