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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 e E:J  
    {2Jo|z  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 z97RNT|Y7U  
    Z _W.iBF  
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    Vx$ ?)&  
    建模任务 g,Z8I;A^  
    ha+)ZF  
    cKt=_4Lf  
    概观 j4h6p(w{  
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    r:fMd3;gq  
    光线追迹仿真 yf7p,_E/  
    KwO;ICdJ  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 pRyePxCDj)  
    JmL{&  
    •点击Go！ s`Z | A  
    •获得3D光线追迹结果。 6v(?Lr`D  
    D@@J7  
     vz'/]E  
    4e OS+&  
    光线追迹仿真 9yla &XTD  
    i+rh&,  
    L-. +yNX)  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 f@Oi$9CZn  
    •单击Go！ 66ULR&D8  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Sep/N"7~t  
    d)hA'k  
    *K}h >b 1  
    klpYtQ  
    场追迹仿真 +9EG6"..@H  
    H!N`hEEj>  
    NVyel*QE  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 haNi [|  
    •单击Go！     W}^X;f  
    %DOV)Qc2  
    d2'1 6.lV  
    ))M!"*  
    场追迹结果（摄像机探测器） '0ks`a4q  
     z{;~$."  
    mO#62e4C  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 !q]@/<=  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 R3 Zg,YM  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 H5MO3DJ  
    nulLK28q  
    y}aKL(AaU  
     pAdx 6  
    场追迹结果（电磁场探测器） $W_sIS0\z  
    ]*/%5ZOI&  
    Go;fQ yG  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Ec2?'*s   
    ~;)H |R5kV  
    fX:=_c   
    文件信息 )h0 3sv  
    I= '6>+P  
     *WzvPl$e  
    /+ yIcE(&3  
     a+!r5689  
    QQ：2987619807 n?a?U:  
     
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