-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-11-17
- 在线时间1888小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 l(@UpV- x\Bl^1& 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法（FMM）以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中，可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的，并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中，介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 : Y U_ \EV COa" z g
 q]Cmaf ( V\"x#uB 本用例展示了...... &!#a^d+` 0 •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如： +tNu8M@xFo - 矩形光栅界面 %klC&
_g~_ - 过渡点列表界面 ]N^a/&} * - 锯齿光栅界面 nxP>IfSA - 正弦光栅界面 / ,z4tf •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 ^6 F-H( `2y2Bk 光栅工具箱初始化 <3iL 5} •初始化 MkG3TODfHB - 开始 PG8|w[V1 " 光栅 l Ud/^u` 通用光栅光路图 'dp3 >4
•注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状， Lc!%
3,#. 可直接选择特定的光路图。 vJT
%ET c@% :aiEl
 S$Tc\ /{ h+Dp <b 光栅结构设置 ++Qg5FukR •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和材料。 [ 44d(P'
 ika/ GG •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。 jiMI&c l •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 18 pi3i[
y-g Sal
 *wcb 5p
EM+#h'%- •例如，选择第一个界面上的堆栈。 "k (Ee /o v&h; 堆栈编辑器 w%&lCu@v •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。 UUGwXq96i •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 pmR6(/B# A>8uLO G}
 ~{hcJ:bI
/pZ]:.A 矩形光栅界面 b/:&iG; ^b=9{.5 •一种可能的界面是矩形光栅界面。 c8I :
jDk: •此类界面适用于简单二元结构的配置。 | -l)$i@ •在此示例中，由银制成的光栅位于玻璃基板上。 ,r T62w*e •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。 M/XxiF •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。 vq|o}6Et
$bRakF1'S
 3>Ts7
wM B>}=x4- 8 矩形光栅界面 ;ZMm6o •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。 :<l( l\MC •所选界面在视图中以红色突出显示。 47b=>D8
 _ ,Wb`P •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。 Z&gM7Zo8 •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。 y -j3d)T  G j[`r •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。 kGsd3 t! ' •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 S3rN]!B+ •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。 i#o:V/Z . ^W|B Xxo  ?YzOA$ {
8C1 ' g7A<
 pJ Iq`)p5 G j^J pG 矩形光栅界面参数 !iBe /yb •矩形光栅界面由以下参数定义 x#ub % t - 狭缝宽度（绝对或相对） Fdsaf[3[v - 光栅周期 BFP (2j - 调制深度 t .*z)N •可以选择设置横向移位和旋转。 Ff xf!zS
=~M%zdIXv
 cn1 UFmT
x _&=IyU0j 高级选项和信息 rxZ%vzVQ> •在传播菜单中，有几个高级选项可用。 $\BRX\6(- •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 UX3
]cr •可以设置总级次数或衰逝波级次数 k*)O]M<, （evanescent orders）。 es}j6A1 •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。
"L yMw){ •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。 }Tji YA. 7#K%Bo2pG  i;4|UeUl "J|_1! 9 •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 WqX#T •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 aChyl;#E •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 am >X 7 •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 8YNii-pl
CG!/Lbd  i[obQx S94 gd~# uR\ 过渡点列表界面 F/c7^ •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 KLqn`m`O; •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 1<Fh
aK •同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 QJ{to%  .kO!8Q-;% kkfwICBI 过渡点列表参数 ^+Ho#] •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 29P vPR6 •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。 n{oRmw- '\yp}r'u  | BrD:+ d5?"G Fy •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。 uYW9kw> $ •此处，可以定义x方向和y方向的周期。 #$trC)? ~q •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 @@ $%+XNY @.T
w*t
 JN;92|x DoV<p?U 高级选项及信息 7gIK+1` •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 6n9;t\'Gt P $4h_dw
 pyPS5vWG
qkX}pQkG)h 正弦光栅界面 OE,uw2uaT •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 a|B^% •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 e jY|o
Bj •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： Vg1!
u+`< - 脊的材料：基板的材料 AEx|<E0 - 凹槽材料：光栅前面的材料 PVBf' C4 V#qhj  hR;J#w ['F, 正弦光栅界面参数 7/c[ f - 正弦光栅界面也由以下参数定义： /rRQ*m_ •光栅周期 /($!("b •调制深度 o* q F"xG - 可以选择设置横向移位和旋转。 \VW&z:/*pZ - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。 p)M\q fZ VKa-  fn eg[K XxT7 YCi 高级选项和信息 m#[tY >Q[b •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 79J@`
"z+Z8l1.
 IbRy~ Pw4j?pv2 高级选项及信息 p^_E7k<a g •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。 mPHn &4 t
>89(
k  Up|\&2_ 锯齿光栅界面 *,9.Bx* •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 Ln;jB&t •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 <&' Y e[k •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： T7W*S-IW - 脊的材料：基板的材料 ns.[PJ"8 - 凹槽材料：光栅前面的材料 1k @k2rE &JoMrc EZ
 )N
QtjB$ a7G0 锯齿光栅界面参数 dvUBuY ^[ •锯齿光栅界面也由以下参数定义： q?C)5( - 光栅周期 #UREFwSL - 调制深度 W'{q •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 M,[u}Rf^w •可以选择设置横向移位和旋转。 Y =3:Q%X •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。 :=#*[H
eK"B .q7  uNLB3Rdy} 06bl$% 高级选项和信息 fT i,S)F' •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 !M~p __  {aq\sf;i{ 探测器位置的注释 sV7dgvVd 关于探测器位置的注释 ]rM{\En •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。 Y^gK^ ?K •如果光栅包含在复杂的光学装置中，则必须这样做。 =+gp~RR, •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。 .kM74X=S •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估软件）。 u!2.[CV •可以避免这些干涉效应的不良影响。 q>&F%;q1]  pj,.RcH@o P9J3Ii!
文件信息 !l'Az3'J| [|{yr
 5Ah-aDBj Yt*M|0bL
zY8"\ZB QQ：2987619807 uK]@! gz
|
