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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 (+}H ih  
    9[}L=n  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 $(pzh:|  
    ig Fz~  
    !4zSE,1  
    SwHrHj  
    建模任务 1,,kU  
    !v(j#N< m  
    0<"4W:  
    概观 Hq'mv_}qG  
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    E0QrByr_  
    光线追迹仿真 9xL8 ];-  
    0OLE/T<Xv  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Rn6;@Cw  
    KS%LXc('  
    •点击Go！ "w}}q>P+sA  
    •获得3D光线追迹结果。 -_&"Q4FR;+  
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     WK;X6`  
    光线追迹仿真 @ *W)r~ "~  
    gZbC[L  
    le1  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Ax &Z=  
    •单击Go！ R7%' v Zk  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     `)e5pK  
    Ce 3{KGBw  
    feg  
    f5p>oXo4b  
    场追迹仿真 :^~I@)"ov  
    n/$1&x1  
    K,f*}1$qM  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 tKtKW5n~  
    •单击Go！     yH}(0  
    t[$C r;  
    )BI6nU  
    LLp/ SWe  
    场追迹结果（摄像机探测器） GZY8%.1{"a  
     cm`Jr#kl{  
    hKa<9>MI`  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 @'UbTB!  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Q+L;k R  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 CJ+/j=i;~c  
    ^e*Tg&  
    MR$R#  
     ko-|hBNv  
    场追迹结果（电磁场探测器） FKhmg&+>  
    7K"{}:  
    @~t^zI1  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     VRe7Q0  
    (9gL  
    2% ],0,o  
    文件信息 9g %1^$R  
    aMa ICM  
     U$zd3a_(  
    z?T;2/_7  
      UZJ^ e$N  
    QQ：2987619807 $;GH -+  
     
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