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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 q/3ziVd7p  
    Xdi:1wW@p  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 0tIS Xu-  
    6K cD&S/  
    N#V.1<Y  
    ,y4I[[  
    建模任务 ?7:KphFX)  
    rrg96WD  
    xX3'bsN  
    概观 EcIE~qs  
    #ywk|k5z]  
    "gd=J_Yw  
    光线追迹仿真 NW~z&8L  
    DU%w1+u  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Ze< K=Q%(i  
    IJTtqo  
    •点击Go！ g&dPd7  
    •获得3D光线追迹结果。 W{z.?$ SH  
    $,I q;*7N  
     4?N8R$  
    )%rg?lI  
    光线追迹仿真 ,Vd\m"K{  
    I8oo~2Q w  
    i'stw6*J  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 JvYPC  
    •单击Go！ >+. ( r]  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     gOgps:  
    |+  N5z  
    Bwr3jV?S  
    HW&%T7 a  
    场追迹仿真 FZreP.2)!  
    b o.(zAz  
    =4GSg1Biy  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 9a'-Y  
    •单击Go！     'mI'dG  
    [m^+,%m5]  
    Vcd.mE(t%  
    Pxn,Qw*  
    场追迹结果（摄像机探测器） MO;X>D=  
     kq\)MQ"/X  
    u3Gjg{-N7  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 !4]9!<.k  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 dr4Z5mw"E  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 zByT$P-  
    kw2T>  
    }b1cLchl  
     Nn>'^KZNG  
    场追迹结果（电磁场探测器） keRE==(D  
    ;lYHQQd!,  
    u!1{Vt87  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     j*xV!DqC  
    bINvqv0v  
    =4d (b ;  
    文件信息 x8GJY~:SW  
    ZiLj=bh  
     );-~j  
    .`?@%{  
     ETs>`#`6o  
    QQ：2987619807 p~LrPWHSTP  
     
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