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摘要 2?}5U)Hg Lu.C+zgQ 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 h>:eu# US'rhSV W1!Nq` =>mx>R`S 建模任务 N?3BzI%? MXP3ZN' v1`*}.# 概观 DkA@KS1Dq xm*6I %+bw2;a6 光线追迹仿真 pIhy3@bY \2^_v'
>K •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 v?L`aj1ox P 5_l& •点击Go! oD8X]R,
H •获得3D光线追迹结果。 KB5<)[bs "Nh}_jO
l\DcXgD
x XIRvIwO 光线追迹仿真 [rO TWN A>Y#-e;<d zqlgJn •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 L3J .Oh •单击Go! @x[Arx^?} •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 rk)h_zN ~a06x^=j A>B_~= 0ME.O+ 场追迹仿真 XNaiMpp' QT)5-Jy !)//b] •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 wqE+hKs, •单击Go! =%ry-n G \2OjIEQQ 7\<}378/^ >mCS`D8 场追迹结果(摄像机探测器) O
<#H5/Tq \wb0%>
0 "8*5!anu- •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 E%e2$KfD •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 +AkMU|6 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 uD8,E!\ E,gpi
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9*CJWS; 场追迹结果(电磁场探测器) \agT#tTJ lr~c w#h* hMQh?sF/ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 q6AL}9]9 ?L(y8b}F(
17) `CM$<[ 文件信息 i7|sVz= *$*V#,V-
(>M@Ukam: <wj}y0( Sc,ajT QQ:2987619807 qt,;Yxx#^
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