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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 56<LMY|d  
    %aw/Y5  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 9:~,TH  
    &I(|aZx?J  
    Kg]( kP  
    R:.7 c(s  
    建模任务 /@#)j( eY/  
    .j&jf^a5  
    RM<\bZPc  
    概观 iBUf1v  
    aRG[F*BY  
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    光线追迹仿真 RTl7vzG  
    _)Qt,$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 +H<%)Lk J  
    [2\`Wh:%P  
    •点击Go！ T@Q<oNU  
    •获得3D光线追迹结果。 :m$%D]WY  
    W' 2)$e  
     O_iX 1@SW  
    ;%k%AXw  
    光线追迹仿真 4x C0Aw  
    $!vi:+ED  
    15eHddd  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Mvcl9  
    •单击Go！ g<lX Xj2  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     d?{2A84S  
    b5)>h  
    (Iq\+@xE=  
    !<X_XA  
    场追迹仿真 |y=gp  
    WI~%n  
    Ol-'2l  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 &1u ?W%(Px  
    •单击Go！     "Q J-IRt &  
    cXCczqabv  
    RI*%\~6t?  
    mn4;$1~e>H  
    场追迹结果（摄像机探测器） hWW<]qzA,  
     *|3z($*U]  
    'K"*4B^3  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 |$w-}$jq5  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Qp?+_<{  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 bG&qgbN>  
     Uh8ieb  
    iGlZFA  
     :OZhEBL&b  
    场追迹结果（电磁场探测器） ]s S oIT  
    ropiyT9;  
    YOoP]0'L  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     A&7jE:Ew  
    0`thND)?O  
    OlJj|?z $  
    文件信息 >k#aB.6  
    c,fedH;  
     +]zP $5_e  
    ,5?MRqCM  
     `j$d(+Gv  
    QQ：2987619807 syfR5wc  
     
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