-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-06-17
- 在线时间1784小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 T5@t_D>8 F 0m[ls$ 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法（FMM）以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中，可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的，并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中，介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 CE183l \ 8}z PDs
 L7II>^"B R]kH$0` 本用例展示了...... ?`*`A9@ •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如： 4pDZ +}p - 矩形光栅界面 !/F-EJOH6C - 过渡点列表界面 \ }-v - 锯齿光栅界面 G4F~V' t - 正弦光栅界面 r|jBKq~ •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 ;r;>4+zn\ Yk4ah$}%-^ 光栅工具箱初始化 RXPl~]k#i •初始化 Xp^>SSt:4 - 开始 +'e3YF+' 光栅 'u [cT$ 通用光栅光路图 d{^ K8T3 •注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状， a 0FU[*q 可直接选择特定的光路图。 lKirc2 a
8jG')zg
 F fzY3r+
{-IRX)m* 光栅结构设置 qyzeAK\Ia •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和材料。 zpc m`z
(+ \K •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。 [yAR%]i-7 •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 }>Lz\.Z/+[
3'Z+PPd!
 el0W0T
1 pzd •例如，选择第一个界面上的堆栈。 aG1[85:,\i =1kjKE ! 堆栈编辑器 \?\q0o<V$ •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。 LZ9IE>sj •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 cW $~86u"C
s@3<]
 VM
ny>g&3
rNHV 矩形光栅界面 pQx i0/d p 01^W Py9l •一种可能的界面是矩形光栅界面。 hmd, g>J:< •此类界面适用于简单二元结构的配置。 2TC7${^9}J •在此示例中，由银制成的光栅位于玻璃基板上。 "V_PWEi •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。 Neb%D8/Kn •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。 (aH_K07
2|^bDg;W+u
 8<ri "m, DU4Prjb' 矩形光栅界面 cXokq •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。 ph1veD<ZZ •所选界面在视图中以红色突出显示。 `S7${0e
 *SZ*S %oS3 •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。 4B8{\ "6 •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。 hE/y"SP3  A&0sD}I\K •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。 <tTn$<b •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。
v4< x 4 •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。 ~ #~Kxh ,Gd8 <  J_mpI.^Bsf
_zO, VL
 =l3* { ?G BT+ws@|[ 矩形光栅界面参数 WYE[H 9x1? •矩形光栅界面由以下参数定义 yz2NB?) - 狭缝宽度（绝对或相对） M+^+u 1QQ0 - 光栅周期 *K\/5Fzl - 调制深度 7<?v!vQ}- •可以选择设置横向移位和旋转。 IV:Knh+
?
T3{qn$t8
 [H)p#x
T[eTT]Z{Ia 高级选项和信息 nyPA`)5F0 •在传播菜单中，有几个高级选项可用。 NLF{W|X •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 an<tupi[E •可以设置总级次数或衰逝波级次数 o*QhoDjc （evanescent orders）。 $y > J= •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。 TO)wjF_ •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。 ! /$BXUrd aX1|& erI  rC<m6 +B '9!t4 2 •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 i@_|18F]` •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 YKU s>tQ! •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 ]}G (@9 •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 crC];LMl/
U]ouBG8/  @v2kAOw[ eA_ 1?j]E3 过渡点列表界面 9!FV. yp%F •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 diqG8KaK •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 q@u$I'`Bs •同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 +] |J  jvm
"7)h / )y~%0 过渡点列表参数 +2W#= G •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 e v?Hz8Q;( •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。 WohK,<Or )WEyB~'o  "mT~_BsD TiF$',WMv •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。 m&|?mTo>m •此处，可以定义x方向和y方向的周期。 5'>(|7~%\ •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 6 576RT '(u [
 9}2I'7] 0/ (YH 高级选项及信息 haa [ob6T •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 X'[S Cs }(TZ}* d
 Yq)
wE|k/
94|BSxc 正弦光栅界面 tp*AA@~ •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。
h+ELtf •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 )X| uOg&| •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： ~"}-cl, - 脊的材料：基板的材料 `t ZvIy* - 凹槽材料：光栅前面的材料 ycCEXu2F >48zRi\N 
b9w9M&?fT XF{}St~ ( 正弦光栅界面参数 XRj<2U 5 - 正弦光栅界面也由以下参数定义： "vjz $. •光栅周期 tq>QZEg •调制深度 aCFO ] - 可以选择设置横向移位和旋转。 i u&'v - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。 <tgJ-rn L P7"g/j" "  |{Z?a^- NJ &HZ"<y {j 高级选项和信息 V!3O
1 •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 \nPa>2r
)>$xbo")k
 LYavth`@h 0rA&_K[#-< 高级选项及信息 w]F (o •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。 H`aqpa"C + lU:I  z+NXD4 锯齿光栅界面 ~ N_\V •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 m_Z%[@L •此界面允许配置闪耀结构的光栅。
JTQ$p*2] •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： Y*B}^!k6 - 脊的材料：基板的材料 [L]
ca* - 凹槽材料：光栅前面的材料 a` 95eL} EM; ]dLh
 2\lUaC#E X]tjT 锯齿光栅界面参数 kOx2P(UAEx •锯齿光栅界面也由以下参数定义： 4=>/x90y - 光栅周期 X9#Od9cNaC - 调制深度 @q],pD •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 dBX%/ •可以选择设置横向移位和旋转。 9eH(FB •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。 $^y6>@~
UP 75}h9  ,c Y U X'IW &^kI 高级选项和信息 0^5SL/2 •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 \ :1MM  N3TkRJZ 探测器位置的注释 8BhLO.( <O 关于探测器位置的注释 Pj8s;#~u •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。 C5\bnk{ •如果光栅包含在复杂的光学装置中，则必须这样做。 uqno E;57^ •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。 RN]4 Is: •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估软件）。 M a: xxsH. •可以避免这些干涉效应的不良影响。 0:@:cz=#*  _h MMm6a| ABSA le
文件信息 2N9
BI-a Gyw@+(l
 "$;=8O5O `
C dk
b5
kb F r QQ：2987619807 fF;Oz"I{\
|
