主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: tzGQo5\ • 定义MMI耦合器的材料; EFh^C.S8 • 定义布局设定; av|T|J/( • 创建一个MMI耦合器; _.V5-iN • 插入输入面; xatq • 运行模拟; O!f37n-TB • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 UCfouQ Cj *8?2+)5" 1. 定义MMI耦合器的材料 M.}J SDt 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: .\ fpjQW 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ p|A ?F0 >.`*KQdan 图1.初始性能对话框
K;sC#9m 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” gMF6f% `14@dk
图2.轮廓设计窗口
{\0V$#q 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 ud5}jyJ
CZu=/8?
6A]I" E]5 图3.电介质材料创建窗口
gFHBIN;u 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: YCltS!k − Name : Guide 4xbWDu] − Refractive Index (Re) : 3.3 n:/!{. − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
d9k` >wmHCOL: 图4.创建Guide材料
6JZ>&HA 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: eg}g}a − Name : Cladding FsWp>}o − Refractive Index (Re) : 3.27 Gkem _Z − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 '%ilF1# ]goJ- & 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 ydO+=R0M
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: p:y\{k" − Name : Guide_Channel C/Z#NP~ * − 2D profile definition: Guide QCZ88\jX[ − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 3\j`g /KOI%x 图6.构建通道
2. 定义布局设定 P}5bSQ( a3
为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: fb `x1Q
1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 d%qi~koN_
− Width:2.8 <Qih&P9;>
注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 6}I X{nQI
− Profile:Channel-Guide KqJln)7
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
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!nkIXgWz
2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签: Uvm.|p_V
− Length:5300 L5`k3ap|
− Width:60 >JE+g[$@
图8.设置晶圆尺寸
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3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签: uCB9;+ Hjw
− Material:Cladding E-C]<{`O
− 点击OK以激活布局窗口 B3&C&o.h
图9.晶圆材料设置
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pu/5#[MC)^
4) 布局窗口 +&VY6(Zj+*
图10.默认情况下布局窗口显示
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{Dl@/fz
5) 调整显示比率,以便更好进行波导结构布局设置: i4i9EvWp
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 (c)/&~aE
− Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示 Ds"%=
− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示 :
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图11.调整Z方向和X方向的显示比率 &v((tZ
图12.最终布局显示
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iZfZF
3. 创建一个MMI耦合器 vb>F)po1}
为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作: QK6_dIvDz
1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导 q&>fKS nKs
2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导 /}E2Rr?{
图13 .绘制第一个线性波动
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QQ:2987619807
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