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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 K?_4|  
    '|0Dt|$  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 k;p:P ?s5Y  
    >Au]S `  
    (Al.hEs'  
    @WX]K0 $;  
    建模任务 DT #1*&-  
    }Po&6^  
    q P@4KH} e  
    概观 W:uIG-y~  
    slEsSR'J]  
    G3P3  
    光线追迹仿真 4A%O`&eZ  
    w$H=GF?"  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 vrsO]ctI  
    t_ &FK A  
    •点击Go！ }%EQ  
    •获得3D光线追迹结果。 +XU*NAD,!  
    dOq*W<%  
     dL<okw  
    06I'#:]  
    光线追迹仿真 E9 QA<w  
    x%ZjGDFm  
    #.0^;M5Nh  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 8=Di+r  
    •单击Go！ }io9Hk>|  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     hq/k}Y  
    ]*pALT6  
     PA"xb3@I  
    $Q1:>i@I|g  
    场追迹仿真 oUEpzv,J  
    6OMywGI[Z  
    KcVCA    
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 }U'fPYYi8  
    •单击Go！     h\KQ{-Bl  
    &C3J6uCm+  
    )`Tny]M  
    )Y@  
    场追迹结果（摄像机探测器） GVZ/`^ndM  
     in-/  
    G*e/Ft.wf8  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 q@P5c  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 02&mM% #  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 .x$+ 7$G  
    3A]Y=gfa  
    qt+vmi+~  
     J%EbJ5p<QF  
    场追迹结果（电磁场探测器） aT"q}UTK  
    M)6_Ta l  
    %MgQ.  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     R{kZKD=  
    c+#GX)zh\G  
    ~f 2H@#  
    文件信息 V@<tIui$  
    NFPW#-TF  
     O'U0Y8HN  
    L~Epd.,Dt  
     2|(J<H  
    QQ：2987619807 [zIX&fPk$  
     
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