主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: [sJ f)< • 定义MMI耦合器的材料; $Kgw6 • 定义布局设定; \U $'3M • 创建一个MMI耦合器; A g=>F5 • 插入输入面; _<pSCR0 • 运行模拟; GJN"43 • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 (c;F%m| cM%I5F+n 1. 定义MMI耦合器的材料 v3!oY t:l 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: |}N -5U 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ vgY )
L |}s)Wo 图1.初始性能对话框
dPplZ,Y% 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” 0`%eP5 :VpRpj4f 图2.轮廓设计窗口
_u TaN 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 Z .6M~
5/Viz`hsz
d-Vttxa6 图3.电介质材料创建窗口
,:POo^!/fT 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: )90 Q − Name : Guide ~<
%%n'xmm − Refractive Index (Re) : 3.3 @9_H4V − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 A+P9M \u. _'DT)%K 图4.创建Guide材料
_N!L?b83P 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: JDPn
− Name : Cladding )H@"S]?7i" − Refractive Index (Re) : 3.27 )D'SfNx#{ − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 FOJ-?s( %(lr.9.]H 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 dsck:e5agZ
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: 3cfJ(%'X − Name : Guide_Channel PyQt8Qlz − 2D profile definition: Guide vN#?>aL − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 w#|uR^~ iUDN m|e 图6.构建通道
2. 定义布局设定 _9 yb5_
为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: t;005]'Mp
1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 O[%"zO"S
− Width:2.8 cmG*"
注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 ,z<J`n
− Profile:Channel-Guide LsaE-l
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
}-YM>q
;
kPx@C
2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签: {wsO8LX
− Length:5300 b(^/WCykH
− Width:60 +tO mKY
图8.设置晶圆尺寸
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Bgb~ Tz'
3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签: a#3+PB#
− Material:Cladding &b :u~puM
− 点击OK以激活布局窗口 @yc/1u$r
图9.晶圆材料设置
"&h{+DHS
'-9B`O,&
4) 布局窗口 [+,%T;d;
图10.默认情况下布局窗口显示
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dH]0(aJ
5) 调整显示比率,以便更好进行波导结构布局设置: U\OfB'Dn
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 ]b5E_/P
− Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示 ."`mh&+`
− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示 l Tpn/
图11.调整Z方向和X方向的显示比率 GD(gm,,)
图12.最终布局显示
q!UN<+k\h
K]c|v
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3. 创建一个MMI耦合器 RRSkXDU}
为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作: m~7[fgN2
1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导 HC1jN8WDY
2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导 \
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图13 .绘制第一个线性波动
LPuc&8lGWf
QQ:2987619807
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