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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 >V4r '9I  
    $4qM\3x0,  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 y]+[o1]-c  
    Ql9>i;AGV  
    +KWO`WR  
    ei"c|/pO  
    建模任务 9c[bhGD?  
    sH'0utD#Y  
    %UhLCyC/  
    概观 e/#6qCE  
    J^S!GG'gb  
    kD7'BP/#  
    光线追迹仿真 TjI&8#AWBA  
    '-Oh$hqCx|  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 W39J)~D^@  
    K\zb+  
    •点击Go！ k8@bQ"#b  
    •获得3D光线追迹结果。 AEDBr<  
    Zg0nsNA   
     .J8 gW  
    9U4[o<G]=  
    光线追迹仿真 )>U"WZ'<  
    Q7{{r&|t&  
    C'{B  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ynZEJKo  
    •单击Go！ S)W?W}*R\  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     h9!4\{V;h  
    +U%epq  
    ]6s/y  
    ,4 q^(  
    场追迹仿真 hJ8% r_  
    eVB43]g  
    F!Cn'*  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 T 1_B0H2  
    •单击Go！     hl] y):  
    o iC@ /  
    y?A*$6  
    +$xw0)|  
    场追迹结果（摄像机探测器） qR_Np5nHF  
     >n(dyU@  
    z`I%3U5(  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 <|]i3_Z  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 XD|Xd|/ {  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 q/Ji}NGm  
    p GF;,h>  
    dmcY]m  
     zAvI f  
    场追迹结果（电磁场探测器） 5w{U/v$Z  
    q?)5yukeF  
    M?Q\ Hw  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     >{-rl@^H:  
    e'c3.sQ|?  
    0NU3% 4?  
    文件信息 mwN "Cu4t  
    L{l}G,j<  
     Ktvs*.?  
    G#@#j]8  
     V pzjh,r-j  
    QQ：2987619807 q[}r e2  
     
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