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摘要 E1=]m Pl
U!-7 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 QHOem=B u>}k+8~
m8.sHw ^J?I-LG 本用例展示了...... {/N4/gu •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: _&P![o)x - 矩形光栅界面 3eD#[jkAI; - 过渡点列表界面 %c):^;6p - 锯齿光栅界面 'F1NBL - 正弦光栅界面 't]=ps •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 1qtu,yIf nI&Tr_"tm 光栅工具箱初始化 C,.$g>)MZK •初始化 k? X7h2 - 开始 Iq MXd K| 光栅 Ji gc@@B. 通用光栅光路图 -
3kg,=HU; •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, wUab)L 可直接选择特定的光路图。 ^8-CUH\ qlO(z5Ak
*22}b.) J"# o #~ 光栅结构设置 |\J8:b>} •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 UT%^!@u
qhc3 oRe •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 /2 ')u| •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 |}t[-a q<dZy? f
s%GhjWZS CNQ>J`4 •例如,选择第一个界面上的堆栈。 BNL Q] pbt/i+! 堆栈编辑器 va[@XGaC3 •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 "CX&2Xfe •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 :A.dlesv6 Q0s!]Dk
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Fdi Z7lv|m& 矩形光栅界面 D<78Tm
x l.Iov?e1S •一种可能的界面是矩形光栅界面。 e4ym6q<6! •此类界面适用于简单二元结构的配置。 %#7Yr(& •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 XDRw![H,~ •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 kWZ?86! •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 kdcr*7w Us P1bh4
Wz',>&a )*Xd 矩形光栅界面 D-JG0.@ •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 vau0Jn%=ck •所选界面在视图中以红色突出显示。 FwKT_XkY
'7Q5"M'
•此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 R-5EztmLae •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 ] ;"blB 2j*;1 •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 u2}zRC= •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 MZ]#9/ •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 6HeZ<.d& g:V8"' b+7!$ 0Rgo#`7l
WCJ$S\# KElzYZl8 矩形光栅界面参数 csABfxib •矩形光栅界面由以下参数定义 ;iEr+ - 狭缝宽度(绝对或相对) ^FJ.C|l( - 光栅周期 Uskz~~}G - 调制深度 T-S6`^_L •可以选择设置横向移位和旋转。 Y_S>S(0 AT$eTZ]M
!A@Ft}FB vG;)(.: 高级选项和信息 ]N<:6+ •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 <e)5$Aj •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 w=Cqv~ •可以设置总级次数或衰逝波级次数 /1OzX'5f (evanescent orders)。 !5FZxmUup •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 +OM`c7M: •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 $=) i{kGS@ o$disJ "eRf3Q7w: 1T96W :
•高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 p{c+ +P5 •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 %uA\Le •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 uj
6dP •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 &\[3m^L >d1gVBhk x|3f$
=b 3"9'MDKH 过渡点列表界面 'Ll,HgU; •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 h0;PtQb1 •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 +T\c<lJ9 •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 kta`[%KmIZ AC'$~4 7=Vs1TVc 过渡点列表参数 6@N?`6Bt •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 Pi^5LI6JW •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 cU`sA_f &}N=a IG}`~% Z _DlkTi5(w •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 4&TTPcSt; •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 "otks\I< •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 "'M>%m u ze5Hg'f
Y bX3_N& G?`x$U U 高级选项及信息 Hjho!np •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 `/+%mKlC|[ SiBhf3
Y%1J[W zQ[g* 正弦光栅界面 @%8Xa7+ •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 _9@D o6 •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 X[F<sxw •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: jSY&P/[xb - 脊的材料:基板的材料 M@LI(; - 凹槽材料:光栅前面的材料 Z33&FUU @I`X{oAA OIT9.c0h G'*_7HD 正弦光栅界面参数 H[K(Tt4<& - 正弦光栅界面也由以下参数定义: z%
ln} •光栅周期 d~lB4 •调制深度 Z @:5vo - 可以选择设置横向移位和旋转。 IYJS>G%* - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 Yn0l}=, n bC[TLsh7{2 \dIc_6/D1 Y+ZQN> 高级选项和信息 #1>DV@^F •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 UIpW#t :j sa.X
%]~XbO ,d^ze = 高级选项及信息 a,B2;4" •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 i{['18Q$F3 .kv/db 2!6+>nvO 锯齿光栅界面 X)-9u 8 •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 ~j1.;WId[ •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 bzI!;P1& •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: qN hV zx - 脊的材料:基板的材料 &) '5_#S - 凹槽材料:光栅前面的材料 jGM+ t>W^^'=E
XDtr{r6z lkj^<%N"r 锯齿光栅界面参数 NT qtr=" •锯齿光栅界面也由以下参数定义: ^qs{Cf$ - 光栅周期 M"q]jeaM - 调制深度 rZ.,\ X_ •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 fxW,S •可以选择设置横向移位和旋转。 FQV]/ •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 6usy0g
D ^uU'Qc4S= /EJwO3MW _h@s)" 高级选项和信息 sd (I@
&y •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 fS( )F*J uO4kCK<7C 探测器位置的注释 'f+g`t? 关于探测器位置的注释 -3YsrcJi •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 ?q}XDc
•如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 iQrTEp •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 c*O{?b •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 &4aY5y`8+f •可以避免这些干涉效应的不良影响。 (-lu#hJ`&r n+5X*~D z8#c!h<@; 文件信息 3
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1wx&/#a TEgmE9^`)7 ?[[K6v}q{ QQ:2987619807 @J[l^o9
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