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摘要 u#8J`%g D<rO:Er?*a 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 H<M
ggs- 'oZ/fUl|7 O?8^I< 8 oHyNo 建模任务 \8uPHf_ ];waK2'2 L%8>deE>;D 概观 gY],
(*v 5#zwdoQ n%w36_ 光线追迹仿真 `0rEV_$ rO%
|PRP •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ?-,v0# ,.`";='o •点击Go! "HW~|M7>( •获得3D光线追迹结果。 &0O1tM*v `zHtfox!
5=g{%X "Hmo`E B0 光线追迹仿真 yV:DR t_&FK A rUkiwqr~E •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 .J3lo: •单击Go! ZD1UMB0$4 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 !!ZNemXct$ +/q%29-k hq/k}Y 65RWaz;| 场追迹仿真 -IJt( X| HoGrvt<:.P z2og&|uT •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 8^ ;[c •单击Go! .:c^G[CQ^9 1i9}mzy% G*e/Ft.wf8 6}2vn5 E// 场追迹结果(摄像机探测器) cS,(HLO91 y}ez js Y_S^B)y •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
yowvq4e •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 M cE$=Vv Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 UNq!| `!5ZF@Q>e
L #p-AK G@h6>O 场追迹结果(电磁场探测器) -G]\"ZGi ofl3G
{u -O3^q. •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 +Tde#T&[ \?h +
M[D`)7=b 文件信息 JAen=%2b |vA3+kG
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\]l( QQ:2987619807 x$I~y D
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