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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 z^+`S:  
    v3b[08 F  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 NGl/F{<  
    $=>(7 =l_  
    aq ~g 54  
    ;DMv?-H  
    建模任务 |aH;@V  
    _%g}d/v}pO  
    Yg 8AMi  
    概观 Qo*,2B9R L  
    ]X:{y&g(  
    Wa#!O$u  
    光线追迹仿真 X#l]%IrW!  
    "NUl7ce.R  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 _dCsYI%  
    Pn)^mt  
    •点击Go！ t;P%&:"@M  
    •获得3D光线追迹结果。 m'Jk!eo  
    Yjv[rH5v  
     }-3| v<d  
    %9z N U  
    光线追迹仿真 sOc<'):TK  
    _pu G?p  
    wGd4:W  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 SHw%u~[hu  
    •单击Go！ ld~8g,  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     :e-&,K  
    eySV -f{  
    hZ0p /Bdv  
    lO482l_t  
    场追迹仿真 yZf+*j/a7  
    xrbDqA.b  
    xPa>-N=*  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 m5HP56a  
    •单击Go！      3nfw:.  
    f =H,BQ  
    NTRw:'  
    Wsb=SM7;  
    场追迹结果（摄像机探测器） 7g(,$5  
     QcyYTg4i  
    po~l8p>  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ZyE2=w7n  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 x)6yWr[ri%  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 g%z?O[CN  
    _vA\j  
    <y${Pkrj  
     RulZh2C  
    场追迹结果（电磁场探测器） 5.J$0wK'6  
    `Q2 `":  
    iqecm]Z0  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Y21,!$4gb  
    vt`hY4  
    .Z=D|&!  
    文件信息 f o])=KM  
    1gp3A  
     7p"" 5hw  
    ]JQk,<l5E  
     wyO@oi Vn  
    QQ：2987619807 Ya] qo]  
     
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