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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 7)zn[4v7qt  
    -Z&6PT7  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Va"_.8n|+  
    ~ei\~;n\@  
    <\k=j{@  
    Dx/!^L02  
    建模任务 B 95}_q  
    Fy-+? ~  
    *JXiOs  
    概观 DKL< "#.7  
    ;u LD_1%  
    i70TJk$fs  
    光线追迹仿真 _%Ay\4H^\  
    pfW0)V1t  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 _5Q?]-M  
    @YyTXg{ZK  
    •点击Go！ bu"R2~sb  
    •获得3D光线追迹结果。 ;i`X&[y;  
    S5ka;g  
     .fxI)  
    <:yB4t3H+q  
    光线追迹仿真 2U,O e9  
    \RZFq<6>  
    WSfla~-'F  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 uAT01ZEm  
    •单击Go！ 'UO,DFq[Fl  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     fclmxTy  
    yn<z!z%mz  
    ug!DL=ZW  
    .E|Hk,c9  
    场追迹仿真 "|pNS)  
    -}k'a{sj=  
    D3yG@lIP3  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 #=R)s0j"  
    •单击Go！     sqHv rI  
    WlP#L`  
    y'4H8M2?  
    N m-{$U  
    场追迹结果（摄像机探测器） MjC;)z  
     cA ;'~[  
    POTW+Zq]  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Xg.'<.!g0  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 K g&{ ?&  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 l5S (x Q  
    =9n$ at$l@  
    1QM*oj:  
     fXMVl\ <  
    场追迹结果（电磁场探测器） (5?5? <  
    [@[!esC  
    u4B,|_MK  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     d -6[\S#  
    phSF. WC  
    +NPk9jn  
    文件信息 ;nG"y:qq  
    Ojp)OeF\  
     c+AZ(6O ?\  
    R3F>"(P@tS  
     a_I!2w<I  
    QQ：2987619807  Q^/5hA  
     
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