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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 =Bo0Oei  
    3%EwA\V(  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 E=s`$ A  
    HqYaQ~Dth  
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    &<UOi@  
    建模任务 #i2q}/w5`C  
    vMRKs#&8  
    &u=FLp5  
    概观 GUN<ZOYb=  
    v?LJ_>hw*T  
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    光线追迹仿真 a}>GQu*y  
    Q^39Wk@  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 IL%&*B  
    K4R jGSaF  
    •点击Go！ V;:A&  
    •获得3D光线追迹结果。 HKxrBQr78  
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    fZ %ZV  
    光线追迹仿真 IB;y8e,  
    \pPq ]k  
    O0$ijJa|  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 wy -!1wd  
    •单击Go！ lJYv2EZ  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ?5GjH~  
    3K0J6/mc  
    &Y#9~$V=  
    [FCNW0NV  
    场追迹仿真 _%L3?PpF"  
    3=K-+dhk|t  
    DHJnz>bE  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 gTQ6B,`/8  
    •单击Go！     ix/uV)]k`  
    fsmH];"GD  
    jyT(LDsS  
    1)Ag|4  
    场追迹结果（摄像机探测器） LnyA5T  
     d[Fsp7U}  
    q{5Vq_s\  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #M>E{w9  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 =VSieh  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 02+^rqIx5  
    D0]9 -h  
    kN) pi "  
     ]E3g8?L  
    场追迹结果（电磁场探测器） ?nn,RBS-  
    "l@~WE  
    (J;?eeP  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     =1JRu[&]8  
    rLXn35O  
    'qD9k J`  
    文件信息 i'u;"ot=  
    VuR BJ2D  
     :Oj+Tc9A  
    ynd}w G'  
     wb?hfe  
    QQ：2987619807 D|BN_ai9  
     
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