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摘要 56<LMY|d %aw/Y5 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 9: ~,TH &I(|aZx?J Kg](kP R:.7c(s 建模任务 /@#)j(
eY/ .j&jf^a5 RM<\bZPc 概观 iBUf1v aRG[F*BY !d(!1fC 光线追迹仿真 RTl7vzG _)Qt,$ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 +H<%)Lk J [2\`Wh:%P •点击Go! T@Q<oNU •获得3D光线追迹结果。 :m$%D]WY W'
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O_iX1@SW ;%k%AXw 光线追迹仿真 4x C0Aw $!vi:+ED 15eHdd d •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 Mvcl9 •单击Go! g<lX Xj2 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 d?{2A84S b5)>h (Iq\+@xE= !< X_XA 场追迹仿真 |y=gp WI~%n
Ol-'2l •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 &1u?W%(Px •单击Go! "Q
J-IRt& cXCczqabv RI*%\~6t? mn4;$1~e>H 场追迹结果(摄像机探测器) hWW<]qzA, *|3z($*U] 'K"*4B^3 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 |$w-}$jq5 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 Qp?+_<{ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 bG&qgbN> Uh8ieb
iGlZFA :OZhEBL&b 场追迹结果(电磁场探测器) ]s SoIT ropiyT9; YOoP]0'L •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 A&7jE:Ew 0`thND)?O
OlJj|?z$ 文件信息 >k#aB.6 c,fedH;
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QQ:2987619807 syfR5wc
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