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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 i'.D=o  
    ?op;#/Q(  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 >I-rsw2  
    eeBW~_W  
    B`||4*  
    @t0T+T3  
    建模任务 &8yGV i  
    X,Rl&K\b"  
    X{(?p=]  
    概观 j5og}P q:  
    n^b CrvD  
    V(:wYk?ZR  
    光线追迹仿真 KYwUkuw)  
    i8p$wf"aW  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 o5sw]R5  
    ^Epup$  
    •点击Go！ sSc~q+xz  
    •获得3D光线追迹结果。 R NQq"c\  
    ;<mcvm  
     EZzR"W/  
    5%4yUd#b  
    光线追迹仿真 BsL+9lNue  
    NpCQ4 K  
    on"ENT  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 O}(sn  
    •单击Go！ cM CM>*X  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     cK2;)&U7  
    :_]0 8  
    ,0ilNi>  
    q#I'@Jbj  
    场追迹仿真 G9V2(P  
    @t@B(1T  
    Rkp +}@Y_  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 }_F:]lI*R  
    •单击Go！     iz)r.TJ  
    oO`a{n-  
    23Dld+E&  
    '9zKaL  
    场追迹结果（摄像机探测器） ~kj96w4eAR  
     {:b~^yW  
    /Oi(5?Jn  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ; yE.R[I  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Ihr[44#  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 wnK6jMjkSf  
    ZHUW1:qs  
    J#F HR/zV  
     v=+3AW-|v  
    场追迹结果（电磁场探测器） /hmDeP o}  
    bfEH>pQ>#  
    tN_=&|{WE4  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     AAW] Y#UwW  
    Nd_A8H,&B  
    _~{J."q  
    文件信息 3 {hUp81>  
    ,3c25.,*  
     DU)q]'[u  
    ?.uhp  
     ,fTC}>s4  
    QQ：2987619807 7'65+c[&  
     
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