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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 u#8J`%g  
    D<rO:Er?*a  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 H<M ggs-  
    'oZ/fUl|7  
    O?8^I<  
    8 oHyNo  
    建模任务 \8uPHf_  
    ];waK 2'2  
    L%8>deE>;D  
    概观 gY], (*v  
    5#zwd oQ  
    n% w36_  
    光线追迹仿真 `0rEV _$  
    rO% |PRP  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ?-,v0#  
    ,.` ";='o  
    •点击Go! "HW~|M7>(  
    •获得3D光线追迹结果。 &0O1tM*v  
    `zHtfox!  
    5=g{%X  
    "Hmo`EB0  
    光线追迹仿真 yV :DR  
    t_ &FK A  
    rUkiwqr~E  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 .J3lo:  
    •单击Go! ZD1UMB0$4  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    !!ZNemXct$  
    +/q%29-k  
    hq/k}Y  
    65RWaz;|  
    场追迹仿真 -IJt( X|  
    HoGrvt<:.P  
    z2og&|uT  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 8^;[c  
    •单击Go!
    .:c^G[CQ^9  
    1i9}mzy%  
    G*e/Ft.wf8  
    6}2vn5 E//  
    场追迹结果(摄像机探测器) cS,(HLO91  
    y}ez js  
    Y_S^B)y  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 yowvq4e  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 M cE$=Vv  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 UNq!|  
    `!5 ZF@Q>e  
    L #p-AK  
    G@h6>O  
    场追迹结果(电磁场探测器) -G]\"ZGi  
    ofl3G {u  
    -O3^q.   
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    +Tde#T&[  
    \?h +  
    M[D`)7=b  
    文件信息 JAen= %2b  
    |vA3+kG  
    83:m 7;  
    '@RlKMnN  
    <WtX> \]l(  
    QQ:2987619807 x$I~y D  
     
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