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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 DksSD  
    %wn|H>  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 [hSE^ m  
    a@$U?=\e  
    7K>FC T  
    Y0fX\6=h  
    建模任务 AD^9?Z  
    Z(Fsk4,  
    e@"1W  
    概观 kKFmTo   
    mk.:V64 >;  
    aRPgo0,W1  
    光线追迹仿真 WW82=2rJ9  
    /{Ksi+q  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 pt.0%3  
    DP**pf%j  
    •点击Go！ n=!]!'h\:  
    •获得3D光线追迹结果。 NPy{ =#k4  
    l&2A]5C  
     (~}IoQp>  
    }UNRe]ft$  
    光线追迹仿真 . #`lW7  
    F!OVx<  
    5m{!Rrb  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 aTF~rAne<  
    •单击Go！ c+chwU0W  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     n:d]Z2b  
    9,wd,,ta  
    ovJ#2_  
    |:Gz9u+  
    场追迹仿真 rKEi1b  
    '0)a|1,  
    {E`[ `Kf  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ?n<b:oO  
    •单击Go！     d7s? c  
    p.^glz>B  
    mpfc2>6Il.  
    C%#=@HC  
    场追迹结果（摄像机探测器） t"Ok-!c|  
     ^*(*tS|M  
    17g\XC@ Cl  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 cr Hd$~q,  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 [mX/]31  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 .v;$sst5y  
    $/^DY&  
    d\&{Ev9v  
     %&m/e?@%I  
    场追迹结果（电磁场探测器） ZYDLl8  
    nI4Kuz`dF  
    @b[{.m U  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     )N h67P3X"  
    :ad  
    W FVx7  
    文件信息 |>o]+V  
    :L gFd  
     .y'iF>QQ\  
    X+zFRL%  
     5|S|S))_Q  
    QQ：2987619807 iq'hel  
     
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