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摘要 4E0 Y= e.l3xwt>$ 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 9JBVG~m+ sOb=+u$$9 +txHj(Y` ]rMHO 建模任务 h4geoC_W2 ^"!)p2= ^w6~?'} 概观 + )lkHv$R )gPkL
r Qt(4N!j 光线追迹仿真 Zv^n r[W
Ir|r7 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 8Luw<Q sRaTRL2 •点击Go! [\,Jy8t)\ •获得3D光线追迹结果。 6~.{~+Bd RM6*c
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aYrbB# W~Ae&gcn# 光线追迹仿真 ipH'}~=ID ;tG@ 6 S<Od`I •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 1 Q6~O2a •单击Go! nz_1Fu>g| •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 kpLx?zW--q o|bm=&f vH)V\V \I+#M-V 场追迹仿真 }+dDGFk 6!$2nK+ pZV=Co3!I •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 r";;Fk#5 •单击Go! AoFxh o D5$|vv1 ]aI Q1^kU0M } 场追迹结果(摄像机探测器) #Zj3SfU~` -&QTy Z>(K|3_ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ? uu, w •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 'H8;(Rw Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 $c1xh. t*(buAx
$ )orXe| M=#'+CF}W 场追迹结果(电磁场探测器)
Y"UB\_= [/GCy0jk Y@2v/O,\ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 =l+~}/7'Z j:P(,M[
1^AG/w 文件信息 YF68Ax] I'e`?H t
1;"DIsz@d gH:+$FA aU?HIIA QQ:2987619807 |DkK7gw
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