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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 S9/\L6Rmf  
    S!}pL8OE  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 gJOswN;([  
    Yic'p0< ?V  
    yCg>]6B  
    Q%GLT,f1.  
    建模任务 gAi}"} ;  
    WWTJ%Rd|  
    78b9Sdi&  
    概观 A@k=Mk  
    xi\uLu?i  
    H~*[v"  
    光线追迹仿真 !q PUQ+  
    /_bM~g  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 IZ4jFgpR  
    / dn]`Ge)  
    •点击Go！ wIbc8ze  
    •获得3D光线追迹结果。 P#Ikj& l   
    s{j3F  
     pm;g)p?  
    bL7mlh  
    光线追迹仿真 =WP}RZ{S  
    `V0]t_*D  
    %}&9[#  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 }@A~a`9g  
    •单击Go！ Ix5yQgnB}j  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Un[#zh<4  
    G}~b  
    #$fFp  
    8i"{GGVC  
    场追迹仿真 4';['  
    17qrBG-/MD  
    7,LT4wYH  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 )ZmE"  
    •单击Go！     q+G1#5  
    #wm)e)2@  
    &q` =xF  
    !8s:3]  
    场追迹结果（摄像机探测器） /3Gv51'  
     AAl`bhx'n  
    gf@'d.W}  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 sQH.}W$C  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 i|d41u;@  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 If#7SF)n'  
    ,wEM  
    q{JD]A:  
     =XS'V*  
    场追迹结果（电磁场探测器） 02S(9^=  
    |$0/:*  
    I5"=b}V5  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     >) :d38M  
    O@Kr}8^,  
    Q Y fS-  
    文件信息 f!I e  
    ^ pR&  
     5Q'R5]?h  
    u1kbWbHu(  
     |Z/ySAFM  
    QQ：2987619807 -T(V6&'Qi  
     
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