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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 4t<l9Ilp  
    ^1 P@BRh  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 1X45~  
    1MF0HiC  
    nRL2Z5iO-  
    kl90w  
    建模任务 faJ>,^V#  
    9"TPAywd  
    9}TQ u0  
    概观 lbg^ 2|o~~  
    mn;Wqb/  
    C*f3PB=H_  
    光线追迹仿真 y,OwO4+y\  
    JL7"}^  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 [61T$.  
    \a|bx4M  
    •点击Go！ nG dEJ  
    •获得3D光线追迹结果。 !]v&/  
    EEJsNF  
     ;%V%6:5  
    +l,6}tV9  
    光线追迹仿真 UFED*al#  
    1Z+\>~8  
    4X prVB  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 9j6  
    •单击Go！ Q5N;MpJ-  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     T P5?%SlJ  
    PilV5Gg  
    D#~S< >u@  
    KC`~\sYRN]  
    场追迹仿真 <f'2dT@6  
    Y8fahQ#  
     xlH?J;$  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 %](H?'H  
    •单击Go！     ~D9VjXfL)  
    *Y@)t* -a  
    Dn#GoDMJ[  
    V(Dn!Nz  
    场追迹结果（摄像机探测器） N]k(8K  
     #78P_{#!  
    H(1( H0Kj"  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 oo:(GfO}  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 e0#/3$\aSV  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 %Ny`d49&  
    r:&"#F   
    9_6.%qj&  
     l^F%fIRp)  
    场追迹结果（电磁场探测器） y8{PAH8S  
    J01Y%W  
    l{{wrU`  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     3gn) q>Xj$  
    y,*>+xk,  
    5G\CT&cQR  
    文件信息 a s{^~8B  
    ||lI_B  
     XQ{G)  
    8%$Vj  
     b$24${*'  
    QQ：2987619807 YGA( "<  
     
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