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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 t`) 'LT  
    1V#0\1sj  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 `CPZPp,l6`  
    b8eDD+ulk  
    U`:lAG  
    m2jwqx{G  
    建模任务 3D{82*&  
    58qaA\iw  
    >3<&V{<K  
    概观 "vv$%^  
    |}l@w +N3  
    6-D%)Z(  
    光线追迹仿真 22l|!B%o  
    >+zAWK9  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 IiG4ib>)W  
    niXHK$@5  
    •点击Go！ ^H f+du  
    •获得3D光线追迹结果。 B .{8/.4  
    z?8zFP  
     W ]a7&S  
    Y+|L 3'H  
    光线追迹仿真 n P0Ziu'{  
    \Sz4Gr0g3Z  
    KteZK.+#:  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 #-l!`\@  
    •单击Go！ U@1#!ZZ6  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     %iHyt,0v2  
    Tb>IHoil  
    ,e}mR>i=e  
    ]9bh+  
    场追迹仿真 I8E\'`:<  
    CD XB&%Sr  
    KfJ c  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 pZni,< Q  
    •单击Go！     < P?3GT/  
    I^rZgp<'i  
    }TXp<E"\  
    UXcH";*9b  
    场追迹结果（摄像机探测器） FCS5@l,'<  
     ymzPJ??!  
    A>rWGo.{E  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 NgDZ4&L  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 f(w#LuW<  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 8u7K$Q  
    ,"v)vTt  
    KT]J,b  
     nN(D7wk  
    场追迹结果（电磁场探测器） Q6s5#7h'"  
    E@\d<c.  
    Z7m GC`>  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     y \mutm  
    f4A4  
    YUP%K!k  
    文件信息 b a1$kU  
    4{Yy05PFS  
     oF 1W}DtA  
    UIm[DYMS  
     xPn'yo  
    QQ：2987619807 Lk8W&|;0|  
     
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