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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 .0rh y2  
    M9@ri^x  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 >W`4aA  
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    建模任务 [YT>*BH?  
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    uYil ?H{kH  
    概观 R>"OXFaE  
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    光线追迹仿真 K7Wk6Aw  
    !\L/[:n  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 meks RcF  
    '-b*EZU8t  
    •点击Go！  S"$m]  
    •获得3D光线追迹结果。 !M]\I&  
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    Gz[fG  
    光线追迹仿真 x61U[/r  
    <xC#@OZ  
    ?Cg>h  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 wz.6du6-  
    •单击Go！ y K2^Y]Ku?  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     "=za??\K}  
    ~\3kx]^10  
    @wC5 g 4E  
    3UQ;X**F  
    场追迹仿真 [[Y0  
    {aC!~qR  
    Eb>78k(3I)  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 nn9wdt@.]  
    •单击Go！     ADk8{L{UU  
    r~nsN*t  
    FH%GIi  
    \$OF1i@  
    场追迹结果（摄像机探测器） V-r3-b  
     }~h(w^t  
    ?zJOh^  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 PF7&p~O(Z  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 RxN,^!OV  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 zC:wNz@zK  
    j>/ ,$H  
    `TPOCxM Mo  
     ;h" P{fF   
    场追迹结果（电磁场探测器） [ $T(WGF  
    *(>}Y  
    `VL}.h  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     FwZ>{~?3  
    -TOIc%  
    ^T,Gu-2>  
    文件信息 \ y{Tn@7  
    %-AE]-/HI  
     -}6xoF?  
    g@Qgxsyk>  
     [e4]"v`N  
    QQ：2987619807 3#45m+D  
     
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