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摘要 %(uYYr
6 R_4eME2LB 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 K7 J RCLA Sl;[9l2
e=cb% 0h=}BCb+i 本用例展示了...... r4isn^g •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: }@y(-7t - 矩形光栅界面 `SH14A* - 过渡点列表界面 :`>$B?x+ - 锯齿光栅界面 YYN'LF#j - 正弦光栅界面
mo?*nO|- •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 b9xvLR8 kR+7JUq] 光栅工具箱初始化 QZm7
Q4 •初始化 9Q.@RO$%C - 开始 45,): U5 光栅 Op'&c0l 通用光栅光路图 5|jsv)M+ •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, >T#" Im- 可直接选择特定的光路图。 M
ZAz= )- _f1;Hhoa
h+ms%tNT *mJ\Tzc) 光栅结构设置 #z1/VZ •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 ;u-[%(00S
Dr)jB*yK •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 h"y~!NWn •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 A>ve|us$ GBl[s,g[|
SHYbQF2 T)I\?hqTB •例如,选择第一个界面上的堆栈。 xHD$0eq ]6
HR 堆栈编辑器 SajG67 •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 |vw],r6 •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 DDq?4 S,s#D9NU
#tIeI6Qw ? *v*fs0 矩形光栅界面 1=h5Z3/fj 1l'JoU.<
•一种可能的界面是矩形光栅界面。 v5 @9 •此类界面适用于简单二元结构的配置。 =axuL P)) •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 drxCjuz" •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 6M
;lD5(> •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 D/VEl{ba- Hr7?#ZX;e
lNsdbyV' ifNyVEHy 矩形光栅界面 T/.U Mw •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 =A*a9c2
•所选界面在视图中以红色突出显示。 g t9(5p
&lgzNC9g% •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 A>8~deZ9 •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 BCuoFw) 3B='f"G •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 sYfm]Faz •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 MGf *+!y, •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 rvU^W+d l^^Z}3^Rk tLU@&NY` Eyz.^)r
ff7#LeB9 ^s#+`Y05/ 矩形光栅界面参数 gnkeJ}K •矩形光栅界面由以下参数定义 { P,hH~! - 狭缝宽度(绝对或相对) F!phTu - 光栅周期 NJSbS<O - 调制深度 bIlNA )g •可以选择设置横向移位和旋转。 p>i8aN pN)x,<M)
=''WA:,=h T`MM<+^G 高级选项和信息
F3K<-JK+ •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 #jzF6j%G •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 k<P` •可以设置总级次数或衰逝波级次数 lo1bj *Y2 (evanescent orders)。 ~]#-S20 •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 ?A3u2- •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 OSfT\8YA _BY+Tfol "]uPke@ Zoc4@%
n •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 %6%mf>Guf •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 _VRxI4q •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 nW^h
+ •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 4:S]n19nq AE+BrN
+"2 )hl7)~S< n.qT7d( 过渡点列表界面 %[5GG d5w •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 0%<
hj •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 + kT ]qH •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 ^>F[aT P
4t@BwU$ :<bhQY 过渡点列表参数 X(eW+,H •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 9a=>gEF],@ •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 7G^Q2w |pv$],&&: SD :D8"8 d/jP2uuA •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 S9r?= K •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 i}zz!dJTE •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 ~c<8;,cjYR )XavhS~Ff
zCQP9oK! 343d`FRa} 高级选项及信息 $OdBuJA •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 =R'O5J {J
izCUo_'
fz`)CWo: 9Q}g
Vqn 正弦光栅界面 q4Wr$T$gs= •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 hrq% { !Z •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 yyljyE •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: FG[rH] - 脊的材料:基板的材料 i0$*):b - 凹槽材料:光栅前面的材料 O1c:X7lHc 1P[x.t# zG<<MR/< yc~<h/}# 正弦光栅界面参数 B~ i - 正弦光栅界面也由以下参数定义: /+JnEFf •光栅周期 xSd&xwP •调制深度 k9OGnCW\ - 可以选择设置横向移位和旋转。 RZV6;=/ - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 d1\nMm}v G 3,v'D5 {icTfPR4E GW'v\O 高级选项和信息
5N$XY@ •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 X*@ tp,t oRSA&hSs
Ms,MXJtH 18sc|t 高级选项及信息 eGq7+ •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 yD7} ap )B%9 "lw|EpQk` 锯齿光栅界面 )Ln".Bu, •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 F/BR#J1 •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 O#ZZ PJ" •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: X>=`l)ZR - 脊的材料:基板的材料 lTqlQ<`V - 凹槽材料:光栅前面的材料 .gDq+~r8O M)+p H
uOLShNo 9/{ zS3h3 锯齿光栅界面参数 >":xnX# •锯齿光栅界面也由以下参数定义: |EX=Rj* - 光栅周期 Zf@B<
m - 调制深度 =oSd M2 •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 /m"/#; ^l •可以选择设置横向移位和旋转。 N$]er'` •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 aqI"4v]~b T8z?_ *k w'(/dr /9G72AD! 高级选项和信息 !Yb !Au[ •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 ? /z[Jx. ?$109wZ:9 探测器位置的注释 \OVtvJV] 关于探测器位置的注释 R\3a Sx L •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 tj@(0}pi4 •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 0dC5
-/+ •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 YP_L~zZ •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 PmE)FthdP( •可以避免这些干涉效应的不良影响。 vlbZ5 )/::i
O&$: #mu L-V 文件信息 :Fb>=e lfcGi3
43AzNXWF8 Y)X7*iTi'j @Uez2? QQ:2987619807 Yn}Gj'
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