主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: pUki!TA • 定义MMI耦合器的材料; ?I&ha-." • 定义布局设定; <_-&{Pv • 创建一个MMI耦合器; l;zp f|.Vc • 插入输入面; }2-<}m9} • 运行模拟; m{Jo'*%8f • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 dHc38zp I^sWf3'db 1. 定义MMI耦合器的材料 |\"vHt?@G 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: 3Vj uk7 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ $8h^R# +,<\LIP 图1.初始性能对话框
t QkEJ
pj 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” q3Re
F_ :Jwc'y-] 图2.轮廓设计窗口
q/~U[.C 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 ik02Q,J
N#'+p5|> Y ::\;s 图3.电介质材料创建窗口
YP{)jAK 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: 5"Q3,4f − Name : Guide j|!.K|9B − Refractive Index (Re) : 3.3 2GQq(_ − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 b;K>Q!(| j$<uE{c 图4.创建Guide材料
\)859x&( 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: L+2!Sc,> − Name : Cladding 0o2o]{rM{2 − Refractive Index (Re) : 3.27 =SPuOy8 − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 8`}(N^=} ei'=%r8~ 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 R[ p. )F7
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: 0 ;kcSz − Name : Guide_Channel ;mH1J'.(a − 2D profile definition: Guide G4->7n N − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 K}ACZT)Wp 6T{Zee 图6.构建通道
2. 定义布局设定 x
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为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: s.+2[R1HF
1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 f)hs>F
− Width:2.8 {Buoo~
注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 ^! /7
− Profile:Channel-Guide MVHj?
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
c\~H_ ~F
}LQ*vD-Jj
2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签: 4qo4g+
− Length:5300 Dgh|,LqUB
− Width:60 ?P4@U9i
图8.设置晶圆尺寸
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rhY>aj
3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签: Gb+cT
− Material:Cladding GczGW4\P'
− 点击OK以激活布局窗口 Ai\"w 0
图9.晶圆材料设置
2Cn^<(F^4I
JG&`l{c9
4) 布局窗口 yO.3~H)c
图10.默认情况下布局窗口显示
o<P@:}K
Ao)hb4ex
5) 调整显示比率,以便更好进行波导结构布局设置: /=Bz[O
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 k^AI7H
− Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示 S W(h%`U
− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示 (;YO]U4
图11.调整Z方向和X方向的显示比率 w#[Ul9=?6
图12.最终布局显示
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Xm`s=5%
3. 创建一个MMI耦合器 %98F>wl
为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作: 6dTq&GZ\
1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导 {H s""/sb
2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导 _.0c~\VA
图13 .绘制第一个线性波动
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QQ:2987619807
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