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摘要 IE+$ET>t ~}i&gd|( 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 (`k0tC2 #&\^{Z T""X~+{Z@ 5qGRz"\p~ 建模任务 ^g$k4 1%G<gbHpI PBTGN;y 概观 ~2beVQ(U l&dHH_m3 Ts:3_4-k 光线追迹仿真 MP-A^QT M6jP>fbV* •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 cH.T6u_% _~d C>`K •点击Go! P)XkqOGpT9 •获得3D光线追迹结果。 G0^WQQ4 4~53%=+
VTa?y xO`w|k 光线追迹仿真 \( LKLlam [9u/x%f( d7g/s'ZHt6 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 aBj~370g •单击Go! -IMm# •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 aEW
Z*y p{"p<XFyO c BQ|mA S)p{4`p% 场追迹仿真 R4"["T+L` 4d)w2t?H% Ro*$7j0!Hf •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 yK+76\} I •单击Go! L%ND?'@ C0[Rf.* rteViq+|. zO<EbqNe! 场追迹结果(摄像机探测器) w;vp X> 0|nvi=4~e| g2l|NI#c^ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 N#Bg`:! •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
w1F7gd Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 s03DL E1_FK1*V;
*,-)4)7d (pm]U7 场追迹结果(电磁场探测器) dGAthbWJ N+rLbK* >V;JI;[ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 xojy[c# u|<Z};a
udX4SBq-pC 文件信息 +j_Vs+0 M.1R]x(|
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a r0 )zlksF +?zyFb]Km QQ:2987619807 k ~lj:7g~
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