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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 B,%Vy!o  
    MdHm%Vx  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 KZm&sk=QM-  
    }E'0vf /  
    fab'\|Y   
    =BJe)!b  
    建模任务 ,,H"?VO  
    g^AQBF  
    ,YYEn^:>  
    概观 GG} %  
    _?{7%(C  
    }A#IBqf5  
    光线追迹仿真 _P>YG<*"kQ  
    "yWw3(V2>  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 @:lM|2:  
    ).T&fa"  
    •点击Go！ 6TtB3;5  
    •获得3D光线追迹结果。 xoaO=7\io  
    @<.@ X*#I  
     ,g*!NK_:5t  
    \br!77  
    光线追迹仿真 &V"oJ}M/a  
    oMh$:jR$  
    ~+q1g[6  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。  bGRt  
    •单击Go！ i?00!t  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     dP5x]'"x  
    ajYe?z  
    gP^2GnjHL8  
    ^ Ltho`  
    场追迹仿真 H;H=8'  
    6{Wo5O{!\  
    -YRIe<}E -  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 I>c,Bo7  
    •单击Go！     u-_r2U  
    s#2t\}/  
    fgLjF,Y  
    )>volP  
    场追迹结果（摄像机探测器） b}e1JPk}!  
     +y7z>Fwl  
    )uPJ? 2S9  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 tne_]+  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 FDHW' OP4  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 96=<phcwN[  
    *$f=`sj  
    Kxe\H'rR  
     Nw;qJ58@  
    场追迹结果（电磁场探测器） .l}Ap7@  
    C2 N+X(  
    {#,<)wFV\  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     /{M<FVXK+|  
    ! 'zd(kv<  
    uuzV,q  
    文件信息 <p@Cx  
    %#6@PQ[R.  
     "wUIsuG/p  
    x4_IUIgh  
     2HbnE&  
    QQ：2987619807 U82a]i0  
     
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