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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 }lT;?|n:h  
    =I@I  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Bv' %$}}-  
    Z# bO}!  
    +jyGRSo  
    44|tCB`  
    建模任务 B?- poB&  
     bLAHVi<.  
    l;L_A@B<  
    概观 :9Jy/7/  
    4^M"V5tDx  
    KIag(!&  
    光线追迹仿真 Lj9RF<39g  
     o?m/  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 !8| }-eFY  
    Z7RBJK7|.  
    •点击Go！ [ ~2imS  
    •获得3D光线追迹结果。 ^gZ,A]  
    A`ajsZ{q,  
     $Ery&rX.  
    ?Ve I lD  
    光线追迹仿真 ;R[3nb9%  
    tiHR&v  
    d]" 4aS  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 qc 5[ e  
    •单击Go！ IA({RE  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     lM{ fld  
    2wHbhW[  
    j)6p>6  
    Xq&BL,lS  
    场追迹仿真 F_jHi0A  
    [!-gb+L  
    y,3ZdY"  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 P <+0sh  
    •单击Go！     _Uq' N0U  
    nGkSS_X  
    T?t/[iuHrj  
    %kjG[C  
    场追迹结果（摄像机探测器） ,0 q1Id  
     MA6 Vy  
    ?! 6Itkg  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 W%-XN   
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 d#H9jg15e  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 E<[ s+iX  
    ]b!n ;{5  
    n]ba1t8ZA  
     HdJ g  
    场追迹结果（电磁场探测器） vjlN@ "  
    '#Au~5  
    IrqM_OjC  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     bIAE?D  
    _y_}/  
    ;*M@LP{*L  
    文件信息 D3X4@sM  
    DfD >hf/  
     7upko9d/  
    : ~vodh  
     v{VF>qE P  
    QQ：2987619807 ~\jP+[>M'  
     
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