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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 4E 0 Y=  
    e.l3xwt>$  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 9JBVG~m+  
    sOb=+u$$9  
    +txHj(Y`  
    ]rM HO  
    建模任务 h4geoC_W2  
    ^"!)p2=  
    ^w6~?'}  
    概观 + )lkHv$R  
    )gPkL r  
    Qt(4N!j  
    光线追迹仿真 Zv^n  
    r[W Ir|r7  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 8Luw< Q  
    sRaTRL2  
    •点击Go！ [\,Jy8t)\  
    •获得3D光线追迹结果。 6 ~.{~+Bd  
    RM6*c .  
     aYrbB#  
    W~Ae&gcn#  
    光线追迹仿真 ipH'}~=ID  
    ;tG@ 6  
    S<Od`I  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 1Q6~O2a  
    •单击Go！ nz_1Fu>g|  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     kpLx?zW--q  
    o|bm=&f  
    vH)V\V  
    \I+#M-V  
    场追迹仿真 }+dDGFk  
    6!$2nK+  
    pZV=Co3!I  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 r";;Fk#5  
    •单击Go！     AoFxho  
    D5$| vv1  
    ]aI   
    Q1^kU0M}  
    场追迹结果（摄像机探测器） #Zj3SfU~`  
     -&QTy  
    Z>(K|3_  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ? uu,w  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 'H8;(Rw  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 $c1xh.  
    t*(buAx  
    $ )orXe|  
     M=#'+CF}W  
    场追迹结果（电磁场探测器） Y"UB\_=  
    [/GCy0jk  
    Y@2v/O,\  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     =l+~}/7'Z  
    j:P(,M[  
    1^AG/w  
    文件信息 YF6 8 Ax]  
    I'e`?H t  
     1;"DIsz@d  
    gH:+$FA  
     aU?HIIA  
    QQ：2987619807 |DkK7gw  
     
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