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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 v`B7[B4K3  
    ['m@RJm+  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 NL))!Pi  
    <#ujm fD  
    |r5|IA  
    bU1UNm`{C  
    建模任务 Bsw5A7,-  
    ;<%~g8:XL  
    NMY~f (x  
    概观 UT$G?D";M  
    5B| iBS l  
    :h1itn  
    光线追迹仿真 `bO+3Y'5  
    '6u;KIG  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 waXA%u50  
    ciI;U/V  
    •点击Go！ z (rQ6  
    •获得3D光线追迹结果。 =kohQ d.n  
    ^r73(8{)  
     4`)B@<  
     Mi.xay%  
    光线追迹仿真 t#oJr2  
    swuW6p  
    yWu80C8 q  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 EP7L5GZ-a  
    •单击Go！ ZVEq{x1Zc  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     SZH,I&8  
    -uN5 DJSW  
    5>4<_-Tm  
    @rkNx@[~  
    场追迹仿真 %v:9_nwO)  
    f&B&!&gZ  
    (4n8[  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 =dUeQ?>t=  
    •单击Go！     hT9fqH  
    L m"a3Nb  
    ^.Vq0Qzy]  
    X'e@(I!0  
    场追迹结果（摄像机探测器） >f4H<V-  
     +mE y7qM  
    He. gl  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 %7pT\8E5  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 +j&4[;8P:  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 zS18Kl  
    XJDp%B  
    cD Z]r@AQ  
     E"&fT!yi  
    场追迹结果（电磁场探测器） wgpu]ooUF&  
    bNp RGhlV  
    |2AK~t|t  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     5Y)*-JY1g  
    0Pu$1Fp  
    {LVii}<  
    文件信息 "zJ1vIZY  
    1XU sr;Wz  
     3|-)]^1O  
    ?SRG;G1  
     w_q{C>- cR  
    QQ：2987619807 d%NO_=I.  
     
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