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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要  M,6AD]  
    L'Wcb =;  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 )qxL@w.  
    dFS+O;zE\  
    @ojn< 7W  
    w.V8-9{  
    建模任务 `9F'mT#o/  
    '7xY ,IY  
    8d>OtDLa  
    概观  k&rl%P  
    &KD m5p  
    ?HBc7$nW  
    光线追迹仿真 ,0 ])]  
    E.BMm/WH  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 N8!B2uPQ  
    O c" 2|X  
    •点击Go！ gfp#G,/B  
    •获得3D光线追迹结果。 cy? EX~s4  
    f:=?"MX7  
     ]6(NeS+  
    Dui<$jl0b  
    光线追迹仿真 \?}ZXKuJj  
    DsP+#PX  
    ]~|zY5i!  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 2R)Y}*VX  
    •单击Go！ z |t0mS$  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     rfK%%-  
    9BF #R<}h  
    J NsK   
    _El=M0  
    场追迹仿真 qUVV374N  
    d_OHQpfK  
    hd '!f  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ;[*7UE+#7  
    •单击Go！     +p_SKk!%+  
    -\r*D#aHBN  
    Ldig/:  
    ?6a:!^eL  
    场追迹结果（摄像机探测器） =b6Q2s,i  
     *O+N4tq  
    7gv kd+-*  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #LcF;1o%o2  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 k%.IIVRx  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 *P9)M%  
    "y62Wo6m)  
    OI1&Z4Lx  
     IV!&jL  
    场追迹结果（电磁场探测器） z m_mLk$4H  
    6\ (\  
    ,%D \  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     8Kv=Zp,?`  
    O.!|;)HQ  
    )=2iGEVW  
    文件信息 >/-<,,<\C  
    /}(w{6C  
     F2lTDuk>C  
    R5|c4v{B  
     J6=*F;x6E  
    QQ：2987619807 ,7<5dIdZ  
     
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