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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 o(GXv3L  
    +G';no\h  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 F!*u}8/_!  
    {.=089`{  
    3 f=_F  
    ?.d6!vA  
    建模任务 w Q /IT}-  
    n,hl6[OL7  
    #nV F.  
    概观 +eSNwR=  
    qRkY-0vBP  
    :ulOG{z  
    光线追迹仿真 b(JQ>,hX  
    jC3ta  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ol QT r  
    d[mmwgSR?I  
    •点击Go！ U.]5UP:a  
    •获得3D光线追迹结果。 #=mLQSiQ  
    K.s\xA5`_  
     u~WBu|  
    t*H r(|.  
    光线追迹仿真 &[u%ZL  
    ]X y2km]  
    %M8 m 8 )  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 H9}z0VI  
    •单击Go！ `}t<5_  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     {~J'J$hn8  
    to-DXT.  
    YJdM6   
    1t&LNIc|^  
    场追迹仿真 {nvF>  
    'sb&xj`d  
    @r7ekyO8)  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 .S ZZT0Z  
    •单击Go！     Jbv66)0M  
    f793yCiG  
    L'(ei7Z  
    F/gA[Y|,gI  
    场追迹结果（摄像机探测器） 8t)5b.PS  
     ?8AV-rRX  
    |^l17veA@  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 HRQ3v`P.  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 8EbJ5wu/%S  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Y:f"Zx  
    vXA+o)*#/  
    +H"[WZ5  
     $K& #R-  
    场追迹结果（电磁场探测器） fcaUj9qN  
    okwkMd-yW  
    TS2zzYE6Z  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     KHnq%#  
    t`F<lOKj  
    6:\0=k5  
    文件信息 Fsdp"X.  
    K=Q<G:+&V  
     \%],pZsA~  
    =:neGqd\_E  
     %=w@c  
    QQ：2987619807 9):h %o  
     
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