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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 U$-FQRM4K  
    aWit^dp  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 KJ-D|N,8@^  
    Sw0~6RZ  
    yyXJ_B  
    6h5*b8LxA  
    建模任务  :&Ul  
    wp@c;gK7  
    [6c{t  
    概观 1e&`m~5K+  
    +x WT)h/  
    63at lq  
    光线追迹仿真 *:_.cbo  
    }e82e  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 7%0PsF _  
    `a<G7  
    •点击Go！ a ZfX |  
    •获得3D光线追迹结果。 WjA)0HL(  
    wK,t q  
     9'T(Fc  
    ]ao]?=q C  
    光线追迹仿真 y<5s)OehG  
    GSMP)8 W  
    H >RGX#|  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 lfCoL@$6D  
    •单击Go！ D,J's(wd  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ny#7iz/  
    7=JiL=  
    &<L+;k~P%  
    z/;NoQ-  
    场追迹仿真 r R."_Z2  
    YH E7`\l  
    ql],Wplg  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ~DCw [y  
    •单击Go！     (=7e~'DC  
    BB~Qs  
    Z EG  
    >WDb89kC=  
    场追迹结果（摄像机探测器） 9 =hA#t.#  
     z<)?8tAgq  
    5<&<61[A  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ; zs4>>^>  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 03# r F@e  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 d]+g3oy `  
    FCOSgEU  
    @1rF9< 4g  
     _< xU"8b"5  
    场追迹结果（电磁场探测器） lQ@ 2s[  
    +8v!vuO'  
    B<+}_3.  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     {GZHD^Ce  
    J#bEAK^L,l  
    HSyohP87  
    文件信息 qA&N6`  
    qc@CV:  
     FJ~Dg3F1  
    5q" ;R$+j  
     ?. CA9!|   
    QQ：2987619807 Z1*y$=D?3[  
     
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