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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 -X*.scw  
    gy1kb,MO  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 DvN_}h^nX  
    Y&VypZ"G>  
    ldG8hK  
    0$XrtnM  
    建模任务 :wzbD,/M  
    YTgT2w  
    =PU@'OG  
    概观 b5p;)#  
    [)Ia Xa  
    b%VBSNZ  
    光线追迹仿真 ")boY/ P/w  
    WbFCj0  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 v&sp;%I6=  
    9~,!+#  
    •点击Go！ YC{7;=P f  
    •获得3D光线追迹结果。 C _W]3  
    j%vxCs>  
     48gpXcc@|  
    % [,^2s  
    光线追迹仿真 (1,4egMpR  
    N9c#N%cu  
    1^Q!EV  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 TR?jT U  
    •单击Go！ J(~xU0gd'  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     B^1jd!m  
    kSJ:4!lFU  
    LGy!{c  
    M~sP|Ha"+  
    场追迹仿真 LQ$dT#z2A  
    p8y<:8I  
    IxP$ lx  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 (_q&QI0{  
    •单击Go！     QK~>KgVi  
    '?|.#D#-c  
    5o|u!#6  
    V6<Ki  
    场追迹结果（摄像机探测器） QD[l 6  
     Dx3Sf}G `  
    KueI*\ p  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 (w'k\y  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 .Vq_O u  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 I>3G"[t  
    }>Lz\.Z/+[  
    z:$TW{%M  
     /Hc0~D4|x  
    场追迹结果（电磁场探测器） Lj3q?>D*^6  
    \AR3DDm  
    k.0pPl  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     HQ|{!P\/?U  
    5al44[  
    xeHqC9Ou  
    文件信息 Lop=._W  
    s&OwVQ<M  
     Boa?Ghg  
    #lm1"~`5  
     "Zicac@N  
    QQ：2987619807 K[|d7e  
     
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