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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 2?}5U)Hg  
    Lu.C+zgQ  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 h>:eu#  
    US'rhSV  
    W1!Nq`  
    =>m x>R`S  
    建模任务 N?3BzI%?  
    MXP3Z N'  
    v1`*}.#  
    概观 DkA@KS1Dq  
    xm*6I  
    %+bw2;a6  
    光线追迹仿真 pIhy3@bY  
    \2^_v' >K  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 v?L`aj1ox  
    P 5_ l&  
    •点击Go! oD8X]R, H  
    •获得3D光线追迹结果。  KB5<)[bs  
    "Nh}_jO  
    l\DcXgD x  
    XIRvIwO  
    光线追迹仿真 [rO TWN  
    A>Y#-e;<d  
    zqlgJn  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 L3J .Oh  
    •单击Go! @x[Arx^?}  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    rk)h_zN  
    ~a06x^=j  
    A>B_~=  
    0ME.O +  
    场追迹仿真 XNaiMpp'  
    QT)5-Jy  
    !)//b]  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 wqE+hKs,  
    •单击Go!
    =%ry-n G  
    \2OjIEQQ  
    7\<}378/^  
    >mCS`D8  
    场追迹结果(摄像机探测器) O <#H5/Tq  
    \wb0%> 0  
    "8*5!anu-  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 E%e2$KfD  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 +AkMU|6  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 uD8,E!\  
    E,gpi  
    <c_'(   
    9*CJWS;  
    场追迹结果(电磁场探测器) \agT#tT J  
    lr~c w#h*  
    hMQh?sF/  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    q6AL}9]9  
    ?L(y8b}F(  
    17) `CM$<[  
    文件信息 i7|sVz=  
    *$*V#,V-  
    (>M@Ukam:  
    <wj}y0(  
    Sc,a jT  
    QQ:2987619807 qt,;Yxx#^  
     
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