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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 uHrb:X!q  
    Ld~4nc$H8  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 i@{*O@m  
    SY8U"Qc;9  
    Gbx";Y8  
    q (1r<2  
    建模任务 ReqE?CeV  
    ~bFdJj 1*  
    yI4DVu.  
    概观 \d$Rd")w  
    500> CBL0O  
    H\f/n`@,G  
    光线追迹仿真 ywe5tU  
    $ %;jk  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 \086O9  
    q@w"yz>  
    •点击Go！ /6smVz@O  
    •获得3D光线追迹结果。 V:QdQ;c  
    PgTDjEo  
     Bf+^O)Ns^  
    K~$35c3M  
    光线追迹仿真 .c|9..Cq=  
    y78z>(jV  
    fvO;lA>`  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 }oV3EIH  
    •单击Go！ <(Tiazg  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     H[Cj7{V  
    @b\/\\{  
    Z@fMU2e=Z  
    rvZXK<@#+  
    场追迹仿真 (J8 (_MF  
    UD`bK a`E  
    + ^n [B  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 V|3}~(5=  
    •单击Go！     F@Qzh  
    ,$ L>  
    MG<kvx~2  
    :B?C~U k  
    场追迹结果（摄像机探测器） t<5 $85Y~  
     xMNUy B{?  
    n}(/>?/  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Coz\fL  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 9fr LYJz"  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 5 s3!{zT{  
    &@CcH_d*  
    555j@  
     $'# hCs  
    场追迹结果（电磁场探测器） 9<BC6M_/  
    4X tIMa28  
    j4h6p(w{  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     JB.f7-  
    RV^ N4q4  
    <4r3ZV;'  
    文件信息 S"+X+Oxp7?  
    a=n* }.  
     /dGpac  
    <y4hK3wP  
     -\=s+n_ZP?  
    QQ：2987619807 WbF[4 x  
     
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