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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 gaw/3@  
    [SJ*ks,]  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 >*%mJX/F  
    Am? dHP  
    bR!*z  
    EBN'u&zX  
    建模任务 p M:lg  
    RE(R5n28,  
    3Vl?;~ :5  
    概观 SXA_P{j&a  
    e" f/  
    Q}M% \v  
    光线追迹仿真 D f H>UA  
    +,"/z\QO  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 .* xaI+:  
    EnGVp<6R  
    •点击Go！ @m[r0i0J"  
    •获得3D光线追迹结果。 &i,xod6$  
    %P2GQS-N  
     {WJ+6!v  
    @e_ bG@  
    光线追迹仿真 Mg0[PbS  
    E1'HdOh&z  
    O!(M:.  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 B#_<?  
    •单击Go！ E}d@0C:  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     |T}Q ~  
    tN=B9bm3j  
    ShdE!q7  
    *1fq:--  
    场追迹仿真 W4Ey]y"  
    C$~2FTx  
    Ap{p_~~iJ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 1o. O]>  
    •单击Go！     fG107{!g=  
    |Fk>NX  
    \s8j*  
    tk@ T-;  
    场追迹结果（摄像机探测器） _h2axXFhT  
     P\B ]><!ep  
    qcSlY&6+  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 0L_ JP9e  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 >TT4;ph  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 g?.ls{H  
    \YE(E04w57  
    }j^asuf~c  
     pPSmSWD?  
    场追迹结果（电磁场探测器） [%M=nJ{8  
    N,9W18 @  
    Fy^=LrH=D  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     {2EIvKu3:  
    E)l0`83~^  
    YL_M=h>P  
    文件信息 V7Z+@e-5  
    );o2e V  
     #"J8]3\F  
    hSQuML   
     E-Nc|A  
    QQ：2987619807 /gWaxR*m  
     
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