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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 \v{HjqVkC  
    nHF~a?|FT  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 y= 8SD7P'  
    Fwvc+ a  
    >@a7Zzl0H  
    e:N;Jx#  
    建模任务 m9 c`"!  
    P,G :9x"e  
    psiuoYf  
    概观 ]70ZerQ~L  
    oxnI/Z  
    |,H 2ge  
    光线追迹仿真 .Tw:Y,G  
    p7izy$Wc  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 /#t::b+>x  
    #tw_`yh  
    •点击Go！  Bw+ ?MdS  
    •获得3D光线追迹结果。  -V"W  
    jWvi% I qi  
     vwa*'C  
    G%!i="/9  
    光线追迹仿真 nLANWQk9  
    1BP/,d |+  
    U ){4W0  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 [P}mDX  
    •单击Go！ DV>;sCMJ %  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     H_| re  
    dd +lQJ c  
    VH+3o?nrT  
    b53s@7/mq  
    场追迹仿真 w~=xO_%  
    |S<!'rY  
    U(OkTJxv+  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 bkpN`+c  
    •单击Go！     g"c7$  
    n`jG[{3t&  
    NweGK  
    LZ&I<ID`-  
    场追迹结果（摄像机探测器） +n%8*F&  
     NMC0y|G  
    3Tw9Uc\vT  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 X Vo+ <&  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Rz&}e@stl  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ~Dw% d;  
    bJ6H6D>  
    WyM2h  
     3rJ LLYR  
    场追迹结果（电磁场探测器） tWaGCxaE  
    ?s)6 YF  
    Ul 85-p  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     iO18FfM_  
    +9yMtR  
    497l2}0  
    文件信息 @LS%uqs  
    n!Y}D:6c6  
     l0ZK)  
    `fG<iBD  
     +br' 2Pn  
    QQ：2987619807 F8/n;  
     
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