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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 >ep<W<b  
    fw jo?  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 () _RLA  
    |(z{)yWbC[  
    eZa*WI=  
    vTO9XHc E  
    建模任务 q2vD)r  
    }q.D)'g_  
    LJGpa )(  
    概观 D4!;*2t  
    6iyl8uL0J  
    i D IY|  
    光线追迹仿真 q()o|V  
    hpF_@n  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 112 WryS  
    Nh.+woFq4  
    •点击Go！ Xb%q9Z  
    •获得3D光线追迹结果。 A-CU%G9  
    cERIj0~  
     z3tx]Ade  
    6DHK&<=D8  
    光线追迹仿真 SH{@yS[c!  
    #c^]p/  
    x|0C0a\"A  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 '^m.vS!/  
    •单击Go！ kg7F8($  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     /:4J  
    )/$J$'mcxd  
    c,~uurVi  
    [Km{6L&  
    场追迹仿真 u?Ffqt9'  
    6VGY4j}:(  
    cAW}a  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 h+Co:pr  
    •单击Go！     UA6id|G  
    Ek)drt7cy  
    +#FqC/`l  
    kXwAw]ogN  
    场追迹结果（摄像机探测器） U#[&(  
     ^5sA*%T4  
    ZbYC3_7w  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 u5oM;#{@-  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 = j1Jl^[  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 %GhI0F #  
    PAYw:/(P  
    ]/=RABi  
     > <YU'>%  
    场追迹结果（电磁场探测器） v76Gwu$ d  
    _re# b?  
    +F8{4^w1  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     o P`l)`  
    6m:$mhA5  
    %10ONe}  
    文件信息 h3?>jE=H  
    $l]:2!R  
     {<,%_pJR  
    A(FnU:  
     }4|EHhG  
    QQ：2987619807 xe!bfzU  
     
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