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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要  Zsn@O2  
    a&Z,~Vp  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 cy(4g-b]@e  
    r;9 V7C  
    TVM19)9  
    X<D fzd oI  
    建模任务 TILH[r&Jg  
    y9N6!M|'y  
    OQIr"  
    概观 (!PsK:wc  
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    <L('RgA@X  
    光线追迹仿真 ([dwZ6$/J  
    I.'/!11>  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 >m:n6M'r  
    f5Hv![x  
    •点击Go！  0R,.  
    •获得3D光线追迹结果。 t2iQ[`/?~  
    gq]@*C  
     RrT`]1".  
    e"%uOuIYX  
    光线追迹仿真 i6f42]Jy  
    0 @um  
    8Vjv #pm  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 qj/Zk [  
    •单击Go！ AmZW=n2^  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     `fOp>S^Q4  
    %^d<go^  
    Fi'ZId  
    |~ytAyw  
    场追迹仿真 Zd'Yu{<_2N  
    qW4DW4  
    zBK"k]rz  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 4TI`   
    •单击Go！     RU=\eD  
    !Eg2#a?  
    BNF*1JO  
    PJ4/E  
    场追迹结果（摄像机探测器） %gQUog  
     j sD]v)LB  
    o:&8H>(hn]  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 vcCNxIzEG  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 $)nPj_h  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 <CB%e!~.9  
    ^<Gxip  
    *p=enflU  
     `zrg?  
    场追迹结果（电磁场探测器） -LT!LBnEkf  
    =)G]\W)m  
    \#]C !JQ  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     <Y6zJ#BD  
    $P#x>#+[A  
    ,(-V<>/*.|  
    文件信息  4Y}Nu  
    7M _ mR Vh  
     .zl[nx[9"D  
    nW*cqM%+  
     " dGN0i  
    QQ：2987619807 J<0d"'  
     
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