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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 lx7]rkWo|a  
    et/v/Hvw1  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Hzz v 6k  
    x.sC015Id  
    OlgM7Vrl  
    !;K zR&  
    建模任务  ijDXh y  
    !="8ok+  
    m ?*h\NaB  
    概观 !Sl_qL  
    &}t8O?!  
    ,YJn=9pTl  
    光线追迹仿真 g@.e%  
    .#Z"Sj  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。  ?<T=g  
    r]U8WM3r  
    •点击Go！ SXC 7LJm<g  
    •获得3D光线追迹结果。 x<7?  
    q7I!wD9Cff  
     /.~zk(-&h  
    nb ?(zDJ8  
    光线追迹仿真 v57<b&p26  
    zRgAmX/g  
    1vS-m x  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 j<R&?*  
    •单击Go！ t*)!BZ  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     fe8hgTP|  
    DS_0p|2  
    a}iP +#;  
    X3~` ~J  
    场追迹仿真 z`p9vlS[  
    aj/+#G2  
    BO8?{~i  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 R7KV @n  
    •单击Go！     +"1-W> HV  
    xSDTO$U8%  
    c^&4m[?C[u  
    C=IN "  
    场追迹结果（摄像机探测器） |9p0"#4u  
     /x4L,UJ= P  
    .gM6m8l9wp  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 C XNYWx  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ,9MNB3  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 qz.l  
    l%p,m [  
    Q#*R({)GH  
     3w"_Onwk  
    场追迹结果（电磁场探测器） ddbQFAQQQ  
    NNwGRoDco  
    F)Z9Qlo  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     6!N2B[9  
    _xy[\X;9  
    )3<>H!yG}  
    文件信息 s%8,'3&  
    gI"cZ h3}  
     IVa6?f6H_  
    Z[0/x.pp$  
     \;!7IIe#  
    QQ：2987619807 LFr$h`_D5  
     
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