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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 IE+$ET> t  
    ~}i &gd|(  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 (`k0tC2  
    #&\^{Z  
    T""X~+{Z@  
    5qGRz"\p~  
    建模任务 ^g$k4  
    1%G<gbHpI  
    PBTGN;y  
    概观 ~2beVQ(U  
    l&dHH_m3  
    Ts:3_4-k  
    光线追迹仿真 MP-A^QT  
    M6jP>fbV*  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 cH.T6u_%  
    _~d C>`K  
    •点击Go! P)XkqOGpT9  
    •获得3D光线追迹结果。 G0^WQQ4  
    4~53%=+  
    VTa?y  
    xO`w| k  
    光线追迹仿真 \( LKLlam  
    [9u/x%f(  
    d7g/s'ZHt6  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 aBj~370g  
    •单击Go! -IMm#  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    aEW Z*y  
    p{"p<XFyO  
    c BQ|m A  
    S)p{4`p%  
    场追迹仿真 R4"["T+L`  
    4d)w2t?H%  
    Ro*$7j0!Hf  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 yK+76\} I  
    •单击Go!
    L%ND?'@  
    C0[Rf.*  
    rteViq+|.  
    zO<EbqNe!  
    场追迹结果(摄像机探测器) w;vp X>  
    0|nvi=4~e|  
    g2l|NI#c^  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 N#Bg`:!  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 w1F7gd  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 s03 DL  
    E1_FK1*V;  
    *,-)4)7d  
    (pm]U7  
    场追迹结果(电磁场探测器) dGAthbWJ  
    N+rLbK*  
    >V;JI;[  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    xojy[c#  
    u|<Z};a  
    udX4SBq-pC  
    文件信息 +j_Vs+0  
    M. 1R]x( |  
    KOv ar0  
    )zlksF  
    +?zyFb]Km  
    QQ:2987619807 k ~lj:7g~  
     
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