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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 K1oSoD8c  
    [vNaX%o  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 g~v>{F+u  
    ] v8.ym  
    D\LXjEm e.  
    ;3P~eeQR  
    建模任务 Pe`eF(J  
    gY/p\kwsj  
    ?]/"AWUX  
    概观 #[ TOe  
    d# >iFD+  
    C_rA'Hy  
    光线追迹仿真 Js0hlWu  
    $OP w$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 T:|PSJc0  
    0<$t9:dq  
    •点击Go！ wyC1M  
    •获得3D光线追迹结果。 `;v5o4.`  
    B4kJ 7Pdny  
     #bZT&YE^  
    7|Bg--G1  
    光线追迹仿真 0)HZ5^J  
    Y$K[@_dv=  
    Og E<bw  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 L; (J6p]h  
    •单击Go！ 5m\T~[`%  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     h3BDHz,  
    a`E1rK'  
    %VsIg  
    }\oy%]_mY  
    场追迹仿真 xL#UMvZ>;h  
    /xh/M@G3  
    fKkH [  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 svj0;x5  
    •单击Go！     2)^gd  
    p`mNy o'  
    \ QE?.Fx  
    t{g7 :A  
    场追迹结果（摄像机探测器） 90[?)s  
     xwe^_7  
    ;RW0 24  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y-y<gW  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 4PDxmH]y  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 pe@j`Sm:Ej  
    =ec"G2$?"  
    jFPD SR5  
     j" ~gEGfK  
    场追迹结果（电磁场探测器） M.h8Kr!.  
    '@3Kq\/  
    p)y'a+|7  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     E(/M?>t-  
    se ]q~<&  
    ?o883!&v  
    文件信息 5* 3T+OK  
    s!eB8lkcT  
     m{{ 8#@g  
    _X"G(  
     PZE{- TM?W  
    QQ：2987619807 9S! 2r  
     
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