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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 P[8`]=  
    !R[o6V5T  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 OY51~#BF  
    N#6&t8;kTC  
    PD:" SfV,G  
    FoInJ(PDH  
    建模任务 hR[Qdu6r  
    kJlRdt2  
    ,l#V eC  
    概观 x>!#8?-h  
    H^B/ '#mO  
    ,N< xyx.  
    光线追迹仿真 ^E{~{  
    ;I:jd")  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 gK9@-e  
    #Ji&.T^U/  
    •点击Go！ 7 H.2]X  
    •获得3D光线追迹结果。 D5]T.8kX(7  
    elJLTG  
     &f|LjpMCf  
    L@ql)Lc);  
    光线追迹仿真 2J|Wbey  
    p3\F1](Z  
    w6qx  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 @2L+"=u#  
    •单击Go！ 3!Gnc0%c  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     cIw)ScY  
    <FRYt-+  
    bs kG!w  
    k129)79  
    场追迹仿真 GW]Ygf1t  
    # yAt `  
    p4fU/  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 2VrF~+  
    •单击Go！     "/S-+Ufn  
    1Vp['&  
    KWLI7fTgj$  
    lN<vu#  
    场追迹结果（摄像机探测器） DKPX_::  
     X<OwB-N  
    ry*b"SO  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 %S. _3`A  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Z0`Bn5  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 VEkv JX.  
    Ev,>_1#Xm  
    ,?3r-bM  
     ]L"jt8E  
    场追迹结果（电磁场探测器） jav7V"$  
    ==RYf*d  
    }:])1!a  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     f1rP+l-C<  
    }G]6Rip 3  
    U6t>UE6k  
    文件信息 Ovxs+mQ  
    "iMuA  
     9f\Lon4lX  
    `+CRUdr  
     /vYuwaWG=  
    QQ：2987619807 mp*&{[XoVC  
     
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