-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-09-29
- 在线时间1866小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 "!R*f $ j6dlAe 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 JYR^k= +TC##}Zmb
7?ILmYBw qV)hCc/ ~ 本用例展示了...... \HL66%b[ •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: L>n^Q:M - 矩形光栅界面 zmhAeblA - 过渡点列表界面 nH}V:C - 锯齿光栅界面 MP
p - 正弦光栅界面 `4,]Mr1b •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 5Y>fVq{U?; n( 9$)B_y 光栅工具箱初始化 ui80}% •初始化 a/n~#5- - 开始 Jow{7@FG 光栅 F8xu&Vk0: 通用光栅光路图 MM*9Q`cB •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, kvN<o-B 可直接选择特定的光路图。 w19OOD R(s[JH(&
{8556> \~ ~m4LL[ 光栅结构设置 ]l}bk] •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 nT7]PhJ
NNBT.k3) •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 %edTW[C` •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 k)zBw(wr AZ
SaI
gZ
us}U c_ u7O
\ •例如,选择第一个界面上的堆栈。 ab[V->>% & j*Ylj} 堆栈编辑器 Gh}* <X;N •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 G+tzp&G@ •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 | Pqs)Mb] r-Oz k$
e 8^%}\F Yc5<Y-W 矩形光栅界面 0R;`)V\^ orFB*{/Z •一种可能的界面是矩形光栅界面。 r;O?`~2'4 •此类界面适用于简单二元结构的配置。 [6?x 6_M •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 F.D6O[pZ •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 q)PSHr=Z •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 iZ0.rcQj'o t&-c?&FO\;
xR;z!Tg) ~Fo`Pr_ 矩形光栅界面 N@"e^i •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 PPh1y;D •所选界面在视图中以红色突出显示。 OkphbAX
(kx>\FIK* •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 !v*#E{r"g= •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 ~]BR(n KF7d`bRe •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 Cyud)BZvm •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 xzRC % •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 eTt{wn;6 nTsPX Tat <JZa w$749jGx
Y3xEFqMU V{{UsEVO 矩形光栅界面参数 z]sQ3"cmX •矩形光栅界面由以下参数定义 k,y#|bf,Y
- 狭缝宽度(绝对或相对) .>'J ^^ - 光栅周期 hG3RZN#ejq - 调制深度 +PO& z!F •可以选择设置横向移位和旋转。 G+iJS!= %Jn5M(myC
U27ja|W^ |h:3BV_ 高级选项和信息 =OR&,xt •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 ;e~K<vMm;y •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 os(}X(
•可以设置总级次数或衰逝波级次数 6uFGq)4p@ (evanescent orders)。 jw]IpGTt •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 }Z`@Z' •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 C,u;l~zz v=H!Y"; ]j(Ld\:L $P&27 •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 z<BwV
/fH} •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 )sapUnqrlR •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 '`p0T%w •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 NO#^_N`#\ wJF$<f7P r3.v ^ q{.~=~ 过渡点列表界面 tQ4{:WPG •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 zyI4E\ •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 Pq(
)2B •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 !i6 aA1' PvdR)ZEm W/;qMP1"- 过渡点列表参数 14\!FCe)! •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 WTh|7& •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 o6
[i0S 5{6ebq55" 0M>%1* *$>$O% •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 Eb9M;u •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 ?Qs>L~ •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 ?r~](l 9$'Edi=6
iAWoKW FkT% -I 高级选项及信息 6_a.`ehtj< •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 %u|qAF2uS 8|,-P=%t
v6?<)M% ^A$~8?f 正弦光栅界面 c[0$8F> •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 %x7l`.)N •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 sw &sF •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: WJL,L[XC - 脊的材料:基板的材料 y/2U:H - 凹槽材料:光栅前面的材料 Afa{f}st ByZ.!~ k
.l,>s`! =U".L 正弦光栅界面参数 Lp*T=]C] - 正弦光栅界面也由以下参数定义: JGD{cr[S •光栅周期 Jq`fD~(7 •调制深度 am05>c9 - 可以选择设置横向移位和旋转。 (;h]'I@ - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 j|(bDa4\ XT_BiZ%l5O Vt4}!b(O ig/716r| 高级选项和信息 $Y0bjS2J •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 A1f]HT 0+:.9*g=k
IJXH_H_%* c\4n 7m,y 高级选项及信息 C 127he •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 k*c:%vC! 1,`x1dcO!A qc'tK6=jp 锯齿光栅界面 +msHQk5#$m •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 |2 wff? •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 <CmsnX •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: 5\Y/s o= - 脊的材料:基板的材料 PewPl0 - 凹槽材料:光栅前面的材料 v|,H d [Iihk5TT
iK%Rq Ft.BfgJ$ 锯齿光栅界面参数 Dfhs@ z •锯齿光栅界面也由以下参数定义: OEwfNZQ- - 光栅周期 S s`0;D1 - 调制深度 M9OFK\) •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 LMG\jc?, •可以选择设置横向移位和旋转。 Yg]f2ke •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 >6DY3\ QT&{M
#Ydn ycAQPz}=I 8rpN2M3h 高级选项和信息 VDmd+bvJV •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。
B-gr2- S~Hj.
d4/ 探测器位置的注释 GyPN)!X@.& 关于探测器位置的注释 _gGy(` •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 L2h+[f •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 z"O-d<U5 •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 M{4_BQ4$ •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 zm .2L •可以避免这些干涉效应的不良影响。 $WPN.,7 pq&c]8H BmJ?VJ}Y 文件信息 9,c>H6R7 YaT07X.(b
q%vUEQLBp n|*V
8VaL &L?Dogo QQ:2987619807 5y'Yosy:
|